法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-05-10
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):F27D3/00 授权公告日:20151111 终止日期:20160323 申请日:20150323
专利权的终止
2015-11-11
授权
授权
机译: 用于确定热处理炉预处理条件的方法,热处理炉的预处理方法,热处理炉,热处理半导体晶片的热处理炉,方法和装置
机译: 一种确定热处理炉的预处理条件的方法,热处理炉的预处理方法,热处理装置和用于制造热处理的半导体晶片的方法和装置
机译: 垂直热处理炉和包括热处理炉在内的垂直热处理炉的加热炉和浸炉炉心辊