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高分辨率硬X射线钨/金菲涅尔波带片及其制备方法

摘要

本发明属于X射线成像技术领域,具体为一种高分辨率硬X射线钨/金菲涅尔波带片及其制备方法。本发明步骤包括:在氮化硅衬底上生长铬/金电镀种子层;在电镀种子层上生长金属钨;在衬底上旋涂PMMA正性光刻胶,烘烤固化;利用电子束光刻机进行曝光;进行显影,然后用IPA漂洗,获得光刻胶波带片结构;以光刻胶为掩膜,在上层进行纳米电镀金,得到上层金波带片;将上层金波带片放入反应离子刻蚀机中,以金波带片为掩模对金属钨进行刻蚀,将图形转移,得到钨/金菲涅尔波带片。该波带片具有大高宽比(大于20/1)的高分辨。本发明方法也可用于制备软X射线至硬X射线检测的菲尼尔波带片透镜;得到的纳米图形结构形貌可控;与现有半导体工艺相兼容。

著录项

  • 公开/公告号CN110970147B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022.11.18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 复旦大学;

    申请/专利号CN201911082896.1

  • 发明设计人 陈宜方;朱静远;

    申请日2019.11.07

  • 分类号G21K1/06;B82Y40/00;

  • 代理机构上海正旦专利代理有限公司;

  • 代理人陆飞;陆尤

  • 地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号

  • 入库时间 2022-12-29 02:00:48

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