一种基于氧化还原电位机理的氮化镓化学机械抛光液

摘要

本发明涉及一种氮化镓化学机械抛光液技术领域，尤其涉及氧化还原电位机理的化学作用技术领域，包括如下步骤：步骤S1：纯水中加入质量百分比m1的氧化还原电位调节剂；步骤S2：加入质量百分比m2的研磨颗粒，并缓慢加入质量百分比为m3的无水乙二胺；步骤S3：用氢氟酸和谷氨酸调节抛光液PH值。