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适印记录介质

摘要

适印记录介质,其包含支承基础基底和涂布层,该涂布层含有固定剂和包含水溶性粘合剂与水分散性粘合剂的组合的粘合剂体系。本文中还描述了制造所述适印记录介质的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN110267822B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 惠普发展公司有限责任合伙企业;

    申请/专利号CN201780082599.X

  • 发明设计人 T·陈;X·付;

    申请日2017-03-29

  • 分类号B41M5/50(20060101);B41M5/52(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人马蔚钧;杨思捷

  • 地址 美国德克萨斯州

  • 入库时间 2022-08-23 12:41:57

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