首页> 中国专利> 一种基于明暗场和结构光检测的缺陷检测系统

一种基于明暗场和结构光检测的缺陷检测系统

摘要

本发明涉及一种基于明暗场和结构光检测的缺陷检测系统,包括上位机模块、结构光检测模块、明暗场检测模块和传输模块,传输模块连接结构光检测模块和明暗场检测模块,上位机模块执行以下指令:当待测镜片放置于结构光检测模块中时,控制投射装置将正弦条纹图案投射到待测镜片上,并控制一号采集设备采集结构光图像;对结构光图像进行相位分析,获取相位图;根据相位图,获取相位图中具有深度信息的缺陷位置;并将缺陷位置在待测镜片对应位置进行标注;控制传输模块将标注的位置移动至明暗场检测模块的二号采集设备正下方;控制二号采集设备采集明暗场图像。与现有技术相比,本发明具有检测精确度高等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN114264664A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海理工大学;

    申请/专利号CN202111583315.X

  • 发明设计人 韦晓孝;王臻磊;万新军;

    申请日2021-12-22

  • 分类号G01N21/88(20060101);

  • 代理机构31225 上海科盛知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈源源

  • 地址 200093 上海市杨浦区军工路516号

  • 入库时间 2023-06-19 14:43:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-01

    公开

    发明专利申请公布

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号