一种微凹辊间隙雕刻工艺

摘要

本发明公开了一种微凹辊间隙雕刻工艺，属于锂电子隔膜生产技术领域。其包括以下步骤：将微凹辊的辊面划分为雕刻区和空白区，对雕刻区进行雕刻。本发明摒弃了现有的微凹辊网纹设计，提出以间隙雕刻的方式，根据所需涂布的隔膜进行设计网纹辊，针对性的解决特制化涂布的难点，让隔膜涂布不再受微凹辊满幅雕刻的网纹限制，其可涂布的涂布膜结构更加多元化。