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一种衍射元件微观形貌对宏观性能影响的评估方法

摘要

本发明提供了一种衍射元件微观形貌对宏观性能影响的评估方法。通过图像处理算法将加工误差引入到元件表面三维微观形貌模型中,利用衍射元件光波调制分析方法计算衍射元件对入射光波的调制作用及局部衍射效率;采用标量衍射积分公式计算元件焦面及离焦面光强,采用相位差法反演得到元件的波前像差,采用改进的局部光栅方程描述衍射元件的宏观性能,实现衍射元件微观加工误差对宏观性能影响的评估。该方法打通了衍射元件微观形貌与宏观性能的联系,为微结构加工误差定量化研究提供了基本方法,同时使用改进的光栅方程描述衍射元件宏观性能,打通了与传统光线追迹技术的接口,解决了衍射成像系统的性能可预测性,可降低衍射元件应用风险。

著录项

  • 公开/公告号CN115265425A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-11-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;

    申请/专利号CN202210666743.7

  • 申请日2022-06-14

  • 分类号G01B15/04;

  • 代理机构北京科迪生专利代理有限责任公司;

  • 代理人邓治平

  • 地址 610209 四川省成都市双流350信箱

  • 入库时间 2023-06-19 17:24:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-01

    公开

    发明专利申请公布

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