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多光谱均匀面光源

摘要

本发明属于光学精密测量技术领域,涉及一种多光谱均匀面光源,可用于生成多光谱均匀发光面,适用于相机等光电成像设备的像面均匀性与光谱响应检测。本发明包括机壳,以及固定在机壳内部的光源控制器与光源驱动器,还包括匀光系统和多光谱LED阵列,其中匀光系统固定在机壳的出光口上,多光谱LED阵列固定于机壳内部,多光谱LED阵列射出的多光谱光线透过匀光系统后由机壳的出光口射出。匀光板散射多光谱LED阵列发出的光线,生成多光谱的均匀朗伯面,朗伯面的照度可调,光源具有亮度高、体积小的优点,可以实现光谱轮闪与多光谱混色,可以满足光电成像系统像面均匀性与光谱动态响应的快速检测与标定需求。

著录项

  • 公开/公告号CN101788115A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN200910237437.6

  • 申请日2009-11-06

  • 分类号F21S8/00;F21V15/02;F21V5/08;F21V9/00;F21V23/00;F21Y101/02;

  • 代理机构北京理工大学专利中心;

  • 代理人张利萍

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2023-12-18 00:01:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-12-28

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):F21S8/00 公开日:20100728 申请日:20091106

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-09-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):F21S8/00 申请日:20091106

    实质审查的生效

  • 2010-07-28

    公开

    公开

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