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反射投影成像投影图中心的对准方法

摘要

一种反射投影成像投影图中心的对准方法,该方法利用特征点对反射投影中心进行粗对准,再使用相位恢复算法对投影中心进行进一步对准的方法。本发明方法将相位恢复算法和特征点对准相结合应用到反射层析激光雷达投影成像中,可有效改善反射层析目标成像质量。

著录项

  • 公开/公告号CN102176005A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-09-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201010612539.4

  • 申请日2010-12-24

  • 分类号G01S7/497(20060101);G01S17/89(20060101);

  • 代理机构31213 上海新天专利代理有限公司;

  • 代理人张泽纯

  • 地址 201800 上海市800-211邮政信箱

  • 入库时间 2023-12-18 03:08:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-06-19

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):A61B6/03 申请公布日:20110907 申请日:20101224

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-11-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01S7/497 申请日:20101224

    实质审查的生效

  • 2011-09-07

    公开

    公开

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