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具有纵向P型源区的沟槽型场效应晶体管及其制备方法

摘要

本申请提供一种具有纵向P型源区的沟槽型场效应晶体管,包括:衬底区、漂移区、基体区、源区、第一沟槽区、漏极以及源极;所述漂移区与所述衬底区相接,以所述衬底区指向所述漂移区的方向为上方,所述基体区和所述源区依次设置在所述漂移区的上方;所述第一沟槽区设置在所述基体区侧方,并分别与所述漂移区、所述基体区和所述源区相接;所述控制栅和所述屏蔽栅由上至下依次设置在所述第一沟槽区内,且经所述第一绝缘层分隔;所述控制栅通过所述第一绝缘层分别与所述基体区和所述源区相接,所述屏蔽栅通过所述绝缘层与所述漂移区相接;所述N型源区设置于所述基体区的上方,所述P型源区设置于所述基体区与所述第一沟槽区相对的侧方。

著录项

  • 公开/公告号CN114566548A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 无锡先瞳半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN202210111178.8

  • 申请日2022-01-27

  • 分类号H01L29/78;H01L29/08;H01L21/336;

  • 代理机构广州市时代知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陈惠珠;苏维勤

  • 地址 214000 江苏省无锡市滨湖区建筑西路777号A3幢8层810

  • 入库时间 2023-06-19 15:30:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-31

    公开

    发明专利申请公布

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