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基于统计学和PIV图像确定喷涂覆膜沉积基线的方法

摘要

本发明公开了一种基于统计学和PIV图像确定喷涂覆膜沉积基线的方法。由于扇形喷涂的整体形貌是动态微弱变化的,喷涂沉积基线长度和位置是变化的,本方法通过PIV技术得到大豆蛋白液粒子喷雾速度场图像,基于每组20张(或若干张)粒子速度场的原始图像,运用统计学的方法和PIV图像求出每组对应的沉积基线的平均长度及其位置。本方法能为大豆蛋白喷涂覆膜沉积基线长度及位置的确定提供参考,进一步为覆膜厚度求解以及得到高质量的类似覆膜成型提供理论和实践依据。

著录项

  • 公开/公告号CN112604916B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津商业大学;

    申请/专利号CN202011465376.1

  • 申请日2020-12-14

  • 分类号B05D1/02;G06F17/18;G06T7/13;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 300134 天津市北辰区光荣道409号

  • 入库时间 2022-08-23 13:37:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-10

    授权

    发明专利权授予

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