一种低损耗抗弯曲单模光纤及其制造方法

摘要

本发明公开了一种低损耗抗弯曲单模光纤及其制造方法，该光纤从内到外依次包含芯层、内包层与外包层，芯层的相对折射率差Δ1为0.37％～0.42％，内包层的相对折射率差Δ2为‑0.45％～‑0.25％，外包层的相对折射率差△3为‑0.05％～0％。本发明中，芯层相对折射率差自内而外由Δ1下降为Δ2，降低了弯曲状态下折射率剖面的畸变程度，进一步优化了芯包粘度匹配，减小了拉丝过程中缺陷的产生，以降低光纤的损耗值，增加光纤的抗弯曲性能，内包层的相对折射率差自内而外由Δ2上升为Δ3，使光纤的芯层、包层粘度到达较好的匹配，降低芯包间应力，同时符合ITU.T G.657.A和ITU.T G.652.D光纤标准。