首页> 中国专利> 一种无调平过程的可扩展植入物微系统异构集成方法

一种无调平过程的可扩展植入物微系统异构集成方法

摘要

本发明公开了一种无调平过程的可扩展植入物微系统异构集成方法,现有生物植入式设备面临多功能、微型化集成需求,传统异构集成工艺中使用硅衬底以匹配集成电路光刻工艺,并采用深硅刻蚀等技术形成深芯片槽以防止芯片,并且对芯片减薄过程的精度有较大要求,通常采用底部填充料以进行芯片与硅衬底调平,并且薄的芯片极易碎裂;限制了异构集成植入式微系统的大规模批量制造;本发明通过采用PDMS材料作为载体包覆所需集成的器件,使得无需调平工艺即可形成可用于后道工艺RDL布线的集成多种器件的载体衬底;并通过使用导电胶连接封装芯片,实现了多种架构芯片以及SMD器件的微系统异构集成;提升了植入式设备异构集成批量制造能力。

著录项

  • 公开/公告号CN114464543A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州电子科技大学;

    申请/专利号CN202111563305.X

  • 发明设计人 洪慧;王浩传;

    申请日2021-12-20

  • 分类号H01L21/56;H01L21/50;H01L21/60;H01L25/16;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区

  • 入库时间 2023-06-19 15:13:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-10

    公开

    发明专利申请公布

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号