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一种高压SiC MOSFET漏源极间非线性电容测量及建模方法

摘要

本发明公开了一种高压SiC MOSFET漏源极间非线性电容测量及建模方法,包括以下步骤:1)进行米勒平台外的漏源极间电容Cds分段表征;2)进行开关动态过程中米勒平台区的漏源极间电容测量表征;3)根据米勒平台外的漏源极间电容Cds分段表征及开关动态过程中米勒平台区的漏源极间电容测量表征进行SiC MOSFET漏源极间电容Cds的建模,该方法能够实现高压SiC MOSFET漏源极间非线性电容的精确测量及建模,且适应范围较广。

著录项

  • 公开/公告号CN112630544B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022.12.09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN202011534487.3

  • 发明设计人 王来利;李华清;杨成子;朱梦宇;

    申请日2020.12.22

  • 分类号G01R27/26;G01R31/26;G06F30/3308;

  • 代理机构西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人王艾华

  • 地址 710049 陕西省西安市咸宁西路28号

  • 入库时间 2022-12-29 02:04:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-09

    授权

    发明专利权授予

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