公开/公告号CN115291476A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-04
原文格式PDF
申请/专利权人 中山依瓦塔光学有限公司;
申请/专利号CN202211021446.3
申请日2022-08-24
分类号G03F7/20;G02B13/14;G02B15/14;
代理机构中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙);
代理人唐飚
地址 528400 广东省中山市火炬开发区中心城区祥兴路6号数贸大厦北冀10层1012卡、1013卡
入库时间 2023-06-19 17:28:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-04
公开
发明专利申请公布
机译: 最大成像倍率高且F值小的成像镜头和成像装置
机译: 激光重复率低的激光源,脉冲重复率高的激光雷达
机译: 激光束强度轮廓测量装置-在探测器阵列的前面具有衰减器,该衰减器具有红外透射衬底和低透射率涂层区域