熔融玻璃制造装置、熔融玻璃制造方法及使用了该装置和该方法的平板玻璃制造方法

摘要

提供一种适合于生产高品质的无碱玻璃的熔融玻璃制造装置、熔融玻璃制造方法及使用了该装置和该方法的平板玻璃制造方法。本发明涉及一种熔融玻璃制造装置，用于制造使玻璃粘度η成为102[dPa·S]的温度Tη为1500～1760℃的熔融玻璃，其特征在于，该熔融玻璃制造装置具有熔化槽，所述熔化槽具有多个第二扩散器和设置在比该第二扩散器靠上游侧处的多个第一扩散器，设所述熔化槽的熔融玻璃流路的长度为LF时，从所述熔融玻璃流路的上游端到所述第一扩散器的列为止的距离为0.4LF～0.5LF，从所述熔融玻璃流路的下游端到所述第二扩散器的列为止的距离为0.45LF～0.55LF，所述第一扩散器的列与所述第二扩散器的列之间的距离LP为500～1000mm，所述第一扩散器的列与在该列的上游侧最接近该列的燃烧器之间的距离LB1为0～2000mm，所述第二扩散器的列与在该列的下游侧最接近该列的燃烧器之间的距离LB2为800～2500mm，且LB2＞LB1。

说明书

技术领域

本发明涉及熔融玻璃制造装置、熔融玻璃制造方法及使用了该装 置和该方法的平板玻璃制造方法。更具体而言，涉及用于生产均匀性 高的高品质的无碱玻璃的熔融玻璃制造装置、熔融玻璃制造方法及使 用了该装置和该方法的平板玻璃制造方法。

背景技术

平板显示器(FPD)用的玻璃基板的制造中，为了提高玻璃基板 的绝缘性，优选实质上使用不含有碱金属离子的无碱玻璃。而且，无 碱玻璃的热膨胀系数小这一点在FPD用的玻璃基板的制造中也优选。

在FPD用的玻璃基板的制造中，追求进一步的高品质化、即均匀 性高的高品质的玻璃基板的制造。因此在使玻璃原料熔化而得到熔融 玻璃的熔化槽(熔窑)中，为了提高熔融玻璃的均匀性而想了各种方 法。

在专利文献1所记载的熔窑中，通过横截隔板将熔化炉分成上游 带域和下游带域，在各个带域形成熔融玻璃的循环流(上游侧循环流、 下游侧循环流)，由此进行原料的熔化及熔融玻璃的均匀化。更具体 而言，在上游带域通过形成上游侧循环流而进行玻璃原料的熔化，在 下游带域通过形成下游侧循环流而进行熔融玻璃的均匀化。在专利文 献1所记载的熔窑中，为了控制上游侧循环流及下游侧循环流，而在 横截隔板的上游侧设置扩散器(bubbler)。

专利文献2所记载的熔窑(熔融罐)不具有与专利文献1所记载 的熔窑的横截隔板相当的结构，但记载了使用至少1列扩散器和至少 两个彼此相对的燃烧器来使玻璃熔融、澄清的内容。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本国特开平9-124323号公报

专利文献2：日本国特开平7-144923号公报

发明内容

然而，专利文献1、2所记载的熔窑不一定适合生产高品质的无碱 玻璃。

玻璃的熔化温度的指标使用T_η，即玻璃粘度η成为10²[dPa·S]的 温度，但无碱玻璃的T_η为1500～1760℃，与通常的碱石灰玻璃等含碱 玻璃相比，T_η高至100℃以上，难以均匀化。因此，在专利文献1、2 所记载的碱石灰玻璃等的一般大量生产用等的布局的熔窑中无法充分 均匀化，对于均匀性要求特别严格的玻璃产品(FPD用的玻璃基板等) 的制造不一定适合。

另外，如上所述，无碱玻璃与碱石灰玻璃等含碱玻璃相比，T_η高， 因此熔窑内的熔融玻璃的温度也必然升高。若熔融玻璃的温度高，则 相应地熔融玻璃对炉内结构物的侵蚀作用变强。因此，在无碱玻璃的 情况下，当存在专利文献1所记载的熔窑的横截隔板或专利文献2所 记载的熔窑的澄清台那样的、在熔窑的底部对熔融玻璃流造成影响的 高低差时，熔融玻璃对高低差的侵蚀及由此产生的杂质成为问题。

另外，在无碱玻璃的情况下，由于熔窑内的熔融玻璃的温度必然 升高，因此如专利文献1那样形成下游带域长的结构或如专利文献2 那样形成大型的熔窑时，使用燃烧器进行加热的范围变宽，因此在能 量效率方面不利。而且，熔融玻璃产生的侵蚀及由此产生的杂质、熔 融玻璃的流速的变化也成为问题。

为了解决上述的现有技术的问题点，本发明目的在于提供一种适 合于生产均匀性高的高品质的无碱玻璃的熔融玻璃制造装置、熔融玻 璃制造方法及使用了该装置和该方法的平板玻璃制造方法。

为了实现上述目的而仔细研讨的结果是，本申请发明人发现，为 了生产均匀性高的高品质的无碱玻璃，而需要将使玻璃原料熔化的熔 化槽内的上游侧循环流的流速与下游侧循环流的流速控制成满足一定 的关系。

本发明基于本申请发明人的上述的见解而作出，提供一种熔融玻 璃制造装置，用于制造玻璃粘度η成为10²[dPa·S]的温度T_η为 1500～1760℃的熔融玻璃，其特征在于，

该熔融玻璃制造装置具有熔化玻璃原料的熔化槽，

在所述熔化槽的底面附近，在熔融玻璃流路的宽度方向上具有多 个第一扩散器及多个第二扩散器，

所述第一扩散器设置在比所述第二扩散器靠熔融玻璃流路的上游 侧处，

所述熔化槽具有用于对该熔化槽的上部空间进行加热的燃烧器，

设所述熔化槽的熔融玻璃流路的长度为L_F时，从所述熔融玻璃流 路的上游端到所述第一扩散器的列为止的距离为0.4L_F～0.5L_F，从所述 熔融玻璃流路的下游端到所述第二扩散器的列为止的距离为 0.45L_F～0.55L_F，所述第一扩散器的列与所述第二扩散器的列之间的距 离L_P为500～1000mm，

所述熔化槽内的熔融玻璃的流路方向上的、所述第一扩散器的列 与在该列的上游侧最接近该列的燃烧器之间的距离L_B1为0～2000mm，

所述熔化槽内的熔融玻璃的流路方向上的、所述第二扩散器的列 与在该列的下游侧最接近该列的燃烧器之间的距离L_B2为 800～2500mm，

且L_B2＞L_B1。

另外，本发明提供一种熔融玻璃制造方法，使用上述的熔融玻璃 制造装置来制造熔融玻璃，设从所述第一扩散器供给的气体的平均流 量为V₁[升/分]，从所述第二扩散器供给的气体的平均流量为V₂[升/分]， 所述第一扩散器的上方的环境温度为T₁[℃]，所述第二扩散器的上方的 环境温度为T₂[℃]时，以V₁＞V₂且T₁＞T₂的条件来制造熔融玻璃。

另外，本发明提供一种平板玻璃制造方法，将通过上述的本发明 的熔融玻璃制造方法得到的熔融玻璃成形为平板玻璃。

发明效果

本发明的熔融玻璃制造装置及熔融玻璃制造方法适合于均匀性高 的高品质的无碱玻璃的生产。

本发明的平板玻璃制造方法能够制造均匀性高且透明性高的平板 玻璃，因此适合于FPD用的基板的制造。

附图说明

图1是本发明的熔融玻璃制造装置的熔化槽的一实施方式的剖视 图。

图2是图1所示的熔化槽10的俯视图。其中，省略了熔化槽10 的上部壁面。

具体实施方式

以下，参照附图，说明本发明。

如上所述，T_η作为玻璃的熔化温度的指标而使用。本发明作为对 象的玻璃，T_η为1500～1760℃，与一般的碱石灰玻璃等含碱玻璃的T_η相比高出100℃以上，因此熔融玻璃的均匀化困难。本发明的熔融玻璃 制造装置及熔融玻璃制造方法适合于实现此种熔融玻璃的均匀化。需 要说明的是，作为T_η成为1500～1760℃的玻璃的具体例，尤其是相当 于无碱玻璃。

从该点出发，本发明的熔融玻璃制造装置及熔融玻璃制造方法适 合于按规定量(20～100吨/日)生产FPD用的玻璃基板那样的对于品质 的要求严格的玻璃产品。

图1是本发明的熔融玻璃制造装置的熔化槽的1实施方式的剖视 图，图2是图1所示的熔化槽的俯视图。其中，为了容易理解，而省 略了熔化槽10的上部壁面。

在熔化槽10的上游侧的端部设有玻璃原料的投料口11。从投料 口11投入的玻璃原料因燃烧器15产生的加热而熔化，成为熔融玻璃G， 被保持在熔化槽10内。在熔化槽10的下游侧的端部设有用于将熔融 玻璃G向下一工序排出的排出口12。排出口12与下游侧的导管20连 通。

在图1、2所示的熔化槽10的底面附近设有多个第一扩散器13及 多个第二扩散器14。

多个第一扩散器13及多个第二扩散器14在熔化槽10的宽度方 向、更具体而言在熔化槽10的熔融玻璃流路的宽度方向上隔开规定的 间隔(间距)配置。

另外，第一扩散器13设置在比第二扩散器14靠熔融玻璃流路的 上游侧处，在第一扩散器13的列与第二扩散器14的列之间设有规定 的间隔。

需要说明的是，关于第一扩散器13及第二扩散器14的列方向上 的各个扩散器的间距、以及第一扩散器13的列与第二扩散器14的列 之间的距离的优选范围，在后面说明。

在图1、2所示的熔化槽10的两侧面以位于该熔化槽10内保持的 熔融玻璃G的上方的方式配置有燃烧器15。燃烧器15除了后述的例 外部分之外，在熔化槽10的整个长度方向上等间隔地设置。

本发明的熔融玻璃制造装置的熔化槽10通过使第一、第二扩散器 13、14及燃烧器15形成为后述的特定的配置，不在熔融玻璃流路的底 部设置专利文献1、2所记载的对熔融玻璃流造成影响的高低差结构， 就能够促进熔化槽10内的熔融玻璃G的循环流(上游侧循环流100、 下游侧循环流101)的形成，且能够将上游侧循环流100的流速和下游 侧循环流101的流速控制成满足规定的关系。

本发明的熔融玻璃制造装置的熔化槽10由于在熔融玻璃流路的 底部不存在成为熔融玻璃造成的侵蚀的问题的高低差结构，因此适合 于T_η为1500～1760℃的玻璃的制造。

本发明的熔融玻璃制造装置的熔化槽10在设该熔化槽10的熔融 玻璃流路的长度为L_F时，从熔融玻璃流路的上游端到第一扩散器13 的列为止的距离为0.4L_F～0.5L_F，从熔融玻璃流路的下游端到第二扩散 器14的列为止的距离为0.45L_F～0.55L_F。

因此，与专利文献1、2所记载的以往的熔化槽(熔窑)相比，熔 化槽10的长度短，熔化槽中的形成下游侧循环流的部位的长度也短。

本发明的熔化槽10的熔融玻璃流路的长度L_F因熔融玻璃流路的 宽度而不同，但优选为10～30m，更优选为10～25m，进一步优选为 15～22m。

另一方面，熔融玻璃流路的宽度优选为5～10m，更优选为5.5～9m， 进一步优选为6.5～8m。

在本发明的熔融玻璃制造装置的熔化槽10中，将来自第一扩散器 13及第二扩散器14的气体16、17的流量形成为后述的特定的关系， 且将燃烧器15形成为后述的特定的配置，由此能够降低下游带域的熔 融玻璃流(下游侧循环流101)的每单位时间的流量，并能够将上游侧 循环流100的流速和下游侧循环流101的流速控制成满足规定的关系。 由此，在制造T_η为1500～1760℃的熔融玻璃时，能抑制因玻璃原料中 的未熔化物或熔融玻璃表面上的挥散等而比重轻的异质层(浮渣层) 前进(向下游带域的顺利前进)，能够促进熔融玻璃的均匀化，从而 能够得到均匀性高的高品质的熔融玻璃。

需要说明的是，从第一扩散器13及第二扩散器14供给的气体16、 17优选使用不会对熔融玻璃G及扩散器13、14等的熔化槽10的结构 要素造成不良影响的气体。作为此种气体的具体例子，可例示空气、 氮、氧、氦、氩等。作为扩散器13、14的材料，使用铂或铂合金时， 从扩散器13、扩散器14供给的气体16、17优选使用氮、氦及氩这样 的不含氧的气体。其中特别优选氮。

在熔化槽10中，从熔融玻璃流路的上游端到第一扩散器13的列 为止的距离优选为0.43L_F～0.46L_F，从熔融玻璃流路的下游端到第二扩 散器14的列为止的距离优选为0.47L_F～0.54L_F。

在熔化槽10中，设第一扩散器13的列与第二扩散器14的列之间 的距离为L_P时，L_P为500～1000mm。LP满足上述的范围时，促进熔化 槽10内的熔融玻璃G的循环流(上游侧循环流100、下游侧循环流101) 的形成的效果优异，且在将上游侧循环流100的流速和下游侧循环流 101的流速控制成满足规定的关系方面优选。

当L_P小于500mm时，第一扩散器13的列与第二扩散器14的列 之间的距离过近，因此促进熔化槽10内的熔融玻璃G的循环流(上游 侧循环流100、下游侧循环流101)的形成的效果较差，且难以将上游 侧循环流100的流速与下游侧循环流101的流速控制成满足规定的关 系。

当L_P超过1000mm时，第一扩散器13的列与第二扩散器14的列 之间的距离过宽，因此促进熔化槽10内的熔融玻璃G的循环流(上游 侧循环流100、下游侧循环流101)的形成的效果较差，且难以将上游 侧循环流100的流速与下游侧循环流101的流速控制成满足规定的关 系。

在熔化槽10中，L_P优选为600～800mm。

在第一扩散器13及第二扩散器14中，扩散器的列方向上的各个 扩散器间的间距p、即熔化槽10的熔融玻璃流路的宽度方向上的各个 扩散器间的距离优选为400～700mm。若各个扩散器间的间距p为上述 的范围，则促进熔化槽10内的熔融玻璃G的循环流(上游侧循环流 100、下游侧循环流101)的形成的效果优异，在将上游侧循环流100 的流速与下游侧循环流101的流速控制成满足规定的关系方面优选， 且在制造成本的方面也优异。

当各个扩散器间的间距p超过700mm时，各个扩散器间的距离过 宽，因此促进熔化槽10内的熔融玻璃G的循环流(上游侧循环流100、 下游侧循环流101)的形成的效果可能不充分，尤其是，在熔融玻璃流 路的宽度方向上，因部位不同而在促进熔融玻璃G的循环流(上游侧 循环流100、下游侧循环流101)的形成的方面产生差异，循环流的流 速可能产生不均，从熔融玻璃G的均匀化的观点出发不优选。而且， 可能难以将上游侧循环流100的流速与下游侧循环流101的流速控制 成满足规定的关系。

另一方面，即使各个扩散器间的间距p小于400mm，也仍然无法 促进熔化槽10内的熔融玻璃G的循环流(上游侧循环流100、下游侧 循环流101)的形成，反而在性价比方面，熔化槽10内设置的第一、 第二扩散器13、14的个数过剩，导致熔融玻璃的制造成本增加，因此 不优选。

设熔化槽10的熔融玻璃的流路方向为轴时，优选第一扩散器13 与第二扩散器14以不存在于同轴上的方式配置。

在图2所示的熔化槽10中，第一扩散器13的突出口与第二扩散 器14的突出口配置成锯齿状，第一扩散器13的突出口与第二扩散器 14的突出口不存在于同轴上。

在形成为此种配置时，即使在第一扩散器13的突出口中的某一个 不起作用时，由于在下游侧配置成锯齿状的第二扩散器14的突出口的 存在，而不会损害促进熔化槽10内的熔融玻璃G的循环流(上游侧循 环流100、下游侧循环流101)的形成的效果，且能够将上游侧循环流 100的流速与下游侧循环流101的流速控制成满足规定的关系。

在图1、2所示的熔化槽10的两侧面，遍及该熔化槽10的整个长 度方向等间隔地设有燃烧器15。但是，在第二扩散器14的上方未设置 燃烧器15。

详细情况如后所述，在本发明中，使从第二扩散器14供给的气体 17的平均流量V₂小于从第一扩散器13供给的气体16的平均流量V₁(控制1)，且使第二扩散器14的上方的环境温度T₂低于第一扩散器 13的上方的环境温度T₁(控制2)，由此，能够降低下游侧循环流101 的每单位时间的流量，并将上游侧循环流100的流速与下游侧循环流 101的流速控制成满足规定的关系。由此，在制造T_η为1500～1760℃的 熔融玻璃时，能够促进熔融玻璃的均匀化，能够得到均匀性高的高品 质的熔融玻璃。

为了实现上述控制2，如图2所示，需要将第二扩散器14的列与 在该列的下游侧最接近该列的燃烧器15分离某种程度进行配置。因此， 需要形成为L_B2＝800mm以上。

但是，当第二扩散器14的列与在该列的下游侧最接近该列的燃烧 器15分离过远时，第二扩散器14的上方的环境温度变得过低，反而 产生熔融玻璃的均匀化不充分等问题。而且，从设置在熔化槽10的下 游侧的端部的排出口12排出的熔融玻璃G的温度降低，会产生在后工 序中进行减压脱泡时难以脱泡等问题。因此，需要形成为L_B2＝2500mm 以下。

因此，L_B2＝800～2500mm。需要说明的是，优选L_B2＝1000～2000mm， 更优选L_B2＝1000～1600mm。

另外，为了实现上述控制2，在图2所示的熔化槽10中，熔化槽 10内的熔融玻璃的流路方向上的、第一扩散器13的列与在该列的上游 侧最接近该列的燃烧器15之间的距离L_B1与第二扩散器14的列与在该 列的下游侧最接近该列的燃烧器15之间的距离L_B2成为L_B2＞L_B1的关 系。即，在第一扩散器13的上方设有燃烧器15，相对于此，在第二扩 散器14的上方未设置燃烧器15。在图2所示的熔化槽10中，通过形 成为此种配置，而能够使第二扩散器的上方的环境温度T₂低于第一扩 散器的上方的环境温度T₁。

在本发明中，优选L_B2-L_B1≥300mm，更优选L_B2-L_B1≥500mm， 进一步优选L_B2-L_B1≥800mm。

另一方面，在图2所示的熔化槽10中，虽然在第一扩散器13的 列的上方设有燃烧器15，但只要满足L_B2＞L_B1的关系，也可以将第一 扩散器13的列和在该列的上游侧最接近该列的燃烧器15分离某种程 度配置。但是，当第一扩散器13的列与在该列的上游侧最接近该列的 燃烧器15分离过远时，第一扩散器13的上方的环境温度过低而上游 侧循环流100弱，玻璃原料的熔化变得不充分，由此产生熔化槽10的 下游域的熔融玻璃G的均匀化不充分等问题。因此，需要形成为 L_B1＝2000mm以下。

因此，L_B1＝0～2000mm。需要说明的是，优选L_B1＝500～1500mm。

另外，虽然相邻的燃烧器15间的间距因燃烧器15的种类、熔化 槽10的布局而不同，但优选为600～2600mm，更优选为800～2400mm。

燃烧器15内的燃烧，能够使燃料与氧气混合而燃烧，或使燃料与 氧气及空气混合而燃烧。通过使用上述方法，能够使熔融玻璃含有水 分。在从熔化槽10向下游侧的导管20传送的熔融玻璃的后工序中， 通过减压脱泡对熔融玻璃中的气泡进行脱泡时，优选熔融玻璃含有水 分的情况，因此优选上述的燃烧。

对熔化槽10的与熔融玻璃G接触的部分的结构材料要求耐热性及 对熔融玻璃的耐蚀性优异，因此使用含ZrO₂的耐火砖，但在形成熔融 玻璃流路的熔化槽10的底面中在上游侧与第一扩散器13的列相距 0.1L_F～0.3L_F的部分优选使用玻璃质的热熔融耐火材料，该玻璃质的热 熔融耐火材料中以质量％计ZrO₂为85％以上且97％以下而其余部分以 SiO₂为主体。这是因为，流通于熔化槽10的熔融玻璃的温度在上游侧 比在下游侧高，而且，来自第一扩散器13的流量比来自第二扩散器14 的流量大，因此耐火砖容易被侵蚀。这种情况下，各个热熔融耐火材 料的厚度优选为50～120mm，热熔融耐火材料优选层叠2～3个。此外， 在如此形成的热熔融耐火材料的层的外侧可以层叠2～5层其他的含 ZrO₂的耐火砖。需要说明的是，熔化槽10的与熔融玻璃G接触的所有 部分优选由上述组成的热熔融耐火材料构成。而且，各耐火砖可以隔 着氧化铝-锆石质等打结材料进行层叠。

在熔化槽10底部的耐火砖的外侧设有用于冷却该耐火砖的、基于 空冷或水冷等的冷却单元时，耐火砖的寿命提高，因此优选。

接下来，说明本发明的熔融玻璃制造方法。

在本发明的熔融玻璃制造方法中，进行上述控制1、2并制造熔融 玻璃。

通过进行上述控制1、2，能够降低下游侧循环流101的每单位时 间的流量，将上游侧循环流100的流速与下游侧循环流101的流速控 制成满足后述的规定的关系。

在本发明的熔融玻璃制造方法中，上述V₁优选为0.5～20升/分， 更优选为0.7～5升/分，进一步优选为0.9～3升/分，特别优选为1.8～2.6 升/分。而且，上述V₂优选为0.3～19.8升/分，更优选为0.4～4.8升/分， 进一步优选为0.5～2升/分，特别优选为0.9～2.0升/分。

另外，优选V₁-V₂≥0.2升/分，更优选V₁-V₂≥0.4升/分，进一步 优选V₁-V₂≥0.6升/分，特别优选V₁-V₂≥1.0升/分。

在本发明的熔融玻璃制造方法中，上述T₁优选为1590～1710℃， 更优选为1600～1695℃。而且，上述T₂优选为1570～1690℃，更优选为 1580～1675℃。

另外，T₁-T₂优选为10～35℃，T₁-T₂更优选为15～30℃，进一步优 选为19～26℃。

需要说明的是，T₁及T₂可通过以下的方法来测定。

(测定位置)

T₁：比第一扩散器的列靠上游侧的最接近该列的燃烧器与比该燃 烧器更靠上游侧的最接近该燃烧器的燃烧器的中间位置。

T₂：第二扩散器的列与比该扩散器靠下游侧的最接近该列的燃烧 器的中间位置。

(测定方法)

从设置在熔化槽的侧面上的观察用窗，利用放射温度计(例如， CHINO IR-AH3SU(测定波长：0.65μm，ε＝1.0))来测定对面侧的侧 面的熔化槽内壁面温度。

在本发明的熔融玻璃制造方法中，设上游侧循环流100的平均流 速为F₁[m/小时]，下游侧循环流101的平均流速为F₂[m/小时]时，优选 控制成F₁＝5～20m/小时，且F₂＝0.5～7m/小时。由此，在制造T_η为 1500～1760℃的熔融玻璃时，能够促进熔融玻璃的均匀化，能够得到均 匀性高的高品质的熔融玻璃。

更优选控制成F₁＝8～15m/小时，且F₂＝1～4m/小时。

需要说明的是，F₁及F₂可以利用以下的方法来测定。

(测定位置)

F₁：距熔融玻璃流路的上游端的距离为0.30L_F～0.34L_F且在熔融玻 璃流路的宽度方向的中央附近。

F₂：距熔融玻璃流路的下游端的距离为0.22L_F～0.30L_F且在熔融玻 璃流路的宽度方向的中央附近。

(测定方法)

用视频拍摄熔融玻璃的表层的气泡的流动，测定与泡的移动距离 相对的移动时间作为流速。反复进行2～3次该步骤而求出平均流速。

接下来，说明本发明的平板玻璃制造方法。

在本发明的平板玻璃制造方法中，将通过上述的本发明的熔融玻 璃制造方法得到的熔融玻璃成形为平板玻璃。作为将熔融玻璃成形而 形成平板玻璃的方法，可以使用浮法、下拉法(down-drawn)等各种 成形方法。T_η为1500～1760℃的玻璃的情况下，特别优选浮法。

在本发明的平板玻璃制造方法中，在将通过上述的本发明的熔融 玻璃制造方法得到的熔融玻璃成形为平板玻璃之前，也可以利用减压 脱泡对该熔融玻璃中的气泡进行脱泡。

在本发明的平板玻璃制造方法中，将通过本发明的熔融玻璃制造 方法而得到的均匀性高的熔融玻璃成形而形成平板玻璃，因此能够得 到均匀性高且透明性高的平板玻璃。

在本发明的平板玻璃制造装置中，能够适用于各种用途的平板玻 璃的制造，但能得到均匀性高且透明性高的平板玻璃，因此特别优选 适用于如FPD用的玻璃基板那样对于均匀性的要求极为严格的用途的 平板玻璃的制造。

实施例

以成为所希望的组成的方式将玻璃原料投入图1、2所示的熔化槽 10的投料口，制造T_η为1500～1760℃的无碱玻璃。图1、2所示的熔化 槽10的各部的尺寸如下所述。

熔融玻璃流路的长度L_F：16～25m

熔融玻璃流路的宽度：5.5～9m

从熔融玻璃流路的上游端到第一扩散器13的列为止的距离： 0.43L_F～0.46L_F

从熔融玻璃流路的下游端到第二扩散器14的列为止的距离： 0.47L_F～0.54L_F

第一扩散器13的列与第二扩散器14的列之间的距离L_P： 600～800mm

扩散器的列方向上的各个扩散器13、14的间距p：400～700mm

熔化槽内的熔融玻璃的流路方向上的、第一扩散器13的列与在该 列的上游侧最接近该列的燃烧器15之间的距离_LB1：500～1500mm

熔化槽内的熔融玻璃的流路方向上的、第二扩散器14的列与在该 列的下游侧最接近该列的燃烧器15之间的距离L_B2：1000～2000mm

L_B2-L_B1≥500mm

熔化槽内的熔融玻璃的流路方向上的、各个燃烧器间的距离： 800～2400mm

来自第一扩散器13的平均流量V₁及来自第二扩散器14的平均流 量V₂调整成满足下述条件。

V₁：1.8～2.6升/分

V₂：0.9～2.0升/分

V₁-V₂≥0.6升/分

通过燃烧器15中的燃烧，第一扩散器13的上方的环境温度T₁及 第二扩散器14的上方的环境温度T₂保持为下述条件。需要说明的是， T₁及T₂利用上述的方法来测定。

T₁：1590～1710℃

T₂：1580～1675℃

T₁-T₂：10～35℃

熔化槽10内的上游侧循环流100的平均流速F₁及下游侧循环流 101的平均流速F₂通过上述的方法来测定。结果如下所述。

F₁＝8～15m/小时

F₂＝1～4m/小时

通过利用上述的条件来实施，而制造出T_η为1500～1760℃且均匀 性高的高品质的无碱玻璃。

以上详细而且参照特定的实施方式说明了本发明，但对于本领域 技术人员而言，不脱离本发明的精神和范围而能够施加各种变更或修 正的情况不言自明。

本申请基于2009年9月24日提出申请的日本专利申请 2009-219347，并将其内容作为参照包含于此。

工业实用性

本发明的熔融玻璃制造装置及熔融玻璃制造方法适合于均匀性高 的高品质的无碱玻璃的生产。而且，本发明的平板玻璃制造方法能够 制造出均匀性高且透明性高的平板玻璃，因此适合于FPD用的基板的 制造。

标号说明

10：熔化槽

11：投料口

12：排出口

13：第一扩散器

14：第二扩散器

15：燃烧器

16：来自第一扩散器的气体

17：来自第二扩散器的气体

20：下游侧的导管

100：上游侧循环流

101：下游侧循环流