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被包覆的半导体纳米粒子及其制造方法

摘要

本发明提供一种具有充分的荧光强度的被包覆的半导体纳米粒子。本发明的被包覆的半导体纳米粒子的制造方法涉及一种制造被包覆的半导体纳米粒子的方法,所述被包覆的半导体纳米粒子含有:半导体纳米粒子,其具有核/壳结构;和透光性包覆层,其含有包覆所述半导体纳米粒子的硅。而且,所述被包覆的半导体纳米粒子的制造方法包括:在抗氧化剂的存在下,使所述半导体纳米粒子和硅烷化合物接触的工序,所述抗氧化剂具有磷原子及硫原子中的至少一种,且含有选自不具有羟基的化合物中的至少一种。

著录项

  • 公开/公告号CN105985768A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-10-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 柯尼卡美能达株式会社;

    申请/专利号CN201610146065.6

  • 申请日2016-03-15

  • 分类号C09K11/02(20060101);C09K11/88(20060101);C09K11/56(20060101);C09K11/70(20060101);B82Y20/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人张涛

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 00:35:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-28

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C09K11/02 申请公布日:20161005 申请日:20160315

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-11-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09K11/02 申请日:20160315

    实质审查的生效

  • 2016-10-05

    公开

    公开

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