一种高分子材料表面镀耐磨膜层工艺及其制得的耐磨镀膜

摘要

本发明公开了一种高分子材料表面镀耐磨膜层工艺，包括如下步骤：镀氮化硅打底层步骤：在待镀膜工件表面通过真空镀膜，镀氮化硅打底层，厚度为2nm‑20nm；镀氮化硅膜层步骤：在氮化硅打底层上镀氮化硅膜层，厚度为20nm‑300nm；镀DLC耐磨层步骤：在氮化硅膜层上镀DLC耐磨层，通过上述设置，用氮化硅作为打底层，膜层与高分子材料的界面结合力好；用氮化硅作为主体膜层，整体膜系设计简单，工艺操作稳定性高；用DLC膜层作为外观膜层，耐磨性能好。本发明还公开了采用该工艺制得的耐磨镀膜。