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电磁波屏蔽板的制造方法、由该方法制造的电磁波屏蔽板及使用该电磁波屏蔽板的滤波器和显示器

摘要

本发明涉及低成本制造电磁波屏蔽性、透光性及网状图案不可见性优良的电磁波屏蔽板的方法,该方法是在透明基材(1)的金属层(3)上通过印刷法印刷树脂层(4)的图案后,以树脂层(4)作为蚀刻掩模,过度蚀刻金属层(3),然后除去树脂层(4)中从残留的金属层(3)在板表面方向上突出的部分(5)。

著录项

  • 公开/公告号CN101189930A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-05-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东丽株式会社;

    申请/专利号CN200680019904.2

  • 申请日2006-06-14

  • 分类号H05K9/00;B32B15/08;G09F9/00;

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人杨宏军

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 20:11:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05K9/00 授权公告日:20100519 终止日期:20160614 申请日:20060614

    专利权的终止

  • 2010-05-19

    授权

    授权

  • 2008-07-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-05-28

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及用于等离子体显示面板(PDP)、阴极射线管(CRT) 等产生电磁波的图像显示部等的透明电磁波屏蔽板(shielding sheet)及 其制造方法、使用该电磁波屏蔽板的滤波器(filter)、显示器。

背景技术

近年来,由于由电器产品产生的电磁波对各种精密仪器、计量仪 器、数字机器类造成电波干扰,或给人体带来影响,所以,相关规定 逐渐严格。因此,电磁波排放已逐渐受法律限制,例如,有VCCI(民 间电磁干扰控制委员会(Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine))对电磁波排放的 规定。因此,在从图像显示部向装置外释放特别强的电磁波的PDP中, 将透光性电磁波屏蔽板与具有防反射或近红外线屏蔽等其他功能的 板合在一起作为前面滤波器直接安装到图像显示部,或者安装到用于 前面滤波器的玻璃或塑料等制成的透明基板上,然后设置到图像显示 部,屏蔽电磁波,从而使PDP遵守上述规定。

目前,作为上述透光性电磁波屏蔽板,提出经以下工序得到的电 磁波屏蔽板,所述工序如图2所示,在透明基材1上通过粘合层2层合 铜箔等金属层3后(a),贴合抗蚀剂膜6,利用包括曝光、显影(b)、 蚀刻(c)、剥离抗蚀剂(d)的光刻法在透明基材上设置形成了图案 的导电性金属层(专利文献1)。

作为在透明基材上设置形成了图案的导电性金属层的其他方法, 还提出以下方法:通过丝网印刷法或胶版印刷法进行蚀刻,形成抗蚀 剂图案,然后,蚀刻导电性金属层,最后剥离抗蚀剂的方法(专利文 献2、专利文献3)。

但是,使用层合在透明基材上的导电性金属层,制造透光性电磁 波屏蔽板的光刻法,虽然能同时毫无问题地形成能确保电磁波屏蔽性 和良好的透光性的细线图案,但是为了不使对比度等图像品质劣化, 必须使用对单面及/或两面进行了黑化处理的铜箔作为导电性金属层, 导致成本上升。另外,光刻法工序复杂且工期长,不能满足低成本化 的市场要求。此外,还提出了以下方案:为了同时满足电磁波屏蔽性 和显示器画面的可见性,在形成了图案的导电金属层上层合黑色抗蚀 剂层,不剥离黑色抗蚀剂,使其残留(专利文献4),但由于该方案 最终也是利用光刻法,所以不能说是一种能满足低成本化的市场要求 的方法。

另一方面,利用丝网印刷或胶版印刷形成透光性电磁波屏蔽板的 蚀刻图案的方法,能以简易的装置和简单的工序形成图案,且能在具 有影响对比度性能的金属光泽的导电性金属层上直接形成黑色树脂 层,从而能抑制晃眼感。因此,可以说是一种能充分满足低成本化的 市场要求的工序。但是,上述印刷法难以印刷高精细的线宽,难以形 成在网状图案不可见性方面优选的20μm以下的细线图案。而且,得 到的电磁波屏蔽板在透光性方面也存在问题。

专利文献1:专利第3388682号公报

专利文献2:特开2000-315890号公报

专利文献3:特开2000-323889号公报

专利文献4:特开平9-293989号公报

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够以低成本制造电磁波屏蔽性、透 光性及网状图案不可见性优良的电磁波屏蔽板的方法。

本发明为了解决上述课题,具有下述(1)~(6)的特征。

(1)电磁波屏蔽板的制造方法,所述方法通过印刷法在单面具 有金属层的透明基材的所述金属层上形成树脂层的图案,以所述树脂 层作为蚀刻掩模蚀刻所述金属层后,除去上述树脂层中从残留的金属 层在板表面方向上突出的部分。

(2)如上述(1)所述的电磁波屏蔽板的制造方法,其中,利用 粘合材料或超声波除去从所述金属层突出的部分。

(3)如上述(2)所述的电磁波屏蔽板的制造方法,其中,利用 超声波除去从所述金属层突出的部分时,将上述透明基材浸渍在液体 内。

(4)利用上述(1)~(3)中任一项所述的方法制造的电磁波屏 蔽板。

(5)具有上述(4)所述的电磁波屏蔽板和防反射层的滤波器。

(6)具有上述(5)所述的滤波器的显示器。

根据本发明,能提供一种透光性电磁波屏蔽板,所述电磁波屏蔽 板能够在透明基材上层合形成了细线图案的金属层、进而在金属层上 层合树脂层,所以,具有良好的电磁波屏蔽性和透光性,且不使对比 度和云纹(moire)等图像品质劣化。另外,在本发明中,制造电磁 波屏蔽板时,如图1所示,在单面具有金属层3的透明基材1(a)的所 述金属层3上,通过印刷法形成树脂层4的图案(b),通过化学蚀刻, 蚀刻该金属层3后(c),除去树脂层4中从残留的金属层3在板表面方 向上突出的部分5(d),由此能够通过印刷法等低成本方法形成由金 属层及树脂层组成的细线网状图案,进而能制造网状图案不可见性优 良的电磁波屏蔽板。另外,由于在金属层上形成树脂层,所以,制造 时不易损伤透明基材的未形成金属层的表面。而且,在贴合其他材料 的工序等中也不易损伤其他基材。

具体实施方式

本发明的电磁波屏蔽板的制造方法通过印刷法在单面具有金属 层的透明基材的所述金属层上形成树脂层的图案,以树脂层为蚀刻掩 模,蚀刻金属层后,除去树脂层中从残留的金属层在板表面方向上突 出的部分。即,通过在过度蚀刻的条件下进行蚀刻,能得到与作为蚀 刻掩模的树脂层相比线宽更细的金属层图案。然后,通过除去树脂层 中从残留的金属层在板表面方向上突出的部分,能使树脂层的线宽与 金属层的线宽一致。结果,如图1(d)所示,能够得到网状图案不可 见性优良的电磁波屏蔽板,所述电磁波屏蔽板在透明基材1上具有由 导电性金属层3形成的细线图案(线宽w例如为3μm~25μm),在该金 属层3上具有由树脂层4形成的同线宽的细线图案。在现有的光刻法、 印刷法中,必须用抗蚀剂剥离液剥离在蚀刻时用作掩模的抗蚀剂层, 但在本发明中,只需要除去树脂层4从残留的金属层3在板表面方向上 突出的部分即可,其他部分基本上不需要除去。所以,能以低成本制 造电磁波屏蔽性、透光性、及网状图案不可见性优良的电磁波屏蔽板。

作为透明基材1的材料,可以举出玻璃、塑料等,无特别限定, 从操作性方面考虑,优选能形成卷物状态的塑料膜。作为塑料膜,例 如,可以举出将以下树脂进行熔融或溶液制膜而形成的塑料膜,所述 树脂包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(以下记为PET)、聚萘二甲酸乙二 醇酯等聚酯类树脂、丙烯酸类树脂、聚碳酸酯树脂、或聚丙烯、聚乙 烯、聚丁烯、聚甲基戊烯等聚烯烃类树脂、或三乙酰基纤维素、二乙 酰基纤维素等纤维素类树脂、聚氯乙烯类树脂、聚酰胺类树脂、聚苯 乙烯类树脂、聚氨酯类树脂、聚砜类树脂、聚醚类树脂、聚丙烯腈类 树脂等。其中,从透明性、耐热性、耐化学药品性、成本等方面考虑, 最优选PET膜。

透明基材1可以使用由上述塑料膜单独或2种以上的混合物构成 的单层膜或2层以上的层合膜等,优选透明基材1的全光线透射率为85 %以上。

透明基材1的厚度可以根据用途进行选择,无特别限定。本发明 的电磁波屏蔽性显示器被用作普通的光学滤波器时,透明基材1的厚 度优选为25μm以上,进一步优选为50μm以上。作为上限,优选为 250μm以下,进一步优选为150μm以下。

为了在透明基材上设置金属层,透明基材必须具有相应的强度, 并优选具有25μm以上的厚度。厚度为50μm以上时,硬度变得更强, 加工时的操作性增强,故优选。需要说明的是,使用厚度不足50μm 的PET膜等作为透明基材时,可以与其他膜、例如具有屏蔽紫外线及/ 或红外线功能的PET膜、硬涂布PET膜等层合,增加膜厚。

膜通常从辊上放卷后使用。因此,如果膜的厚度在某一值以上, 则放卷时膜不易变成平面,而呈卷曲状态,从而需要将膜矫正成平面 的工序。但是,如果厚度为250μm以下,则不需要特别的工序,可以 直接使用上述膜,故优选。进而,如果厚度为150μm以下,则制成显 示器时,可以容易地得到充分的亮度,故而不需要使用高透明PET膜 等高成本的基材作为透明基材,所以较优选厚度为150μm以下。

另外,可以根据需要,在形成透明基材1的过程中或形成后,对 透明基材1进行电晕放电处理、臭氧喷射处理、等离子体处理、易粘 合底漆涂布处理等公知的易粘合处理。例如,使用市售的易粘合处理 PET膜时,也可以省略易粘合处理。

导电性金属层3可以使用铜、铝、镍、铁、金、银、不锈钢、铬、 钛等金属中的1种或组合2种以上得到的合金或多层金属层。考虑到用 于获得良好的电磁波屏蔽性的导电性、用于图案加工的蚀刻的容易 性、价格等方面,优选由铜、铝构成的金属层。另外,从显示器的图 像品质方面考虑,优选实施了可抑制由金属光泽引起的反射的处理的 金属层。例如,金属层由铜构成时,优选至少在单面进行了黑化处理 的金属层,金属层由铝构成时,优选至少在单面上进行了阳极氧化处 理的金属层。

金属层3的厚度优选为1μm以上,较优选为5μm以上。上限优选为 30μm以下,较优选为20μm以下。通过使金属层3的厚度为1μm以上, 能得到图案的线宽变窄、透光性提高、且具有有效的电磁波屏蔽性的 电磁波屏蔽板。另一方面,通过使金属层3的厚度为30μm以下,能缩 短蚀刻时间,进一步提高效率,同时能图案精度良好地进行精加工。 另外,斜视板时的透光率升高,因而使用该板的显示器的视场角增大。

作为在透明基材1上形成金属层3的方法,可以举出下述方法,即, 如图1所示通过粘合层2贴合导电性金属箔形成金属层3的方法(以下 称为金属箔层合法)。还可以举出真空蒸镀法、喷溅法、离子镀法、 化学蒸镀法、无电解及电解镀法等薄膜形成技术中的一种方法,或组 合二种以上方法得到的方法等,无特别限定。但是,例如,作为如上 所述形成厚度为1μm以上的金属层3的方法,从制造成本、容易性方 面考虑,优选金属箔层合法。

作为金属箔层合法中使用的粘合剂,没有特别限定,优选透明性、 耐热性、耐湿性、粘合性、层合适应性、操作性、及成本优良的粘合 剂。贴合铜箔、铝箔和PET薄膜时,优选聚氨酯类树脂、环氧类树脂 等固化型粘合剂,进一步优选使用聚酯多元醇或聚醚多元醇作为主 剂、使用异氰酸酯类固化剂作为固化剂的二液型固化粘合剂。

接下来,通过印刷法在金属层3上形成作为蚀刻掩模的树脂层4的 图案。作为形成方法,可以使用公知的各种印刷法,从印刷尺寸(宽 度、厚度)的精度及控制难易性方面考虑,优选胶版印刷法和丝网印 刷法。进一步优选单件产品生产时间(tact time)短、且对环境影响 小的使用了无水平版的胶版印刷法。

作为无水平版,可以使用市售的无水平版。具体包括使用光掩模 进行紫外线曝光形成图案的正型版、负型版、以及利用激光直接在版 上描绘的直描型CTP版,优选能印刷细线的负型版、或CTP版。

另外,特别是使用胶版印刷时,为了得到树脂层4的规定厚度, 可以重复印刷2次以上。

作为树脂层4,没有特别限定,优选对与构成金属层3的各种金属 对应的蚀刻液具有充分的耐化学药品性、且与金属层3的密合性良好 的固化型树脂。从操作性优良和利用简易的装置即可固化的方面考 虑,进一步优选被紫外线、电子射线等电离放射线固化的电离放射线 固化型树脂。

作为电离放射线固化型树脂,从适合印刷的粘度、光聚合引发剂、 聚合停止剂、着色剂、分散剂、均化剂、触变剂等各种添加剂的分散 性方面考虑,可以使用从公知的各种单体、低聚物、预聚物等中适当 选择、配合得到的树脂组合物。例如,可以举出甲基丙烯酸酯类、丙 烯酸酯类树脂组合物。

为了防止金属层3的金属光泽导致的表面反射,优选在树脂层4中 添加颜料、染料等着色剂、无机及/或有机粒子。其中,可以为对显示 器等的图像品质无影响的黑色物质,也可以是使用柯尼卡美能达 (KONICA MINOLTA SENSING)公司制分光测色计CM-2500d(光 学系统条件基于JIS Z8722(1982)的条件c),以D65为光源测定的 结果L*为40以下的物质。作为黑色着色剂,可以使用氧化铁、钛、 氧化铬等无机颜料、炭黑、苯胺黑、苝类黑色有机颜料、或染料和单 独使用时呈黑色的颜料等。也可以混合黄色、品红、青色3色着色剂 形成黑色。

为了有效地获得电磁波屏蔽性,树脂层4中可以含有金属粒子、 导电性碳粒子、碳纳米管、导电性高分子等导电性物质,以便于接地。

树脂层4的厚度优选为0.5μm以上、进一步优选为1μm以上。另外, 优选为10μm以下、进一步优选为6μm以下。通过使其厚度为0.5μm以 上,能够在蚀刻金属层时更准确地发挥作为掩模的功能。另一方面, 通过使其厚度为10μm以下,能够在蚀刻后容易地除去从残留的金属 层在板表面方向上突出的树脂层5(在树脂层下进行侧面蚀刻而导致 突出的一部分树脂层)。

需要说明的是,在本发明中,网状图案是指存在于最终得到的电 磁波屏蔽板的透光区域内的由金属层及树脂层形成的图形。

在电磁波屏蔽板上最终形成的网状图案的形状,只要是能充分确 保与板边缘部导通的形状即可,无特别限定。例如,可以举出几何图 形,为了提高透光性、及显示器的亮度,优选开口率为70%以上,进 一步优选开口率为80%以上。另一方面,从电磁波屏蔽性方面考虑, 优选开口率为95%以下,进一步优选开口率为90%以下。

网状图案中开口部的形状可以是符合显示器的规格的任意形状, 例如,可以举出以直线形状形成的等边三角形、等腰三角形、直角三 角形等三角形、正方形、长方形、菱形、平行四边形、梯形等四边形、 六边形、八边形、十二边形等其他多边形,或以曲线形状形成的圆形、 椭圆形、其他环形等,还可以将上述形状组合。另外,开口部的形状 不必是在整个板上为均一或周期性的形状,也可以是不均一的形状。 但是,从制造工序方面考虑,优选以直线形状形成的开口部,较优选 为三角形、四边形。以直线形状形成开口部时,除去在板表面方向上 突出的树脂时的操作变得容易进行。

为了确保图案的连续性,网状图案的线宽优选为3μm以上。另外, 在用于显示器时,为了得到充分的图像亮度,较优选线宽为25μm以 下。考虑到电磁波屏蔽性和防止云纹、不可见性等显示器的图像品质, 优选为5μm~15μm。

在本发明中,为了进一步提高电磁波屏蔽性,优选在最终的电磁 波屏蔽板上,金属层的图案连续不间断。因此,优选通过印刷设置的 树脂层的蚀刻图案也形成线连续不间断的形状。

通常情况下,电磁波屏蔽板的外周部分不必具有透光性。因此, 在电磁波屏蔽板的外周部,对开口部的形状、开口率无特别限定,也 可以是没有容易接地的开口部的封闭图案。

金属层3上形成的树脂层4的导电性低时可以如下除去,即,在接 地部分的周边部利用剥离液化学性地溶解剥离、机械性地削去等而除 去。

接下来,在金属层3上印刷了树脂层4的蚀刻图案后,以该树脂层 4作为掩模层蚀刻金属层3。作为蚀刻方法,可以使用利用适合金属层 3的公知的蚀刻液的浸渍法或利用喷嘴等进行的吹拂法(喷淋法)等。 作为蚀刻液,导电性金属是铜的情况下,例如可以选择氯化铁溶液、 氯化铜溶液等,导电性金属是铝的情况下,例如可以选择氢氧化钠溶 液等。另外,可以在蚀刻液中加入表面活性剂、沉淀封闭剂等公知的 添加剂。

在蚀刻金属层3前后,可以根据需要进行水洗、超声波清洗、防 锈处理、气刀处理(air knife)、加热干燥等。具体而言,在蚀刻前, 为了避免金属层上的杂物混入蚀刻液中,可以通过水洗或气刀处理除 去杂物。另一方面,在蚀刻后,可以冲洗板上附着的蚀刻液、或通过 气刀处理或加热干燥等除去水洗后残留在板上的水滴。还可以在蚀刻 后进行防锈加工,以防止金属层发生腐蚀。

在本发明中,蚀刻金属层3后,除去树脂层中从残留金属层在板 表面方向上突出的部分。因该金属的种类、蚀刻液及蚀刻方法的不同, 金属层3的蚀刻略有不同,但通常如下进行。即,如图4所示,蚀刻是 从印刷的树脂层4的图案边缘沿垂直方向进行,同时,也沿水平方向 进行。此时,设金属层3中被蚀刻的厚度为d、蚀刻前金属层3的露出 部的宽为w1、蚀刻后金属层3的露出部的宽为w2,用下式表示:

侧面蚀刻量s=(w2-w1)/2         (1)

蚀刻因子ef=d/s=2d/(w2-w1)    (2)。

上述(2)式中的蚀刻因子(etching factor)ef因构成金属层3的金 属种类、蚀刻液组成、蚀刻条件、蚀刻深度(在本发明中实质上相当 于金属层3的厚度)而不同,通常在1.0~3.0的范围内(金属蚀刻技术, 佐藤敏一编、槇书店、1973年、78页)。该蚀刻因子在1.0~3.0的范围 内,例如金属层3的厚度t为15μm时,侧面蚀刻量s为5μm~15μm。由此 可知,为了根据本发明能形成例如厚度为15μm、图案线宽为10μm的 金属层3,可以通过印刷法印刷图案线宽为20~40μm的树脂层4,蚀刻 后,除去树脂层4中从残留的金属层3沿板表面方向突出的部分(因侧 面蚀刻而向外伸出的树脂层5)。

在本发明中,作为蚀刻后除去树脂层4中从残留的金属层3沿板表 面方向突出的部分5的方法,可以举出在蚀刻后通过超声波使树脂层5 断裂后除去的方法、或使树脂层5转印到粘合橡胶辊、粘合辊、粘合 板、粘合胶带等粘合材料上进行粘合剥离的方法。从对透明基材造成 擦伤等缺陷的可能性低的方面考虑,优选前者。特别是在连同透明基 材一起浸渍在洗涤水等液体中的状态下施加超声波使树脂层5断裂 时,由于能够防止超声波的衰减,同时能够通过液体中产生的气穴 (cavitation)进一步确实地断裂树脂层,而且能够防止断裂的树脂层 重新附着在透明基材上,故优选。另一方面,从装置简单、维修容易 方面考虑优选后者,特别是进一步用粘合辊除去粘合橡胶辊和转印到 该粘合橡胶辊上的树脂层的装置容易维修,故优选。需要说明的是, 后者的方法优选在水洗、干燥后进行。

根据上述本发明,能够得到一种透光性电磁波屏蔽板,在得到的 电磁波屏蔽板中,树脂层4的网状图案的线宽与金属层3基材侧的网状 图案的线宽之比能达到0.95~1.05,且透光性和网状图案不可见性更优 良。线宽之比为0.95以上时,不发生金属层3导致的图像变差,故优选。 线宽之比为1.05以下时,开口率变大,透光性提高,故优选。

利用超声波断裂树脂层5时,可以使用超声波频率为16kHz以上的 装置。优选超声波的频率不在人的可听范围内、且除去力高的25kHz 以上。另一方面,频率过高时,由于除去力下降,故优选为50kHz以 下。在25~50kHz范围内,由于接近25kHz的超声波除去不均小,故较 优选。

在浸渍在洗涤水等液体中的状态下施加超声波使树脂层5断裂 时,试样和超声波振子的距离优选约为超声波在该液体中的波长的一 半的距离的自然数倍。所以,在超声波的频率为25kHz、且在水中进 行处理时,试样和超声波振子的距离优选为25~30mm、或55~60mm、 之后间隔30mm的距离。除此以外的距离除去力小,除去不充分的部 分变得不均匀,易残留。需要说明的是,该试样和超声波振子的最佳 距离由超声波的频率、在液体中的声速决定,也可以通过重合多个频 率的超声波扩大最佳范围。

另一方面,超声波振子与水面的距离优选大约为(超声波在该液 体中的波长的一半的距离的自然数倍)+(在该液体中的波长的四分 之一的距离)。

另外,使用多个振子进行上述处理时,为了降低除去不均,振子 的配置也是很重要的。即,通常是输送透明基材等连续地制造电磁波 屏蔽板,但优选在与该输送方向垂直的方向(以下称为交叉方向)上 以一定间隔配置多个振子。例如,使用直径为4mm的兰杰文 (Langevin)型振子(最大功率为50W)时,优选配置振子使交叉方 向上的2个振子的间距为30mm以下。通过使上述距离为30mm以下, 能防止振子间的部分的除去力降低。在难以使交叉方向上的2个振子 之间的间隔例如为30mm以下时,可以将振子的位置沿输送方向错开, 或者相对板输送方向倾斜放置设置了多个振子的箱体。由此,能缩小 交叉方向上振子的间隔,从而使间距达到例如30mm以下。其结果能 够制造除去不均小的板。需要说明的是,振子为单片式时,可以使板 相对振子移动,也可以使振子相对板移动。

如上所述制造的本发明的电磁波屏蔽板适合与防反射层等一起 设置到被安装在等离子体显示器等中的滤波器中。

显示器是通过将例如PDP、滤波器、电源电路、从视频信号转变 成适合PDP的电信号的电路等收纳到一个箱体中而构成,PDP与滤波 器的位置关系如后所述。需要说明的是,显示器的箱体中还可以设置 用于发出声音的扬声器及扬声器的驱动电路、电视电波接收信号电路 等。

使用本发明的电磁波屏蔽板的滤波器通常以下面2种方式中的任 一种安装在构成等离子体显示器的面板(以下称为PDP)上。一种方 式是在PDP的前面玻璃板上直接贴合电磁波屏蔽板,另一种方式是将 电磁波屏蔽板贴合在另外准备的玻璃板等上,然后在PDP前留出若干 空隙设置该贴合体。本发明的电磁波屏蔽板优选使用前者的方式。

在上述二种方式中,滤波器的结构分别如下所述。在前者的方式 中,例如从PDP侧开始为冲击吸收层、电磁波屏蔽板(透明基材在PDP 侧)、色调调整层、近红外线屏蔽层、及防反射层。在后者的方式中, 滤波器的结构为电磁波屏蔽板(具有图案的树脂层在PDP侧)、玻璃、 色调调整层、近红外线屏蔽层、及防反射层。

具有上述各功能的层可以是各自独立的层,也可以是发挥多种功 能的一层结构。对此没有特别限定,可以使用分别具有如下结构、组 成的层。

防反射层由低折射率层和高折射率层至少2层构成,并将高折射 率层配置在PDP侧。为了形成低折射率层,可以使用硅烷偶联剂、具 有烷氧基甲硅烷基的氟树脂。为了形成高折射率层,可以使用含有金 属化合物粒子的丙烯酸类树脂。并用金属化合物粒子能得到防带电效 果,并抑制灰尘附着在滤波器上,故优选。可以将各种树脂溶解于公 知的有机溶剂中,涂布在电磁波屏蔽板或另外准备的基材上。

近红外线屏蔽层可以通过在电磁波屏蔽板的透明基材或另外准 备的基材上涂布二亚胺鎓(diimmonium)型化合物等具有近红外线吸 收能力的色素而形成。此时,并用酞菁类化合物、花青类化合物、二 硫醇镍络合物类化合物能提高吸收能,故优选。

色调调整层例如可以通过在电磁波屏蔽板的透明基材或另外准 备的基材上涂布四氮杂卟啉(porphyrazine)类化合物等能吸收波长 590nm附近的可见光的色素而形成。另外,该色素可以与具有近红外 线吸收能力的色素并用,使用近高分子树脂粘合剂和公知的有机溶 剂,涂布到基材上。

实施例

下面说明各实施例、比较例的评价方法。

(1)全光线透射率

使用日本电色工业(株)制浊度计NDH2000、基于“塑料透明材 料的全光线透射率的试验方法”JIS K7361-1:1997测定全光线透射 率。对于电磁波屏蔽板,测定透明基材侧的全光线透射率,对于透明 基材,测定没有设置金属层的一侧的全光线透射率。在板的四个角和 板中央共计5个点进行测定,计算其平均值。全光线透射率在70%以 上为良好。

(2)蚀刻图案及网状图案的线宽、开口率

基于显微镜照片测定被印刷的树脂层的蚀刻图案的线宽(μm)、 及蚀刻后除去从残留的金属层在板表面方向上突出的树脂层后的网 状图案的线宽(μm)、开口率(%)。对于线宽、开口率,也对板 的四个角和板中央共计5个点进行测定,每个点测定3次,总计15个值, 计算其平均值。

需要说明的是,网状图案的开口率(%)利用以下计算式进行计 算。

·开口率(%)={(Om×Od)/(Pm×Pd)}×100

其中,网状图案为图3所示的图案,Pm(μm)和Pd(μm)分别是 由金属层3和树脂层4形成的格子之间的距离,Om(μm)和Op(μm) 为图案的开口宽度。

(3)树脂层的厚度

使用切片机,用扫描型电子显微镜(TOPCON制ABT-32、倍率 为2500倍)观察电磁波屏蔽板的截面,测定树脂层的厚度。以板的四 个角和板中央共计5个点作为测定点,每个点测定3次,总计15个值, 计算其平均值。

(4)金属层的厚度

通过金属箔层合法形成金属层时,在层合前,利用千分尺测定导 电金属箔自身的厚度,进而求出金属层的厚度(μm)。以板的四个 角和板中央共计5个点作为测定点,每个点测定3次,总计15个值,计 算其平均值。

利用真空蒸镀法、无电解及电解镀法等与上述金属箔层合法不同 的方法形成金属层时,或者不能用使用上述测微计的方法进行测定 时,用扫描型电子显微镜(TOPCON制ABT-32、倍率为2500倍)观 察屏蔽板金属层的截面,以板的四个角和板中央共计5个点作为测定 点,每个点测定3次,总计15个值,计算其平均值,作为金属层的厚 度(μm)。

(5)电磁波屏蔽性

使用ADVANTEST(株)制光谱分析系统(spectrum analyzer system)、屏蔽评价仪器(TR17031A),通过KEC(关西电子工业振 兴中心)法测定10MHz~1GHz的频率范围的电波衰减(dB)、磁波衰 减(dB)。

电波衰减(dB)、磁波衰减(dB)的值越大,表明屏蔽性越优良。 评价基准(市场要求)如下所述。电波衰减和磁波衰减都为“o”时, 电磁波屏蔽性良好。

电波衰减:40dB以上··○、低于40dB··×

磁波衰减:15dB以上··○、低于15dB··×

(6)不可见性

在普通房间的荧光灯下,从与电磁波屏蔽板相距0.5m处,观察电 磁波屏蔽板。评价基准如下所述。“○”表示良好。

不能辨认网状图案的几何图形的板…○

能辨认网状图案的几何图形的板…×

(7)画质(显示器画面的可见性)

在PDP画面的最前面贴合电磁波屏蔽板,使树脂层成为观察侧, 从正面、上下、左右等所有方向进行肉眼观察,基于以下基准进行评 价。“○”表示良好。

画面上不产生不均和晃眼…○

画面上产生不均或/及晃眼…×

(实施例1)

在全光线透射率93%、厚度100μm的PET薄膜(东丽公司制 “Lumirror”U34)上,使用干层合用二液型粘合剂(Toyo-Morton (株)制,主剂AD-7P1/固化剂CAT-10L)层合厚度为12μm的铜 箔(FURUKAWA CIRCUIT FOIL(株)制)作为金属层,得到导电 性金属片。然后,使用无水平版(东丽公司制负型TAN24E)及紫外 线固化型油墨((株)T&K TOKA制“BESTCURE”UV171黑油墨), 在导电性金属片的铜箔面上通过胶版印刷法(速度5m/min)印刷2 次线宽35μm、线间距250μm的格子状图案,然后进行UV固化,得到 厚度为3μm的格子状黑色树脂层。接下来,利用喷淋法,使用温度调 整至35℃~40℃范围内的氯化铁溶液蚀刻1.5分钟,除去没有印刷树脂 层的部分及树脂层的线宽端部下的铜箔,进行水洗、干燥。最后使用 粘合橡胶辊(TEKNEK社制清洁辊DCR、级别F)作为粘合材料,除 去黑色树脂层中从残留的铜箔在板表面突出的部分,得到具有格子状 网状图案(线宽11μm、线间距250μm、开口率90%)的透光性电磁波 屏蔽板。

对得到的透光性电磁波屏蔽板进行以下评价:根据(1)的方法 评价全光线透射率、根据(5)的方法评价电磁波屏蔽性、根据(6) 的方法评价不可见性、根据(7)的方法评价画质。

结果示于表1。

(实施例2)

在全光线透射率89%、厚度38μm的PET膜(东丽公司制“Lumirror” T60)上喷溅、电解镀铜作为金属层,得到厚度5μm的导电性金属片。 然后,利用与实施例1相同的方法在该导电性金属片的镀铜面上印刷 一次线宽17μm、线间距250μm的格子状图案,然后进行UV固化,形 成厚度1.5μm的格子状黑色树脂层。接下来,利用喷淋法,使用温度 调整至35℃~40℃范围内的氯化铁溶液蚀刻0.8分钟,除去没有印刷树 脂层的部分及树脂层的线宽端部下的铜,水洗,干燥。

接下来,利用与实施例1相同的方法除去黑色树脂层中从残留的 铜在板表面方向上突出的部分。然后,利用丙烯酸类粘合剂贴合该板 和全光线透射率92%、厚度100μm的PET膜(东丽公司制Lumirror U426),得到具有格子状网状图案(线宽7μm、线间距250μm、开口 率95%)的透光性电磁波屏蔽板。与实施例1相同地评价所得的透光 性电磁波屏蔽板。

结果示于表1。

(实施例3)

使用全光线透射率93%、厚度125m的PET膜代替全光线透射率93 %、厚度100μm的PET膜,使用厚度为10μm的铜箔(日本电解(株) 制)代替厚度为12μm的铜箔,除此以外,与实施例1相同地形成导电 性金属片,在所得导电性金属片的铜箔面上,使用NEWLONG精密工 业社制丝网印刷机LS-150型及二液环氧树脂固化型油墨(藤仓化成 (株)制“DOTITE”SH-3A),通过丝网印刷法(网眼#400、刮 板速度(squeegee speed)6m/min、刮板角度70度)印刷1次线宽 45μm、线间距300μm的格子状图案,然后在120℃下加热30分钟,形 成厚度为8μm的格子状黑色树脂层。然后,除了将蚀刻时间变为1.7 分钟以外,利用与实施例1相同的方法得到具有格子状网状图案(线 宽23μm、线间距300μm、开口率85%)的透光性电磁波屏蔽板。与实 施例1相同地评价所得的透光性电磁波屏蔽板。

结果示于表1。

(实施例4)

在全光线透射率92%、厚度100μm的PET膜(东丽公司制 “Lumirror”U426)上,使用干层合用二液型粘合剂(大日本油墨 化学工业(株)制“DICDRY”主剂LX-901/固化剂KW-75)层合 厚度15μm的铝箔(日本制箔(株)制)作为金属层,得到导电性金 属片。然后,在该导电性金属片的铝箔面上利用丝网印刷法与实施例 3相同地印刷线宽45μm、线间距300μm的格子状图案,形成厚度8μm 的格子状黑色树脂层。然后,利用喷淋法,使用温度调整至45℃~50℃ 的范围的氢氧化钠溶液蚀刻3.5分钟,除去没有印刷树脂层的部分及树 脂层的线宽端部下的铝箔,然后在水洗过程中,用尼龙制清洗刷除去 黑色树脂层中从残留的铝箔在板表面方向上突出的部分,进行干燥, 得到具有格子状导电性图案(线宽15μm、线间距300μm、开口率93 %)的透光性电磁波屏蔽板。与实施例1相同地评价所得的透光性电 磁波屏蔽板。

结果示于表1。

(实施例5)

利用与实施例1相同的方法得到导电性金属片,形成黑色树脂层, 进行蚀刻,除去没有印刷树脂层的部分及树脂层的线宽端部下的铜 箔。然后,一边进行水洗一边用超声波除去黑色树脂层中从残留的铜 箔在板表面方向上突出的部分,进行干燥,得到具有格子状导电性图 案(线宽11μm、线间距250μm、开口率90%)的透光性电磁波屏蔽板。

用超声波除去树脂时,在板输送方向并列2台S&C日本制 Aqua-tron600作为洗涤槽,并使垂直于输送方向的振子的间隔为 25mm。超声波的振荡频率为25kHz,振子面的水深为70mm,板的输 送速度为1.5m/min、输送位置在距离振子面25mm处。

与实施例1相同地评价所得的透光性电磁波屏蔽板。

结果示于表1。

(实施例6)

除了板的输送位置在距离振子面40mm处以外,与实施例5相同地 制成透光性电磁波屏蔽板,进行评价。

结果示于表1。

(比较例1)

蚀刻后不用粘合材料除去从残留的铜箔在板表面方向上突出的 黑色树脂层,除此之外,与实施例1相同地形成透光性电磁波屏蔽板, 与实施例1相同地进行评价。

结果示于表1。

(比较例2)

利用研磨垫完全除去与实施例1相同地制成的透光性电磁波屏蔽 板的树脂层,与实施例1相同地进行评价。结果示于表1。

表1

项目   实施例1     实施例2   实施例3   实施例4 实施例5 实施例6 比较例1 比较例2 透明基材 材料   PET     PET/PET   PET   PET   PET   PET   PET   PET 厚度(μm)   100     38/100   125   100   100   100   100   100 导电性金 属层 材料   铜箔     镀铜   铜箔   铝箔   铜箔   铜箔   铜箔   铜箔 厚度(μm)   12     5   10   15   12   12   12   12 树脂层 材料   UV油墨     UV油墨   二液固化   二液固化   UV油墨   UV油墨   UV油墨   UV油墨 厚度(μm)   3     1.5   8   8   3   3   3   3 树脂层印刷方法   胶版印刷     胶版印刷   丝网印刷   丝网印刷   胶版印刷   胶版印刷   胶版印刷   胶版印刷 树脂层印 刷图案 线宽(μm)   35     17   45   45   35   35   35   35 间距(μm)   250     250   300   300   250   250   250   250 电磁波屏 蔽板 线宽(μm)   11     7   23   15   11   13   35   11 间距(μm)   250     250   300   300   250   250   250   250 开口率(%)   90     95   85   93   89   87   69   90 特性 全光线透射率(%)   83     81   78   84   82   80   62   83 不可见性   ○     ○   ○   ○   ○   ○   ×   × 画质   ○     ○   ○   ○   ○   ○   ○   × 电磁波屏蔽性 电场/磁场   ○/○     ○/○   ○/○   ○/○   ○/○   ○/○   ○/○   ○/○

实施例1~实施例6都满足市场所要求的“透光性”、“电磁波屏蔽 性”、“不可见性”、“不使画质劣化”。实施例6在电磁波屏蔽性、网状 图案不可见性、画质方面没有差别,但用显微镜观察时,可观察到若 干从金属层突出的树脂层没有被完全除去的部分。比较例1由于没有 在蚀刻后除去从残留的铜箔在板表面方向上突出的黑色树脂层,所以 导电性图案的线宽变宽,肉眼观察时可见格子状图案。比较例2可见 金属层的光泽,网状图案不可见性变差。而且,铜箔的色调使图像的 色调发生变化,所以不能重现图像本来的色调。

产业上的可利用性

本发明可以用作屏蔽产生电磁波的等离子体显示面板(PDP)、 阴极射线管(CRT)等图像显示部分等中的电磁波的板。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式之一的透光性电磁波屏蔽板的制造 工序图(简图)。

图2是利用现有的光刻法制造透光性电磁波屏蔽板的工序(简 图)。

图3是表示实施例中制造的透光性电磁波屏蔽板的网状图案的简 图。

图4是说明蚀刻时的侧面蚀刻及蚀刻因子的简图。

符号说明

1…透明基材

2…粘合层(或透明基材的表面处理层)

3…金属层

4…通过印刷法形成的树脂层

5…蚀刻后从残留的金属层在板表面方向上突出的树脂层

6…抗蚀剂膜

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