电感耦合线圈及应用该线圈的电感耦合等离子体装置

摘要

本发明公开了一种电感耦合线圈及应用该线圈的电感耦合等离子体装置，包括内绕组、外绕组，内绕组与外绕组之间的相对位置可以调节。内绕组和外绕组分别固定在内绕组支架和外绕组支架上，内绕组支架和外绕组支架设置在反应室上部，外绕组支架上固定有齿条，反应室的壁上设有齿轮，齿轮与齿条啮合。使内绕组与外绕组之间的相对位置可以调节，可以通过调节内绕组与外绕组之间的相对位置来调节反应室内等离子体的密度，使等离子体在反应室的晶片上方分布均匀，能有效调节刻蚀速率的均匀性，提高刻蚀晶片的质量。本发明主要用于半导体晶片加工设备，也适用于其它类似的设备。