具有多个图案化辐射吸收元素和/或竖直组成梯度的光致抗蚀剂

摘要

本文的各种实施方案涉及用于在衬底上沉积光致抗蚀剂材料的技术。例如，这些技术可涉及在反应室中提供该衬底；将第一及第二反应物提供至该反应室，其中所述第一反应物为具有化学式M1aR1bL1c的有机金属前体，其中：M1为具有高图案化辐射吸收截面的金属，R1为有机基团，其在所述第一反应物与所述第二反应物之间的所述反应后保留，且能在暴露于图案化辐射下从Ml裂解，L1为与所述第二反应物反应的配体、离子、或其他部分，a≥1，b≥1，且c≥1，且其中满足以下条件中的至少一者：光致抗蚀剂材料包含两或更多高图案化辐射吸收元素、和/或所述光致抗蚀剂材料包含沿着所述光致抗蚀剂材料的厚度的组成梯度。