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具有用于重定向光的非对称光栅的超表面及其制造方法

摘要

本发明涉及具有用于重定向光的非对称光栅的超表面及其制造方法。一种光学系统包括光学透射基板,光学透射基板包括超表面,超表面包括光栅,光栅包括多个单位基元。每个单位基元包括具有第一宽度的横向伸长的第一纳米梁;以及与第一纳米梁隔开一间隙的横向伸长的第二纳米梁,第二纳米梁具有大于第一宽度的第二宽度。单位基元的间距为10nm至1μm。第一和第二纳米梁的高度为:在基板的透射率大于3.3的情况下,10nm至450nm;以及在所述折射率为3.3或更小的情况下,10nm至1μm。

著录项

  • 公开/公告号CN113484944A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 奇跃公司;

    申请/专利号CN202110788459.2

  • 申请日2017-05-05

  • 分类号G02B5/18(20060101);G02B1/00(20060101);G02B5/30(20060101);G02B27/01(20060101);G02B30/35(20200101);H04N13/344(20180101);H04N13/349(20180101);

  • 代理机构11247 北京市中咨律师事务所;

  • 代理人贺月娇;于静

  • 地址 美国佛罗里达州

  • 入库时间 2023-06-19 12:49:58

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