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用于制造防伪元件转印材料的方法和防伪元件转印材料

摘要

本发明涉及一种用于制造防伪元件转印材料的方法,所述防伪元件转印材料具有提供在支承基底上的、构造为转印元件的防伪元件,所述方法包括a)提供支承基底(1),所述支承基底依次配设有防伪元件层复合件和具有至少一个凹空的掩膜(4),其中防伪元件层复合件具有与支承基底能够分离地连接的显示光学可变效应的特征层(2)和胶粘剂层(3),所述特征层在防伪元件转移到有价文件基底上之后朝向观察者,其中,沿掩膜的凹空构造有待转印到有价文件的基底上的、配设有冲压线的防伪元件层复合件,b)将掩膜连同通过掩膜掩蔽的、存在于掩膜的凹空之外的防伪元件层复合件一起从支承基底上剥离。

著录项

  • 公开/公告号CN111788075A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 捷德货币技术有限责任公司;

    申请/专利号CN201980014767.0

  • 发明设计人 C.富泽;J.席纳贝克;B.托伊费尔;

    申请日2019-03-14

  • 分类号B42D25/455(20060101);B42D25/46(20060101);B42D25/47(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人任丽荣

  • 地址 德国慕尼黑

  • 入库时间 2023-06-19 08:33:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    授权

    发明专利权授予

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