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一种非常规气藏流场结构识别方法及装置

摘要

本公开提供一种非常规气藏流场结构识别方法和装置。非常规气藏包括至少一口水平井,在忽略井间干扰的情况下,对于所述至少一口水平井中的任一口水平井,非常规气藏流场结构识别方法包括:在压裂液返排阶段,获取第一生产数据,并根据第一生产数据绘制压裂液返排阶段的实际生产曲线图;获取第二生产数据和不同缝网形态对应的储层物性参数,并对压裂液返排阶段的产水速率、产气速率以及套管压力进行数值模拟,根据数值模拟的结果,绘制压裂液返排阶段不同缝网形态对应的流场结构版图;将实际生产曲线图与不同缝网形态对应的流场结构版图进行对比,识别压裂后的储层流场结构。本公开能够实现对压裂后的储层流场结构的识别。

著录项

  • 公开/公告号CN112001134A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京科技大学;

    申请/专利号CN202010920207.6

  • 申请日2020-09-04

  • 分类号G06F30/28(20200101);E21B49/00(20060101);E21B43/30(20060101);E21B43/26(20060101);G06F111/10(20200101);G06F113/08(20200101);G06F119/14(20200101);

  • 代理机构11551 北京鼎承知识产权代理有限公司;

  • 代理人柯宏达;王铭珠

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路30号

  • 入库时间 2023-06-19 09:03:00

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