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实现井下低压气体掺混的两相射流掺混装置及掺混方法

摘要

本发明提出一种实现井下低压气体掺混的两相射流掺混装置及掺混方法,其中掺混装置包括依次连通的输水泵站、高压水管路、文丘里型管路和气液两相出水管路,文丘里型管路连通有压风管路。本发明可以实现在不借助高压气泵站、高压气罐的基础上在井下应用高压气液两相射流技术,大大降低了井下的能耗与高压气体的危险性。通过电磁阀开关的数量,可以控制进气量的多少,进而得到不同含气率的气液两相流,为不同现场的条件提供选择。本发明提出的两相射流掺混装置,结构简单,安装方便,不仅可以显著降低气体的掺混压力,减少能耗,同时可以实现井下高压气液两相射流的现场应用,这对于煤层增透具有巨大的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN114272777B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023.03.28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 煤炭科学技术研究院有限公司;

    申请/专利号CN202111387119.5

  • 申请日2021.11.22

  • 分类号B01F23/232;B01F25/312;B01F35/21;B01F35/83;E21B43/00;

  • 代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人单冠飞

  • 地址 100013 北京市朝阳区和平街青年沟路5号

  • 入库时间 2023-04-14 18:15:54

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