信息记录媒体用玻璃基板、信息记录媒体用玻璃基板的制造方法及信息记录媒体

摘要

本发明提供一种信息记录媒体用玻璃基板、该信息记录媒体用玻璃基板的制造方法以及采用该信息记录媒体用玻璃基板的信息记录媒体，其中信息记录媒体用玻璃基板能够在兼备高强度高平坦度的同时以低成本进行制造。该信息记录媒体用玻璃基板，其玻璃基板的外周端面及内周端面的被化学强化了的区域中的玻璃基板厚度方向中央的离子浓度，在以K+离子浓度的最大值为W1，K+离子浓度为最大之位置上的Na+离子浓度为W2，玻璃基板没有被化学强化的区域中的K+离子浓度为W3时，满足0.1≤(W1－W3)/W2≤5。

说明书

技术领域

本发明涉及信息记录媒体用玻璃基板及其制造方法以及信息记录媒体，所述信息记录媒体用玻璃基板用于信息记录媒体，该信息记录媒体具有利用了磁、光、光磁等属性的记录层。

背景技术

具有利用磁、光、光磁等属性的记录层的信息记录媒体中，代表性的有磁盘。作为磁盘用基板以往广泛使用铝基板。但近年来伴随记录密度提高要求磁头浮起量降低，使用玻璃基板作为磁盘用基板的比例增多，该玻璃基板与铝基板相比表面平滑性优异且表面缺陷少，能够实现降低磁头的浮起量。

这种磁盘等信息记录媒体用玻璃基板的制造方法中，为了提高玻璃基板的耐冲击性和耐振性，防止冲击和振动引起的基板破损，一般是在玻璃基板表面实施化学强化处理，对玻璃基板进行强化。化学强化处理通常通过离子交换法进行，具体是将玻璃基板浸放在化学强化处理液中，以化学强化处理液中的K⁺等离子对玻璃基板表层的Na⁺等离子进行离子交换，由此在玻璃基板的表面形成压缩应力层。

化学强化处理后为了除去化学强化处理液引起的浸蚀和微细的伤痕等确保必要的平滑性，多数场合是对被化学强化处理的表面进行研磨加工。但是该研磨加工致使玻璃基板表面形成的压缩应力层的一部分被除去，这样破坏了玻璃基板表面和反面的应力平衡，玻璃基板翘起平坦度劣化，存在问题。

为了防止上述平坦度的劣化，有一种磁性记录媒体用玻璃基板被提案，其中，使化学强化处理后的研磨带来的玻璃基板厚度方向的减少量，单面大于0μm小于等于0.4μm(参照例如专利文献1)。

专利文献1：特开平11-268932号公报

但是，即使化学强化处理后的研磨引起的玻璃基板厚度方向的减少量在上述专利文献1中记载的范围，为了防止玻璃基板平坦度的劣化还必须使玻璃基板的表面和反面的减少量严密一致，而为此需要大量的劳力和时间，导致制造成本上升，存在问题。

发明内容

本发明鉴于上述技术课题，以提供一种信息记录媒体用玻璃基板、该信息记录媒体用玻璃基板的制造方法以及采用该信息记录媒体用玻璃基板的信息记录媒体为目的，该信息记录媒体用玻璃基板能够在兼备高强度高平坦度的同时以低成本进行制造。

为了解决上述课题，本发明具有以下特征。

1.一种信息记录媒体用玻璃基板，是具有中心孔的圆板状玻璃基板，成分中至少含有Na₂O，外周端面及内周端面上具有用含K⁺离子的化学强化处理液作了化学强化的区域，信息记录媒体用玻璃基板的特征在于，

所述玻璃基板的外周端面及内周端面的所述被化学强化了的区域中的所述玻璃基板厚度方向中央的离子浓度，在以K⁺离子浓度的最大值为W1，K⁺离子浓度为最大之位置上的Na⁺离子浓度为W2，所述玻璃基板没有被化学强化的区域中的K⁺离子浓度为W3时，为0.1≤(W1-W3)/W2≤5。

2.一种信息记录媒体用玻璃基板，是具有中心孔的圆板状玻璃基板，成分中至少含有Na₂O，外周端面及内周端面上具有用含K⁺离子的化学强化处理液作了化学强化的区域，信息记录媒体用玻璃基板的特征在于，

所述玻璃基板的外周端面及内周端面的所述被化学强化了的区域中的所述玻璃基板厚度方向中央的离子浓度，在以K⁺离子浓度的最大值为W1，K⁺离子浓度为最大之位置上的Na⁺离子浓度为W2，所述玻璃基板没有被化学强化的区域中的K⁺离子浓度为W3时，为1≤(W1-W3)/W2≤5。

3.上述1或2中记载的信息记录媒体用玻璃基板，其特征在于，所述K⁺离子浓度为最大的位置，是在离开所述玻璃基板外周端面及内周端面的内部。

4.上述1至3的任何一项中记载的信息记录媒体用玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的成分中含有Na₂O和Li₂O。

5.一种信息记录媒体用玻璃基板的制造方法，包括化学强化工序，该化学强化工序是用含K⁺离子的化学强化处理液，化学强化具有中心孔的圆板状的、成分中至少含有Na₂O的玻璃基板作，信息记录媒体用玻璃基板制造方法的特征在于，

所述化学强化工序使得：

所述玻璃基板的外周端面及内周端面的所述被化学强化了的区域中的所述玻璃基板厚度方向中央的离子浓度，在以K⁺离子浓度的最大值为W1，K⁺离子浓度为最大之位置上的Na⁺离子浓度为W2，所述玻璃基板没有被化学强化的区域中的K⁺离子浓度为W3时，为0.1≤(W1-W3)/W2≤5。

6.一种信息记录媒体用玻璃基板的制造方法，包括化学强化工序，该化学强化工序是用含K⁺离子的化学强化处理液，化学强化具有中心孔的圆板状的、成分中至少含有Na₂O的玻璃基板，信息记录媒体用玻璃基板制造方法的特征在于，

所述化学强化工序使得：

所述玻璃基板的外周端面及内周端面的所述被化学强化了的区域中的所述玻璃基板厚度方向中央的离子浓度，在以K⁺离子浓度的最大值为W1，K⁺离子浓度为最大之位置上的Na⁺离子浓度为W2，所述玻璃基板没有被化学强化的区域中的K⁺离子浓度为W3时，为1≤(W1-W3)/W2≤5。

7.上述5或6中记载的信息记录媒体用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述K⁺离子浓度为最大的位置，是在离开所述玻璃基板的外周端面及内周端面的内部。

8.一种信息记录媒体，其特征在于，在上述1至4的任何一项中记载的信息记录媒体用玻璃基板上至少形成记录层。

9.上述8中记载的信息记录媒体，其特征在于，所述记录层是磁性层。

根据本发明，通过使玻璃基板的外周端面及内周端面的被化学强化了的区域的K⁺离子浓度和Na⁺离子浓度在所定范围，这样能够保持玻璃基板外周端面及内周端面的应力平衡，所以能够提供能够在兼备高强度和高平坦度的同时以低成本制造的信息记录媒体用玻璃基板、该信息记录媒体用玻璃基板的制造方法，以及采用了该信息记录媒体用玻璃基板的信息记录媒体。

附图说明

图1：本发明实施方式的玻璃基板10的外周端面附近的截面放大图，上述对应位置的离开玻璃基板外周端面的距离与离子浓度的关系示意曲线。

图2：本发明另一实施方式的玻璃基板10b的外周端面附近的截面放大图，上述对应位置的离开玻璃基板外周端面的距离与离子浓度的关系示意曲线。

图3：本发明的信息记录媒体用玻璃基板的一例示意图。

图4：本发明的信息记录媒体用玻璃基板的另一例示意图。

图5：实施例采用的圆环弯曲试验机20的模式图。

符号说明

10、10a、10b  玻璃基板

11、11a、11b  表面

12、12a、12b  反面

13 中心孔

14 外周端面

15 内周端面

16、17 去角部

18 被化学强化了的区域

19 没有被化学强化的区域

具体实施方式

以下参照附图详细说明本发明的实施方式。

[信息记录媒体用玻璃基板]

图3是本发明信息记录媒体用玻璃基板的一例示意图。图3(a)是立体图图3(b)是截面图。玻璃基板10是具有中心孔13的圆板状玻璃基板，具有为形成了记录层的面的表面11以及反面12。外周端面14及内周端面15上分别设去角部16及17。

另外玻璃基板10上有没有被化学强化的区域19和被化学强化了的区域18。所谓被化学强化了的区域18，是通过将玻璃基板浸在被加热了的化学强化处理液中，玻璃基板成分的Na⁺离子的至少一部分被离子半径大于它的K⁺离子置换了的区域，由于离子半径不同产生变形，被化学强化了的区域18中产生压缩应力，玻璃基板被强化。

图4是本发明信息记录媒体用玻璃基板的另一例示意图。图4(a)是使化学强化处理后的研磨量为较大情况时玻璃基板10a的截面示意图，图4(b)是使化学强化处理后的研磨量为更大情况时玻璃基板10b的截面示意图。图4(a)中的玻璃基板10a由于研磨表面11a及反面12a，表面11a及反面12a上留有的被化学强化了的区域的深度，比外周端面14及内周端面15上留有的被化学强化了的区域的深度浅。图4(b)中的玻璃基板10b因为表面11a及反面12a的研磨量更大，所以表面11b及反面12b上直接露出没有被化学强化的区域19，被化学强化的区域18只存在于外周端面14及内周端面15。

如上所述，本发明的信息记录媒体用玻璃基板，对表面及反面是否留有被化学强化了的区域或被化学强化了的区域的深度等没有特别限定，只要至少在外周端面及内周端面存在被化学强化了的区域即可。

被化学强化了的区域中，不仅仅是玻璃基板成分的Na⁺离子被K⁺离子置换，在作为玻璃基板的成分并且含有Li⁺离子的情况时，也可以是Li⁺离子被Na⁺离子和K⁺离子置换。

作为玻璃基板的材料，只要是成份中至少含有Na₂O，浸在含有K⁺离子的化学强化处理液中时能够离子交换的玻璃，没有特殊限定。可以使用例如以SiO₂、Na₂O、CaO为主要成分的苏打石灰玻璃；以SiO₂、Al₂O₃、R₂O(R＝K、Na、Li)为主要成分的水合硅酸铝玻璃；硼硅酸盐玻璃；Li₂O-SiO₂系玻璃；Li₂O-Al₂O₃-SiO₂系玻璃；R’O-Al₂O₃-SiO₂系玻璃(R’＝Mg、Ca、Sr、Ba)等。其中，水合硅酸铝玻璃和硼硅酸盐玻璃因为耐冲击性和耐振性优异尤其优选。另外，从化学强化时能够效率较高地进行离子交换之观点出发，优选使用成分中含有Na₂O和Li₂O的玻璃。

对玻璃基板的大小没有限定。可以采用例如外径为2.5英寸、1.8英寸、1英寸、0.8英寸等各种大小的玻璃基板。另外对玻璃基板的厚度也没有限定。可以使用例如2mm、1mm、0.63mm等各种厚度的玻璃基板。

本发明者为了解决化学强化处理后玻璃基板的平坦度恶化之上述课题，进行了锐意检讨，发现玻璃基板外周端面及内周端面的应力大大影响玻璃基板的平坦度。并且进行继续检讨的结果发现：通过使外周端面及内周端面被强化处理了的区域中的K⁺离子浓度及Na⁺离子浓度在所定范围，则能够防止玻璃基板的平坦度恶化。具体如下，通过使玻璃基板的外周端面及内周端面被化学强化了的区域中的玻璃基板厚度方向中央的离子浓度，在以K⁺离子浓度的最大值为W1，K⁺离子浓度为最大之位置上的Na⁺离子浓度为W2，玻璃基板没有被化学强化的区域中的K⁺离子浓度为W3时，满足0.1≤(W1-W3)/W2≤5，较优选满足1≤(W1-W3)/W2≤5，这样玻璃基板外周端面及内周端面的应力平衡，能够防止玻璃基板的平坦度恶化。

图1是本发明实施方式的玻璃基板10外周端面附近的放大截面图，上述对应位置的离开玻璃基板外周端面的距离与离子浓度的关系示意曲线。该曲线表示玻璃基板厚度方向中央的K⁺离子浓度及Na⁺离子浓度。图1的曲线中，离端面距离L2的右侧(玻璃基板的中心侧)是没有被化学强化的区域19，距离L2的左侧(玻璃基板的端面侧)是被化学强化了的区域18。

作为玻璃基板10的材料，因为使用成分中不含K₂O的玻璃，所以玻璃基板10没有被化学强化的区域19中的K⁺离子浓度(W3)为0。K⁺离子浓度在被化学强化了的区域18中是随着接近玻璃基板的端面而慢慢增加。化学强化处理刚结束的玻璃基板如曲线所示，K⁺离子浓度在端面最大。之后由于化学强化处理后的洗净等，端面附近的K⁺离子洗脱减少，如曲线中的实线所示，K⁺离子浓度最大(W1)的位置是在离开端面L1距离的内部。K⁺离子浓度可以在端面最大，但是优选在离开端面的内部位置为最大(W1)。通过在离开端面的内部位置为最大(W1)，这样能够抑制过度的离子扩散，表面附近的K⁺离子分布处于安定状态，抑制衰变和温度引起的变化，常时维持安定的应力分布状态，可谓优选。作为洗净液，可以采用纯水、离子交换水、离子水、臭氧水、超纯水、蒸馏水、双氧水等周知的洗净水，还可以采用使用了盐酸、硫酸、硝酸、乙二酸、醋酸、柠檬酸、氢氟酸等酸类或NaOH、KOH等碱成分的周知的玻璃基板洗净水溶液。

Na⁺离子浓度在没有被化学强化的区域19中为一定，但是在被化学强化了的区域18中是随接近玻璃基板端面而慢慢减少，在端面为最小。使K⁺离子浓度为最大的位置(L1)上的Na⁺离子浓度为W2。

K⁺离子浓度在端面为最大时只要使端面的K⁺离子浓度为W1端面的Na⁺离子浓度为W2即可。图1中仅对玻璃基板10外周端面14附近作了放大图示，但是玻璃基板10内周端面15附近也具有与外周端面14附近相同的离子浓度分布。(W1-W3)/W2不到0.1时，玻璃基板中含有的Na⁺离子与化学强化处理液中含有的K⁺离子的离子交换不足，不能得到作为信息记录媒体用玻璃基板所必需的强度。(W1-W3)/W2在0.1以上不到1时，端部发生的压缩应力不充分，有时不能充分发挥所需的强度特性，不优选。反之(W1-W3)/W2大于5时，离子交换过剩，由于外周端面和内周端面中存在超过需要的应力，容易引起玻璃基板的平坦度恶化。

图2是本发明另一实施方式的玻璃基板10b的外周端面附近的放大截面图，上述对应位置的离开玻璃基板外周端面的距离与离子浓度的关系示意曲线。玻璃基板10b的表面11b及反面12b没有被化学强化的区域19直接露出，被化学强化了的区域18只存在于外周端面14及内周端面15。图2的曲线表示玻璃基板厚度方向中央的K⁺离子浓度及Na⁺离子浓度。图2的曲线中，离端面距离L2的右侧(玻璃基板的中心侧)是没有被化学强化的区域19，L2的左侧(玻璃基板的端面侧)是被化学强化了的区域18。

与图1的情况不同，作为玻璃基板10b的材料因为使用成分中含有K₂O的玻璃，所以玻璃基板10b没有被化学强化的区域19中K⁺离子浓度(W3)不为0，显示一定值。K⁺离子浓度在被化学强化了的区域18中随接近玻璃基板端面而慢慢增加，在稍微离开端面的内部位置(L1)为最大(W1)。

Na⁺离子浓度在没有被化学强化的区域19中为一定，但是在被化学强化了的区域18中是随接近玻璃基板端面而慢慢减少，在端面为最小。使K⁺离子浓度为最大之位置(L1)上的Na⁺离子浓度为W2。

这种玻璃基板10b的情况也与图1的玻璃基板10相同，通过满足0.1≤(W1-W3)/W2≤5，较优选满足1≤(W1-W3)/W2≤5，这样玻璃基板外周端面及内周端面的应力平衡，能够防止玻璃基板的平坦度恶化。

[信息记录媒体用玻璃基板的制造方法]

信息记录媒体用玻璃基板的制造一般经过坯料制作工序、内外周加工工序、研削研磨工序、化学强化工序、洗净工序等工序。坯料制作工序是形成作为信息记录媒体用玻璃基板基础的坯料，周知的有模压成型熔融玻璃的制作方法，还有切断片状玻璃的制作方法。内外周加工工序是穿孔加工中心孔以及为了确保外周端面和内周端面的形状和尺寸精度的研削加工和内外周端面的研磨加工等。研削研磨工序是为了使形成记录层的面满足平坦度和表面粗细而进行的研削加工和研磨加工。通常大多数情况下是分粗研削加工、精研削加工、1次研磨加工、2次研磨加工等几个阶段进行。化学强化工序是将玻璃基板浸在化学强化处理液中对玻璃基板进行强化。洗净工序是除去残留在玻璃基板表面的研磨剂和化学强处理液等异物。

上述一系列工序内，本发明信息记录媒体用玻璃基板的制造方法主要是在化学强化工序中具有特征。本发明中，可以在研削研磨工序完成之后进行化学强化工序，也可以先进行化学强化工序然后进行研削研磨工序。另外还可以在研削研磨工序进展到某一阶段时进行化学强化工序，然后再进行研削研磨工序乘下的工序直至完成。

本发明信息记录媒体用玻璃基板的制造方法还可以有上述之外的各种工序。例如可以有用来缓和玻璃基板内部变形的退火工序、用来确认玻璃基板强度可靠性的热休克工序、各种检查评价工序等。

[化学强化工序]

化学强化工序是通过离子交换法进行的，即将玻璃基板浸在被加热了的化学强化处理液中，化学强化处理液中含有的K⁺离子置换玻璃基板中含有的Na⁺离子。由于离子半径不同产生的变形，被离子交换的区域中发生压缩应力，玻璃基板的表面被强化。不仅仅是Na⁺离子与K⁺离子的离子交换，玻璃基板中含有的Li⁺离子与化学强化处理液中含有的Na⁺离子和K⁺离子的离子交换也可以并同进行。

作为化学强化处理液一般采用含K⁺离子的熔融盐或含K⁺离子和Na⁺离子的熔融盐。作为含Na⁺离子和K⁺离子的熔融盐，可以举出Na和K的硝酸盐、碳酸盐、硫酸盐和它们的混合熔融盐。其中，从熔点低能够防止玻璃基板变形之观点出发，优选采用硝酸盐。

尤其优选采用硝酸钾和硝酸钠以1∶3～50∶1范围的质量比率混合的熔融盐，较优选采用以1∶1～30∶1范围的质量比率混合的熔融盐为好。更优选采用以2∶1～15∶1范围的质量比率混合的熔融盐为好。

如果硝酸钾和硝酸钠的混合比率小于下限值50∶1的话，离子交换速度急剧下降难以得到充分的强化层(离子浓度变化的层)。另外如果硝酸钾和硝酸钠的混合比率大于上限值1∶3的话，Na离子的交换速度过剩，难以得到所望的离子浓度分布，应力过度发生变得不安定，平坦度恶化。

化学强化处理液被加热到比上述成分融解的温度还要高的高温。而化学强化处理液的加热温度太高的话，玻璃基板的温度升得太高，导致玻璃基板变形。因此，优选化学强化处理液的加热温度，是低于玻璃基板的玻璃转移点(Tg)的温度，更优选是低于玻璃转移点-50℃的温度。

外周端面及内周端面的K⁺离子浓度及Na⁺离子浓度由玻璃基板和化学强化处理液的种类、化学强化处理液的温度、浸放时间等决定。因此，根据所采用的玻璃基板和化学强化处理液的种类，通过适当设定化学强化处理液的温度和浸放时间，能够使外周端面及内周端面的K⁺离子浓度及N a⁺离子浓度在0.1≤(W1-W3)/W2≤5的范围，较优选是在1≤(W1-W3)/W2≤5的范围。通常，化学强化处理液的温度越高、浸放时间越长，(W1-W3)/W2的值越大，化学强化处理液的温度越低、浸放时间越短，(W1-W3)/W2的值越小。

为了防止由于被浸放到加热了的化学强化处理液中时的热冲击而发生的玻璃基板的破碎和微细的裂缝，可以有预热工序，即在浸入化学强化处理液之前在预热槽加热玻璃基板到所定温度。

[信息记录媒体]

通过在本发明的信息记录媒体用玻璃基板上至少形成记录层，便能够得到信息记录媒体。记录层没有特殊限定，可以采用利用了磁、光、光磁等属性的各种记录层，但是尤其适合于采用磁性层作为记录层的信息记录媒体(磁盘)的制造。

作为磁性层所用的磁性材料没有特殊限定，可以适宜选择采用周知的材料。可以举出例如以Co为主要成分的CoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPt、CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtSiO等。也可以是用非磁性膜(例如Cr、CrMo、CrV等)分割磁性层的降低了噪音的多层结构。

作为磁性层，除了上述Co类材料之外，也可以采用铁酸盐类、铁-稀土族类材料，以及在由SiO₂、BN等构成的非磁性膜中分散了Fe、Co、CoFe、CoNiPt等磁性粒子之构造的颗粒等。磁性层可以是面内型和垂直型的任何一种。

作为磁性膜的形成方法可以采用周知的方法。可以举出例如喷镀法、化学沉积法、旋涂法等。

可以进一步根据需要在磁盘中设下底层、保护层、润滑层等。这些层都可以适宜选择采用周知的材料。作为下底层的材料可以举出例如Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Ni等。作为保护层的材料，可以举出例如Cr、Cr合金、C、ZrO₂、SiO₂等。作为润滑层可以举出例如涂布由全氟聚醚(PFPE)等构成的液体润滑剂，根据需要进行加热处理的等。

【实施例】

[玻璃基板的制作]

采用水合硅酸铝玻璃作为玻璃材料，压榨成型熔融玻璃制作坯料。经内外周加工工序和研削研磨工序，做成外径65mm、内径20mm、厚度0.635mm的玻璃基板。表面粗细加工成正反都是算术平均高Ra(JIS  B0601∶2001)为0.4～0.5nm。平坦度(PV值)正反都不到1μm。平坦度的测定是采用加工成0.1μm以下水准的平面标准原器，通过干涉条纹的测定进行。

作为化学强化处理液，准备了硝酸钾(KNO₃)和硝酸钠(NaNO₃)的混合熔融盐。混合比是质量比1∶1。化学强化处理液的温度为400℃。

将20张玻璃基板装到搬送夹具上，连同搬送夹具一起浸入化学强化处理液中。如下表1所示，用从5分钟到1200分钟改变浸放时间之条件进行了化学强化处理。浸放所定时间之后，连同搬送夹具一起取出玻璃基板，通过超声波洗净机用纯水洗净残留的化学强化处理液，从搬送夹具取出玻璃基板。

[离子浓度的测定]

各条件各抽取2张玻璃基板，测定玻璃基板外周端面及内周端面的K⁺离子浓度及Na⁺离子浓度分布，求得W1、W2及W3，计算(W1-W3)/W2值。K⁺离子浓度和Na⁺离子浓度的测定用飞行时间型二次离子质量分析装置(Time of Flight(TOF)-SIMS)进行。

[平坦度的测定]

接下去，各条件各抽取5张玻璃基板进行平坦度(PV值)测定。平坦度的测定与化学强化处理前的基板相同，通过干涉条纹的测定进行。优选平坦度小，若超过5μm的话作为磁盘则性能上有问题。这里以平坦度5张的平均值在5μm以下的情况为良好(评价○)，超过5μm的情况为有问题(评价×)。

[用圆环弯曲强度试验所作的强度测定]

进一步各条件各抽取10张玻璃基板，通过圆环弯曲强度试验测定了玻璃基板的强度)。

图5是本实施例中采用的圆环弯曲试验机20的模式图。圆环弯曲试验机20是在支撑台23上放置玻璃基板30，由圆环状支撑外周31，在玻璃基板30的内周33上放置铁球22，中介铁球22通过加载21对玻璃基板30的内周33施加荷重，进行破坏试验。该方法与行业一般采用的作为硬盘用信息记录媒体强度实验的方法相同。

支撑台23是内径D＝63mm的圆筒形。铁球22是直径28.57mm的铁制球，质量100克左右，该质量与加载21施加的荷重相比能够忽视。铁球22碰触玻璃基板30内周33施加作用力，对外周31被支撑台23支撑的玻璃基板30施加弯曲应力。加载21的压下速度为0.5mm/分。

根据本发明者以往的经验，破坏强度小于100N的话，信息记录媒体用玻璃基板的破碎、缺损等破损引起的成品率降低显著。因此，这里以测定的10张玻璃基板的破坏强度全部在100N以上的情况为最良好(评价◎)、破坏强度在100N以上的玻璃基板在7张以上的情况为良好(评价○)、破坏强度在100N以上的玻璃基板不到7张的情况为有问题(评价×)，进行了评价。

[评价结果]

表1出示评价结果。综合判定栏的记号表示如下。

◎：平坦度的评价为○、破坏强度的评价为◎的情况。

○：平坦度、破坏强度的评价都为○的情况。

×：平坦度、破坏强度的评价都为×的情况。

[表1]

确认到：用玻璃基板的外周端面及内周端面的K⁺离子浓度及Na⁺离子浓度在0.1≤(W1-W3)/W2≤5范围之条件制作的基板，强度和平坦度都良好，综合判定结果为○或◎。

用(W1-W3)/W2值不到0.1之条件制作的比较例的基板，破坏强度的评价为×，用(W1-W3)/W2值超过5之条件制作的比较例的基板，平坦度的评价为×，各情况综合评定都为×，不能得到良好的信息记录媒体用玻璃基板。所作评价的所有玻璃基板，洗净后的K⁺离子浓度的最大(W1)的位置，在离开端部的内部位置。