一种半导体用ETCH设备中Bell jar的再生方法

摘要

本发明公开了一种半导体用ETCH设备中belljar的再生方法，包括硝氟酸浸泡：将待再生的belljar用3M胶带保护密封面，用硝酸与氟酸的混合液进行去膜；用湿式喷砂机对belljar内表面进行喷砂处理；用尼龙刷对belljar内表面进行打磨处理；用温水进行浸泡；打磨过的belljar内表面进行高压水清洗；将部件搬运至100级无尘室进行超声波清洗，而后采用超纯水冲洗，最后用氮气吹干。干燥：吹干后的部件放至无尘烘箱内进行加热干燥。有些工序是需要反复多次的。通过该再生方法，实现belljar的重复稳定利用。