一种MPCVD合成设备及合成温度控制方法

摘要

本发明涉及一种MPCVD合成设备及合成温度控制方法，该合成设备包括反应腔、用于向反应腔输出电磁波的微波输出装置、用于控制反应腔内气体压力的气压控制装置和用于测量反应腔内合成物表面温度的温度测量装置；还包括控制中心，所述微波输出装置、气压控制装置和温度测量装置均与控制中心通信连接。本发明的合成设备可在温度偏离时自动调整功率和反应腔气体压力，使得功率‑压力自动匹配，从而将温度恢复至特定的区间范围内；在单颗合成物合成过程中，可以有效的控制合成物合成温度，提高最终产品的质量；在多颗合成物合成过程中，当其中某一颗温度发生偏离时，可以反馈至机台端报警提示，及时做出相应调整，提高同一批次合成物的合成质量及良品率。