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制备纳米硅基发光复合薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种制备纳米硅基发光复合薄膜的方法,使用电容耦合等离子体增强化学气相沉积系统,电板极板的下极板为双层筛状进气结构,两极板的板间距为2.0-2.5cm,射频信号加到下极板上,上极板接地;选用99.99%的纯硅烷、氮气和氢气的混合气体作为前驱物,基片单晶硅片放置在上极板;这样保证小功率(35W)射频输入下的薄膜制备,基片温度被控制在低于50℃,在低温基片上生长的复合薄膜中更容易存活硅颗粒,颗粒尺寸小于2.0纳米,颗粒数密度可达2.2×1013/cm2;此方法可以用于制备从红光到紫光范围可调的高效发光复合薄膜,发光效率可达10%,并且生产设备简单、经济、无污染和可靠性高。

著录项

  • 公开/公告号CN100369202C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-02-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院物理研究所;

    申请/专利号CN200510068151.1

  • 发明设计人 曹则贤;王永谦;马利波;宋蕊;

    申请日2005-04-29

  • 分类号H01L21/205(20060101);H01L33/00(20060101);C23C16/44(20060101);

  • 代理机构11003 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人尹振启

  • 地址 100080 北京市海淀区中关村南三街8号

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-07-06

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/205 授权公告日:20080213 终止日期:20100429 申请日:20050429

    专利权的终止

  • 2008-02-13

    授权

    授权

  • 2005-12-21

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-10-26

    公开

    公开

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