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一种激光加速质子束流的均匀化方法

摘要

本发明公开了一种激光加速质子束流的均匀化方法。本发明采用扁平磁场转置四极磁铁和高阶磁铁,并通过设置扁平磁场转置四极磁铁和和高阶磁铁的聚焦强度以及束流漂移段的距离之间的距离,实现质子束流均匀分布;本发明摒弃了传统治癌加速器使用连续扫描叠加剂量的控制方法,而是将原本的高斯分布束团优化为相对规则且粒子分布均匀的矩形,矩形束斑应用使扫描叠加的照射面积覆盖病灶且无重叠;能够将激光产生的粒子得到最大化的利用率并转化为更易操控的矩形束流,以便于在治疗过程中进行步距扫描,确保被照射病灶能够收到均匀且可控的剂量照射;本发明将采用高阶磁铁完成对激光驱动质子束流均匀性的优化,推进激光驱动质子治疗装置项目。

著录项

  • 公开/公告号CN114885489A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-08-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202210535020.3

  • 发明设计人 王科栋;朱昆;王凯;颜学庆;

    申请日2022-05-17

  • 分类号H05H7/00;A61N5/10;

  • 代理机构北京万象新悦知识产权代理有限公司;

  • 代理人王岩

  • 地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号

  • 入库时间 2023-06-19 16:28:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 7/00 专利申请号:2022105350203 申请日:20220517

    实质审查的生效

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