公开/公告号CN115564696A
专利类型发明专利
公开/公告日2023-01-03
原文格式PDF
申请/专利权人 豪威集成电路(成都)有限公司;
申请/专利号CN202211204141.6
申请日2022-09-29
分类号G06T5/50;G06T5/00;G06T7/90;
代理机构上海思捷知识产权代理有限公司;
代理人沈宗晶
地址 610041 四川省成都市中国(四川)自由贸易试验区成都高新区和乐二街171号B6栋2单元4楼
入库时间 2023-06-19 18:11:21
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-01-03
公开
发明专利申请公布
机译: 多重曝光光刻技术和多重曝光光刻系统的调节元件保护机制
机译: 多重视觉系统的色彩校正方法,色彩校正装置及多重视觉系统
机译: 用于分别进行微图案和非微图案的多重曝光的浸没多重曝光方法和浸没曝光系统