法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-08-28
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B01D67/00 申请公布日:20110525 申请日:20101207
发明专利申请公布后的视为撤回
2011-07-06
实质审查的生效 IPC(主分类):B01D67/00 申请日:20101207
实质审查的生效
2011-05-25
公开
公开
机译: 等离子体沉积方法,包括提供一种或多种羽毛以提供涂层材料以提供等离子体放电反应器,以及通过沉积等离子体在一种或多种羽毛的表面上沉积涂层材料的膜;用笔书写;结构体;综合;和文章。
机译: 双极性等离子体源,等离子体片源和利用双极性等离子体源的融合细胞以及利用一种所述来源产生等离子体的方法
机译: 气体例如氩气,一种用于硅晶片加工/转移设备的真空室的泄漏检测方法,涉及产生气体等离子体并检测在等离子体发射的辐射光谱中测试气体的光谱线的存在