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一种纯化去氨加压素杂质的方法

摘要

本发明是一种纯化去氨加压素杂质的方法,所述去氨加压素杂质主要为所述方法包括如下步骤:以去氨加压素线肽为原料破环反应生产得到的去氨加压素杂质二聚体;以四烷基硅烷键合硅胶填料为固定相,以磷酸为流动相A,以乙腈为流动相B,进行第一次HPLC纯化,去除去氨加压素杂质中的包括线肽的杂质;除去溶剂,得到去氨加压素杂质肽第一步样品溶液;冻干,得纯化去氨加压素杂质。本发明方法采用四烷基硅烷键合硅胶填料与流动相磷酸相结合,可以去除去氨加压素杂质大部份的杂质及片段杂质;收集的样品纯度达95%。有效地提高了该去氨加压素杂质成品纯度和收率。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):C07K 7/16 专利申请号:2021116789493 申请日:20211231

    实质审查的生效

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