一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法和装置

摘要

本发明公开了一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法和装置，所述方法包括：S1.输入变偏移距VSP成像速度模型、观测系统、输入变偏移距VSP叠后剖面；S2.用步骤S1中的变偏移距VSP成像速度模型、观测系统，射线追踪计算理论覆盖次数；S3.根据理论覆盖次数计算变覆盖校正系数；S4.利用得到的变覆盖校正系数对变偏移距VSP叠后剖面进行校正。本发明采用射线追踪计算理论覆盖次数，再计算变覆盖校正系数，校正变偏移距VSP叠后剖面，使得校正后变偏移距VSP叠后剖面沿层能量趋于一致，有效抑制了不规则覆盖引起的反射特征畸变。