首页> 中国专利> 剥离层形成用组合物和剥离层

剥离层形成用组合物和剥离层

摘要

本发明提供剥离层形成用组合物,其包含:例如由下述式表示的、具有来自二胺的两末端且该两末端已用芳香族二羧酸封闭的聚酰胺酸,和有机溶剂。(式中,X表示4价的芳族基团,Y表示2价的芳族基团,R

著录项

  • 公开/公告号CN109153852B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-07-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日产化学株式会社;

    申请/专利号CN201780031604.4

  • 发明设计人 江原和也;进藤和也;

    申请日2017-05-23

  • 分类号C08L79/08(2006.01);C08G73/10(2006.01);C08K5/3415(2006.01);C09D7/63(2018.01);C09D179/08(2006.01);

  • 代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038;

  • 代理人刘强

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 13:57:54

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号