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应用流化床反应器连续制备多晶硅的方法

摘要

提供了应用流化床反应器连续制备粒状多晶硅的方法,它能通过有效地除去反应器管内壁上累积的硅沉积物而稳定、长期地操作反应器。所述方法包括:(i)硅颗粒制备步骤,其中,在硅颗粒表面上发生硅沉积,而硅沉积物在包围反应区的反应器管内壁上累积;(ii)硅颗粒部分排出步骤,其中,将反应器管内残留的硅颗粒的一部分排出流化床反应器,以便硅颗粒的高度不超过反应气体出口的高度;以及(iii)硅沉积物去除步骤,其中,通过将蚀刻气体提供入反应区而除去硅沉积物。

著录项

  • 公开/公告号CN101400835A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-04-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 韩国化学研究院;

    申请/专利号CN200780008782.1

  • 发明设计人 金希永;尹卿求;朴容起;崔源春;

    申请日2007-06-14

  • 分类号C30B29/06(20060101);C30B25/00(20060101);

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人郭建新

  • 地址 韩国大田

  • 入库时间 2023-12-17 21:40:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-07-25

    授权

    授权

  • 2009-05-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-04-01

    公开

    公开

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