一种超越衍射极限的石墨烯结构及双光束光刻方法与应用

摘要

本发明涉及石墨烯的超精细光刻技术领域，特别涉及一种超越衍射极限的石墨烯结构及其双光束光刻方法，包括：采用石墨粉通过Hummers方法获得氧化石墨烯悬浮液，接着将所述氧化石墨烯悬浮液旋涂在PET薄膜上，制备得到氧化石墨烯薄膜；采用环形还原光束和球面氧化光束的双光束激光光刻系统对所述氧化石墨烯薄膜进行光刻。本发明采用环形还原光束和球面氧化光束同时对氧化石墨烯薄膜进行光刻，可以制造出超越衍射极限的精细化平行线型图案，实现最小线宽为90nm的LSG图案，通过控制双光束的激光功率和扫速可以制造出不同平均线宽和平均间距的LSG平行图案，该图案可以用于制作超级电容的电极，其比容量最高可以达到308F/g。