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压敏胶残留物水基清洗剂

摘要

本发明涉及一种压敏胶残留物水基清洗剂。它由以下组分组成:水、乙醇、乙酸乙酯、丙三醇、乳酸、表面活性剂,其中各组分的重量百分比为:水80~95%,乙醇0.4~10%,乙酸乙酯0.4~3%,丙三醇0.4~5%,乳酸0.4~2%,表面活性剂0~2%。本发明以水为主要溶剂,所有成分均无毒无害,利用各种有机溶剂、助剂及表面活性剂在压敏胶残留物溶解过程中的协同作用,提高了清洗剂的清洗效率,并降低了生产成本。较好地解决了现有清洗剂存在的清除速度慢、效率低,生产成本较高、损伤被粘附材料表面、危害使用者的健康及影响周围环境等问题。适用于清除各类材料表面的压敏胶残留物。

著录项

  • 公开/公告号CN100487097C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-05-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 金华职业技术学院;

    申请/专利号CN200410066692.6

  • 发明设计人 杨晓东;

    申请日2004-09-23

  • 分类号C11D1/68(20060101);C11D3/20(20060101);

  • 代理机构33103 金华科源专利事务所有限公司;

  • 代理人姚崇

  • 地址 321007 浙江省金华市婺州街1188号

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-11-21

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C11D 1/68 授权公告日:20090513 终止日期:20110923 申请日:20040923

    专利权的终止

  • 2009-05-13

    授权

    授权

  • 2007-09-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-05-25

    公开

    公开

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