一种高精度套刻测量量值溯源方法及散射仪

摘要

本发明公开了一种高精度套刻测量量值溯源方法及散射仪，该方法包括如下步骤：S1：流片加工裸硅片得到晶圆样片，切割分离晶圆样片得到套刻精度芯片；S2：用计量型标准散射仪定值溯源套刻精度标准样片，将套刻精度标准样片安装在不同尺寸的载体晶圆上；S3：将多组不同尺寸的套刻精度标准样片经过套刻对准测量设备进行溯源。本发明提出一种光刻套刻精度的高效溯源方法，通过采用单波长稳频激光和高精度测角转台构造标准散射仪，研究制备套刻测量晶圆标准片，实现衍射型套刻对准测量精度向波长和角度的量值溯源。