用于增加高指数纳米压印平板印刷术膜的折射率的方法

摘要

本公开内容的多个实施方式一般涉及光学致密的纳米压印膜和用于制作这些光学致密的纳米压印膜的工艺，以及含有光学致密的纳米压印膜的光学装置。在一个或多个实施方式中，一种形成纳米压印膜的方法包括将含有多孔纳米压印膜的基板定位在处理腔室内，其中多孔纳米压印膜含有纳米颗粒和在纳米颗粒之间的孔洞，且多孔纳米压印膜具有小于2的折射率。该方法亦包括在原子层沉积(ALD)工艺期间将金属氧化物沉积在多孔纳米压印膜上和孔洞的至少一部分内以产生光学致密的纳米压印膜。