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用于具有受控表面粗糙度和起伏程度的纳米管织物的纳米管制剂的表征方法

摘要

本文公开了一种关于一种或多种具体离子物质的用于表征纳米管制剂的方法。在本公开的方法中,该表征提供了对这种纳米管制剂形成的纳米管织物内的表面粗糙度(或光滑度)和起伏程度的控制。在一个方面中,本公开提供了纳米管制剂粗糙度曲线(和用于产生这种曲线的方法),其可以用于选择离子物质浓度水平的可利用范围,其将提供具有所需表面粗糙度(或光滑度)和起伏程度的纳米管织物。在本公开的一些方面中,这种纳米管制剂粗糙度曲线可以用于在纳米管制剂沉积工艺之前调节纳米管制剂,以提供相对光滑且具有低起伏程度的纳米管织物。

著录项

  • 公开/公告号CN114245790A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 瑞翁株式会社;

    申请/专利号CN202080051855.0

  • 申请日2020-05-15

  • 分类号B82Y30/00(20060101);B82Y35/00(20060101);B82Y40/00(20060101);D01F9/12(20060101);C01B32/16(20060101);C01B32/159(20060101);C01B32/168(20060101);C01B32/17(20060101);C01C1/18(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人张佳鑫;朱黎明

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-06-19 14:37:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-25

    公开

    国际专利申请公布

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