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光学成像的像差测量方法及光学成像方法

摘要

本发明公开了一种光学成像的像差测量方法及光学成像方法,应用的光学成像系统用于产生一路参考光以及一路测量光,将测量光发射至被测样品并获取由被测样品反射回的测量光,根据参考光和由被测样品返回的测量光的干涉光对被测样品进行成像。光学成像系统的成像装置用于捕获干涉光中属于第一波段范围的光实现焦前成像,得到第一光强分布图像,以及捕获干涉光中属于第二波段范围的光实现焦后成像,得到第二光强分布图像,根据第一光强分布图像和第二光强分布图像获得光学成像系统成像的像差信息,进而能够根据成像像差进行相应校正,提高成像精度。

著录项

  • 公开/公告号CN111751013A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010645403.7

  • 发明设计人 安其昌;刘欣悦;张景旭;李洪文;

    申请日2020-07-07

  • 分类号G01J9/02(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人王雨

  • 地址 130033 吉林省长春市长春经济技术开发区东南湖大路3888号

  • 入库时间 2023-06-19 08:30:12

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