公开/公告号CN113416953A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-21
原文格式PDF
申请/专利权人 沈阳稀有金属研究所;
申请/专利号CN202110697175.2
申请日2021-06-23
分类号C23C24/10(20060101);B22F1/00(20060101);C22C38/02(20060101);C22C38/04(20060101);C22C38/06(20060101);C22C38/44(20060101);C22C38/46(20060101);C22C38/48(20060101);C22C38/54(20060101);
代理机构11562 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人许佳
地址 110101 辽宁省沈阳市苏家屯区雪莲街42-1号
入库时间 2023-06-19 12:40:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-03-17
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C24/10 专利申请号:2021106971752 申请公布日:20210921
发明专利申请公布后的驳回
机译: 激光源,例如腔内泵浦激光源,例如军事应用中,具有晶体的泵浦单元,即薄板,用于泵浦另一种掺有crystal的晶体,其中薄板掺有th
机译: 一种向应用激光烧蚀的涂层中使用的靶材中添加石墨烯基添加剂的方法
机译: 一种新型染料在染料激光和非线性光学中的应用以及荧光寿命标准