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公开/公告号CN112176272A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-05
原文格式PDF
申请/专利权人 西南科技大学;
申请/专利号CN202010943462.2
发明设计人 高鹏飞;何雨星;彭福维;朱环宇;干明珠;
申请日2020-09-09
分类号C23C4/04(20060101);C23C4/134(20160101);
代理机构51304 成都东恒知盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人何健雄;廖祥文
地址 621010 四川省绵阳市涪城区青龙大道中段59号
入库时间 2023-06-19 09:26:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-01
授权
发明专利权授予
机译: 悬浮等离子喷涂制备多孔羟基磷灰石涂层的方法
机译:等离子喷涂制备的Cp-钛-Grade-2表面上的羟基磷灰石涂层
机译:通过气体隧道式等离子喷涂制备的氧化钇稳定的氧化锆增强羟基磷灰石涂层的机械性能,电化学腐蚀和体外生物活性。
机译:等离子喷涂含锶羟基磷灰石涂层的制备及其与细胞材料的相互作用
机译:用不同粉末原料制备等离子体喷涂羟基磷灰石涂层的性质和微观结构
机译:钛6铝4钒植入物上等离子喷涂的羟基磷灰石涂层的机械完整性。
机译:Suppl 1-M5:微等离子体喷涂沉积相纯高结晶羟基磷灰石涂层的纳米压痕研究
机译:等离子喷涂参数对羟基磷灰石涂层结晶度的影响评估等离子喷涂工艺参数对羟基磷灰石涂层结晶度的影响
机译:电弧等离子喷涂微波铁氧体粉末的制备方法与技术措施。