首页> 中国专利> 用于相机校准的均匀光源平台、不均匀性测量、校正方法

用于相机校准的均匀光源平台、不均匀性测量、校正方法

摘要

本发明的一种用于相机校准的均匀光源平台、不均匀性测量、校正方法,均匀光源平台包括积分球、遮光箱体;积分球的出光口连接遮光箱体的入光口,积分球的检测口连接照度传感器,遮光箱体内设置有多个挡板,遮光箱体内的多个挡板分别与遮光箱体入光口、遮光箱体出光口相互平行;被测相机位于在遮光箱体出光口处,遮光箱体出光口与被测相机的最大感光面尺寸配合。本发明提供的均匀光源装置结构简单,成本低,通过特殊挡板的设计,解决了遮光箱体内壁反射光的问题,实现了光源的均匀性。本发明提供的相机平场校正方法,结合均匀光源装置,实现了对每个像素的响应一致性进行校正。

著录项

  • 公开/公告号CN115037922A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-09-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 合肥埃科光电科技股份有限公司;

    申请/专利号CN202210604548.1

  • 申请日2022-05-31

  • 分类号H04N17/00;G03B15/06;

  • 代理机构合肥天明专利事务所(普通合伙);

  • 代理人苗娟

  • 地址 230000 安徽省合肥市高新区燕子河路388号亿智科技产业园1号楼

  • 入库时间 2023-06-19 16:44:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-09

    公开

    发明专利申请公布

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号