用于制造光偏转结构的方法、具有所述光偏转结构的基质的应用以及具有所述光偏转结构的光偏转单元

摘要

本发明涉及一种用于制造光偏转结构(3)的方法，其中，以至少一个脉冲激光束照射基质(7)的基质材料(5)，所述方法具有以下步骤：沿着第一路径(P1)产生多个第一相互作用区域(9)，其中所述第一相互作用区域(9)在空间上重叠，在所述相互作用区域中，至少一个激光束分别与基质材料(5)相互作用；f)沿着相对于第一路径偏移并且与第一路径(P1)在空间上重叠的第二路径(P2)产生多个第二相互作用区域(9)，其中所述第二相互作用区域(9)在空间上重叠；从而产生基质材料(5)的II型改性，其中，从一个路径(P1，P2，PN)到另一个路径(P1，P2，PN)改变至少一个过程参数，以产生预定的偏转几何关系。