法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-01-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B5/78 授权公告日:20101201 终止日期:20131129 申请日:20051129
专利权的终止
2010-12-01
授权
授权
2007-09-12
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20070810 申请日:20051129
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
2006-11-22
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-07-26
公开
公开
技术领域
本发明涉及一种带状记录介质、加工带状记录介质的装置和方法。更具体地,本发明涉及可以规则缠绕的带状记录介质、规则缠绕带状记录介质的装置和方法。
背景技术
通常,电脑等外备份记录介质中广泛使用例如12.7mm宽的直线型和螺旋型磁带。典型地在围绕磁带盘缠绕下处理这些类型的磁带。虽然磁带是围绕缠绕器或驱动器的磁带盘缠绕的,但是该磁带边缘有时是不规则的。特别地,当高速缠绕磁带时,这种不规则更容易出现。这种不规则在传送的过程中可以损坏磁带,或可以在储存的过程中引起磁带严重卷曲。这种严重卷曲的形状倾向于被保持,它有助于磁带在驱动器中运转精确性的恶化,由此引起伺服跟踪错误。因此,就保持高质量水平而言,磁带的规则缠绕是重要的。
另一方面,已知的是如果磁带具有预定横向(laterally)弯曲形式,那么它更不容易产生不规则性。这导致磁带平稳运行的稳定性,由此改善伺服跟踪性能。这种技术描述于日本未审查专利申请出版物9-265625中。
这种预定横向弯曲形式是通过将磁带放置在地图平面(plat surface)上并且通过从顶部观察而确认的。备选地,如图8所示,它基于磁带MT偏离通过在磁带的一条边上的两个点的直线(基准线)多少而被确认。
如果在它的整个长度上弯曲预定量,那么磁带将被规则缠绕。否则,它的缠绕形式可能变得更坏。因此,为了适宜地卷起磁带,已经建议将磁带弯曲预定量的各种技术,例如日本未审查专利申请出版物9-138945和2004-164808。此处,弯曲量由D/L表示,其中L表示磁带的具体长度,并且L表示带偏离基准线的量的最大值。
JP9-138945公开了一种在磁带制备步骤的过程中弯曲磁带的技术。具体地,将磁带围绕锥形带缠绕表面缠绕。此后,它原样保持规定的时间。最后,展开缠绕磁带的一面,使得磁带弯曲。
JP2004-164808也公开了一种在磁带制备步骤的过程中弯曲磁带的技术。在这种技术中,将磁带围绕锥形卷盘盘芯缠绕。接着,将其在等于/小于玻璃转化温度下原样放置。通过这种受热,将磁带适当弯曲,由此确保磁带的均匀缠绕形式。
同时,如果磁带的表面在形成磁层的方向成弓形,那么它的持久性得以改善,因此防止信号丢失(数据差错)(参见日本未审查专利申请出版物5-307731和8-63740)。此处,磁带的这种弓形称为“翘曲(cupping)”。
在使用JP9-265625的技术的磁带中,它的缠绕形式典型地更好,因为磁带更强烈地弯曲。但是,在一定的条件下,即,根据磁带的表面性能、边缘形状、边缘刚性等,它的缠绕形式可能不规则。在这种情况下,不能提供需要的生产产量。
此外,根据JP9-138945的技术,由于缠绕磁带之间的空间、沿着宽度的厚度差别或磁带盘的毛边(flash),磁带离盘芯越远,盘芯形状对缠绕形式的作用越不显著。此外,由于制造质量或磁带盘盘芯的形状的变化,缠绕形式可能受到磁带长度的公差或弯曲形状的影响。
此外,在JP2004-164808的技术中,磁带由于热处理而收缩,因此在磁带盘的中间可以形成间隙。这些间隙导致磁带盘的不规则性。在这种情况中,可能损坏磁带的表面,或也许不能进行下面的处理。在热处理的过程中,将磁带固定和向内挤压,以便磁带朝着卷形物的内部变得更宽。
至于如JP5-307731和JP8-63740中的磁带翘曲,已知的是没有产生足够的效果。
考虑到上述缺点,构思了本发明。本发明的一个目的是提供一种可以规则缠绕的磁带、规则缠绕磁带的装置和方法。
发明内容
根据本发明的一个方面,提供一种带状记录介质,其包括带状支撑体和在支撑体的表面上形成的记录层。此外,介质在它的整个长度上横向弯曲,并且具有横过介质的整个宽度上成弓形的表面。
此外,在这种介质中,优选介质的弯曲量为0.5mm/m至4.0mm/m,并且介质的弓形量为0.3mm至2.0mm。
此外,在这种介质中,优选支撑体是由对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜和芳族聚酰胺薄膜中的任何一个制成的。
根据本发明的第二个方面,提供一种加工带状记录介质的方法,该方法包括:通过围绕盘芯的锥形缠绕表面卷起带状记录介质而制造盘形物的步骤,和对盘形物进行热处理的步骤,其中在制造盘形物时,盘芯具有的直径至少为盘形物外径的0.5倍。
此外,在该方法中,优选盘形物进行的热处理满足关系:
t≥k·T-5
其中t、k和T分别表示时间(h)、系数和处理温度(℃)。
根据本发明的再一个方面,提供一种加工带状记录介质的装置,该装置包括:
(1)供带盘,围绕该供带盘可以卷起多个带状记录介质源;
(2)切割机构,用于将该源切割为预定宽度,由此形成带状记录介质;和
(3)多个卷取机构,用于卷起相应的带状记录介质,因此产生多个盘形物;
所述的卷取机构,每个包括具有外表面的盘芯(hub),围绕该外表面可以卷起带状记录介质,盘芯具有第一和第二侧面,所述的侧面各自的直径相互不同。
此外,将盘芯的两个侧面的直径中更长的一个L1和每个盘形物的直径L3的之间的比率设定为满足关系:
0.5≤L1/L3≤1.0。
当结合附图时,通过提供阅读下面的说明书和权利要求,本发明的其他方面、特征和优点变得更加清晰。
附图说明
为了更完全理解本发明及其优点,现在下面对结合附图的描述进行参考,其中:
图1是描述围绕盘芯缠绕的磁带的透视图;
图2是磁带沿着它的宽度的剖面图;
图3A是描述正向弯曲磁带的平面图;
图3B是描述逆向弯曲磁带的平面图;
图4A是磁带盘的主要部分的剖面图,其中将磁带均匀地围绕磁带盘盘芯缠绕;
图4B是磁带盘的主要部分的剖面图,其中将磁带非均匀地围绕磁带盘盘芯缠绕;
图5是显示磁带的翘曲量和弯曲量组合的图表;
图6是描述根据本发明一个实施方案,进行加工磁带的方法的缠绕步骤的生产线的透视图;
图7是实施该方法的盘形物的剖面图;和
图8是解释磁带的弯曲形状的平面图。
具体实施方式
下面将参考附图,给出都是根据本发明一个实施方案的带状记录介质和加工该介质方法的详细描述。应当注意的是,在下面的描述中,提供磁带作为带状记录介质的一个实例,但是本发明不限于此。备选地,带状记录介质可以是光学记录介质。
首先,描述根据本发明的一个实施方案的磁带。
(磁带)
参考图1,磁带MT包括非磁性支撑体(带基薄膜)、磁层(记录层)和背涂层。将磁层和背涂层形成在带基薄膜的相应表面上。此外,磁带MT的整个厚度为约10μm。
<支撑体>
支撑体的材料的实例包括聚酯(例如对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN))、聚烯烃(例如聚丙烯)、纤维素材料(例如硝化纤维素)和聚合材料(例如聚酰胺、聚酰亚胺、聚氯乙烯、聚碳酸酯或芳族聚酰胺)。优选支撑体是由聚酯制成的,因为它是低成本材料和具有优良的加工性和机械性能。优选地,使用聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN),因为它的高强度、刚性和耐热性能。更优选地,如果耐热性能是关键的,使用芳族聚酰胺薄膜。
<磁层>
向有机溶剂中混合磁粉和粘合剂。然后,均匀分布磁粉。结果,制备磁涂料。接着,向非磁性支撑体的表面上涂布这种磁涂料。最后,形成磁层。备选地,用真空沉积或溅射,将铁磁性材料例如金属或合金粘合至支撑体表面上。为了跟踪当今高密度容量的趋势,优选磁层的厚度等于/小于0.3μm。此外,向磁涂料中加入分散剂、润滑剂、抗静电剂、增塑剂、稳定剂和抗腐蚀剂。
磁粉的实例包括:铁磁性氧化铁粒子(例如y-Fe2O3、Fe3O4或钴y-Fe2O3)、铁磁性二氧化铬粒子、金属(例如Fe、Co或Ni)、包含金属(例如Fe、Co或Ni)的合金和六角晶系铁氧体微粒。
粘合剂的实例包括聚合物(例如聚氨酯、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯、聚乙烯醇、聚偏1,1-二氯乙烯、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚丁烯或聚丙烯腈)、由它们中的两个或多个组成的共聚物、聚酯树脂和环氧树脂。
有机溶剂的实例包括醚、酯、酮、芳族烃、脂肪族烃和氯化烃。
<背涂层>
背涂层可以是已知的背涂层,并且它的材料可以是包含粘合剂和溶剂的碳。优选它的厚度等于/大于0.3μm。
<翘曲量D1>
参考图2,磁带MT采用表面MT1形成向外弓形的这种方式弯曲,换言之,表面M2形成向内弓形。当磁带装载加载在驱动器中时,这种弓形形状使得可以改善磁带和磁头之间的接触。
具体地,假定图2的磁带的厚度为12.7mm(1/2英寸),则翘曲量(弓形量)D1为0.3mm至2.0mm。
通过磁层和背涂层的厚度的组合可以调节翘曲量D1。举列来说,假设在6μm厚的由对苯二甲酸乙二醇酯薄膜制成的支撑体上形成1.5μm厚的磁层。通过设定背涂层的厚度为0.3μm至0.7μm,得到的翘曲量D1的范围为0.3mm至2.0mm。
备选地,可以通过选择每层的热收缩因子来调节翘曲量D1。
此外,在本实施方案中,表面MT1向外形成弓形,但是,本发明不限于此。备选地,表面MT2可以向外成弓形。
<弯曲量D2>
参考图3A和3B,磁带MT相对于通过磁带的一个边上的点A和B的基准线C而横向弯曲。具体地,它的弯曲量D2可以为0.5mm/m至4.0mm/m。
在本实施方案中,将图3A的磁带MT弯曲的方向定义为正向方向,并且将图3B的磁带MT弯曲的方向定为逆向方向。
如何弯曲磁带MT如下所述。首先,围绕盘芯11缠绕磁带,由此形成盘形物PC。然后,对该盘形物根据稍后描述的方法进行热处理。
<弯曲量D2和翘曲量D1的组合>
作为深入细致研究的结果,本发明人已经发现弯曲量D2和翘曲量D1的适宜组合。这种适当的组合如下所示。
用肉眼评估磁带MT的缠绕形式,并且该结果示于图5中。评估的磁带MT的总厚度为8μm,它包括0.15μm厚的磁层和由对苯二甲酸乙二醇酯薄膜制成的支撑体。当弯曲量D2和翘曲量D1变化时,检查缠绕形式和进行验证试验。该结果示于表1中。
在表1中,缠绕形式的分数定义如下:
从磁带MT的边缘“ed”
5:没有发现不规则性;
4:发现等于/小于0.05μm的不规则性。
3:发现为约0.2mm的不规则性;
2:发现等于/大于0.3mm的不规则性等;
1:发现3个或多个等于/大于0.3mm的不规则性。
分数4和5视为“良好”,其他是“差”。
此外,磁带MT在温度为40℃和湿度为20%下进行运转500小时后,验证试验用于检查刮擦和边缘“ed”的变形。
表1
从上面的实施例1至3中的评估结果清楚的是,随着弯曲量D2越大,缠绕形式越好。但是,由于边缘损坏和变形,弯曲量D2超过4.0mm/m的样品未能满足在持久性试验中的质量标准。此外,翘曲量D1超过2.0mm的样品失败。
图5是用于确定弯曲量D2和翘曲量D1之间的理想组合的图表。在该图中,由虚线绘制缠绕形状和验证试验的允许范围。从该图表清楚的是,弯曲量D2为0.5mm/m至4.0mm/m和翘曲量D1为0.3mm至2.0mm的磁带MT具有优异的缠绕形式和质量。
参考图4A和4B,将磁带MT围绕具有凸缘的磁带盘2的磁带盘盘芯21缠绕预定量,然后将磁带原样装运。在这种情况下,根据该实施方案的磁带MT可以确立优异的缠绕形式,其中一个边缘是均匀的,如图4A所示。这使得可以得到高的生产产率和可以使磁带MT的平稳运行稳定,由此提高伺服跟踪性能。相反,翘曲量D1和弯曲量D2没有落入上述范围的磁带M提供差的缠绕形式,其中边缘“ed”是不均匀的,如图4B所示。
此外,根据本实施方案的磁带MT达到长时间运行和防止信号丢失(数据差错)。
(加工带状记录介质的方法和装置)
接着,下面参考附图,给出都是根据本发明的实施方案的加工带状记录介质的方法和装置的描述。注意的是,在下面的描述中,以磁带作为带状记录介质的实例,但是,本发明不限于此。加工带状记录介质(磁带)的方法旨在横向弯曲介质预定量。这种方法包括:由磁带源或卷材制造盘形物(卷形物)的缠绕步骤,和对盘形物进行热处理的热加工步骤。
(磁带源)
下面,在描述每个步骤之前,描述用于形成盘形物的磁带源。磁带源具有与磁带相同的结构(参见图1),它是通过在等于/小于10μm厚的非磁性支撑体(带基薄膜)上形成磁层而构成的。此外,将磁带源切割成预定的宽度,由此制造磁带MT。
下面参考图6描述缠绕步骤。在本实施方案中,缠绕步骤包括:切割磁带源,即,卷材WB,由此形成多个磁带MT,然后,围绕相应的盘芯11卷起,以便形成盘形物1。但是,本发明的缠绕步骤不受上面步骤的限制。备选地,本发明的缠绕步骤可以包括:卷起已经切割为盘形物的磁带。
参考图6,其上进行缠绕步骤的生产线由以下组成:
(1)旋转卷材WB的供带盘2;
(2)切割卷材WB为预定宽度的切割装置3,由此形成多个磁带MT;和
(3)卷取装置4,其被安置在例如在三个阶段并且围绕盘芯11卷起磁带MT。
此外,生产线包括:
(4将卷材WB从供带盘2导向切割装置3的导辊5;
(5)地面吸鼓6;和
(6)相对于卷取装置4提供的张力辊7。
每个盘芯11由金属例如铝、AS树脂、酚醛树脂或环氧树脂制成。为了加强,优选向该材料中加入10重量%至40重量%的玻璃纤维。
参考图7,盘芯11具有各自直径L1和L2相互不同的两个侧面11a和11b。换言之,盘芯11具有锥形缠绕表面11c。一旦围绕缠绕表面11c缠绕,磁带MT被横向弯曲。在下表2中显示了相对于弯曲量D2,侧面11a和11b的各自直径的比率(L1/L2)。
表2
从该表中清楚的是,直径比率的适宜范围为1.00007至1.0012。如果弯曲量D2设定为4mm/m,那么弯曲量D2为1.0006。注意到,如果盘芯的宽度改变,它需要基于上面的比率进行确定。
此外,优选在盘芯11中,侧面11a的直径L1至少为盘形物1的外径L3的0.5倍(L1≥L3·0.5)。这可以限制围绕盘芯11缠绕的磁带MT的数量。因此,盘芯11的形状可以更明显地对在盘形物1的外侧面上的磁带产生作用。结果,可以准确地弯曲在盘形物1的外侧面上的磁带。相反,在传统缠绕步骤中,使用有是直径为11.4cm的盘芯和直径为36.0cm的盘形物。换言之,使用的是约为盘形物0.3倍的盘芯。在这种情况下,没有准确弯曲在盘形物1的外侧面上的磁带。
在图6的上面所述的缠绕步骤的生产线中,由导辊5等引导供在磁带盘2处的卷材WB,然后使它通过切割装置3,以便将卷材WB切割为多个磁带MT。接着,围绕卷取装置4相应的盘芯11缠绕磁带MT,同时将盘芯11的缠绕张力调节为等于/大于0.8N/cm。通过将缠绕张力调节为该值,可以减少磁带宽度的变化。后面将给出关于缠绕张力的详细描述。最后,围绕盘芯11缠绕磁带MT,以便制备盘形物1。
(热加工步骤)
缠绕步骤后,盘形物1进行预定时间的热处理,由此建立适宜的缠绕形式。
在该步骤中,需要满足下面的关系:
t≥k·T-5
其中t表示时间(h),k表示系数和T表示处理温度d(℃)。
系数k是取决于磁带MT(或磁带源)的支撑体的比例性常数。举例来说,假设支撑体由对苯二甲酸乙二醇酯(PET)制成,则k为1010,优选k为2×1010。通过设定系数k为该值,可以使用弯曲量D2对于实际应用是足够的。此外,处理温度T需要等于/小于磁带MT的支撑体的玻璃转化温度。具体地,温度T落入40℃至69℃的范围内。
已知的是,当图7的盘形物1进行热处理时,降低了施加到中间周MT2的应力,因为内周MT1和外周MT3之间的差值(L3-L1)更大。这种应力的降低可以导致磁带的不规则性。但是,在本实施方案中,通过使用显著大的盘芯11,减少了磁带MT的缠绕数量。因此,差值(L3-L1)减少。因为差值(L3-L1)的这种减少,所以没有降低施加到中间周MT2的应力。因此很难出现盘形物1边缘的不规则性。此外,向磁带施加的向内应力也降低,所以防止了磁带受到挤压,因此防止被加宽。
因而,通过减少在盘形物1中的磁带MT的数量,可以稳定地横向弯曲磁带MT。如图4A或4B所示,将磁带MT围绕具有凸缘的磁带盘2的磁带盘盘芯21缠绕预定量。在本实施方案中,因为磁带MT被适宜地弯曲,所以磁带MT的边缘“ed”是规则的。因此,如图4A所示,建立了均匀的缠绕形式。相反,如果使用的是其中磁带没有被适宜弯曲的盘形物,那么磁带MT的边缘“ed”是不规则的。即,如图4B所示,缠绕形式是不均匀的。
当减少围绕盘芯11的磁带MT的数量时,在热处理期间难以使在中周处的磁带为不规则的。这防止了磁带MT受到摩擦,所以没有损坏磁带MT。此外,在热处理期间还减少了在内部周MT1处的磁带宽度的变化。这防止了磁带MT的边缘“ed”成为不均匀的,所以没有损坏边缘“ed”。
另一方面,为了提高工厂的生产率,需要尽可能长地围绕盘芯11缠绕磁带MT。但是,缠绕的磁带越长,上面所述的缺点越容易出现,例如弯曲量减少、磁带宽度增加,或磁带边缘不规则。为了发现在磁带长度和质量之间的适宜折衷,作出了下面的评估。
(盘芯的直径)
围绕直径分别为114m(锥形量为30μm)、150m(锥形量为40μm)和250m(锥形量为70μm)的NAB-标准盘芯,缠绕9μm厚和4000m长的三条相同的磁带。接着,在这些磁带进行热处理后,评估和比较它们的个体质量的程度。该结果示于表3中。盘芯的个体锥形量适宜于2mm/m的弯曲量。在这种情况下,注意到锥形量表示一个侧面和另一个侧面的直径之间的差值(图7中的L4),并且宽度变化表示磁带宽度的增加。
表3
参考表3,比较例1(直径为114mm的盘芯)显示内周和外周弯曲量之间的显著的差别。具体而言,它的内周弯曲量为1.7mm/m,而它的外周弯曲量为0.2mm/m。因此,该样品没有被均匀地弯曲。此外,该样品导致边缘不规则性和它显示磁带宽度的变化大至6μm。
相反,实施例1(直径为150mm的盘芯)几乎没有显示内周和外周弯曲量之间的显著的差别。具体而言,它的内周弯曲量为1.6mm/m,而它的外周弯曲量为0.8mm/m。此外,没有导致磁带的摩擦,磁带宽度的变化只有比较例1的一半大。此外,在实施例2(直径为250mm的盘芯)中,内周弯曲量为1.8mm/m,而外周弯曲量为1.2mm/m。此外,边缘均匀,并且磁带宽度的变化只有比较例1的三分之一。
从上面的结果发现,盘芯的直径需要等于/大于盘形物直径的0.5倍,优选为0.6倍。但是,考虑到卷取装置的空间因素,优选盘形物的直径等于/小于600mm。此外,假设缠绕宽度为9μm和长度为10000m的磁带,则优选盘芯的直径至多为500mm。盘芯的直径越短,它的效果越不明显。但是,由结果清楚的是,即使使用直径为150mm的盘芯(实施例1),该效果对实际应用仍然不够。
(弯曲量)
为了将磁带MT弯曲需要量,需要盘芯具有与它的直径成比例的锥形量。这种锥形量是如下确定的。
[盘芯直径为150mm] 表4
[盘芯直径为200mm] 表5
[盘芯直径为250mm] 表4
接着,围绕盘芯的锥形缠绕表面缠绕磁带,然后对它进行热处理,条件是温度为60℃,湿度为25%,且时间为32小时。在该处理后,测量磁带的弯曲量,该结果示于表7中。每项是测量5次的数据的平均值。
表7
在实施例3中,通过使用直径为150mm的盘芯(参见表4),盘芯的锥形量以10μm为目标,以形成0.5mm/m的弯曲量。实际弯曲量为0.53mm/m,其几乎等于目标值。通过参考表4至6,发现其他的实施例4至6也具有需要的弯曲值。
(缠绕张力)
围绕直径为250mm盘芯的非锥形表面缠绕磁带,同时改变它的缠绕张力,该评估示于表8中。在这种情况下,缠绕速度设定为10m/s。
表8
参考表8,在这些样品中,内周和外周弯曲量之间没有显著的差别。但是,在缠绕张力为80gf/0.5英寸(≈0.6N/cm)的条件下,比较例2导致边缘的不规则性并且显示的磁带宽度变化为2μm。相反,在缠绕张力为100gf/0.5英寸(≈0.8N/cm)下,实施例7显示没有边缘不规则性并且磁带宽度变化为1μm。该磁带宽度变化只有比较例2的磁带宽度变化的一半大。因此,可以看出,实施例7显示优异的结果。此外,在缠绕张力为120gf/0.5英寸(≈0.9N/cm)下,实施例8显示与实施例7同样优异的结果。
考虑到上述结果,通过在等于/大于0.8N/cm的缠绕张力下缠绕磁带,可以防止磁带的不规则性,也减少了磁带宽度的变化。它表明加强了施加给磁带的向内应力,换言之,由于缠绕张力增加,使磁带宽度的变化大。但是,事实上,认为由于这种强的缠绕张力,将磁带拉伸为狭长的。
(热加工时间)
为了在热处理中决定带弯曲形状饱和时的温度和时间,在涉及弯曲形状形成的其他参数恒定的条件下,通过改变温度和时间来测量弯曲量。该结果示于表9中。进行热处理的盘形物包括由对苯二甲酸乙二醇酯(PET)制成的支撑体,并且它在缠绕张力为100gf/0.5英寸下,围绕直径为200mm的盘芯进行缠绕。
表9
从表9的结果,决定弯曲形状饱和时的温度T和时间t之间的下面关系:
t≈2·10·T-5
至于实际的热加工步骤,需要生产率与效果之间达到折衷。因此,在将磁带在确定的饱和时间的一半期间受热后,测量磁带的弯曲量。该测量结果示于表10中。
表10
参考表10的结果,发现即使对于饱和时间的一半,也得到了足够的弯曲量。因此,可以通过下面的等式表示温度T和时间t之间的关系:
t≥1010·T-5
注意,根据支撑体等的条件可以改变T-5的系数。因此,温度T和时间t之间的关系仅仅地满足下面的等式:
t≥k·T-5
此外,优选将湿度调整在20%至80%的范围内,所以防止了磁带不规则,并且降低了磁带宽度的变化。
由上面所述的解释,本领域的技术人员确知本发明的本质特征,可以在不偏离权利要求的精神和范围的条件下对本发明进行各种修改和变化,以使其适宜于各种使用和条件。
机译: 伺服图案记录方法,伺服图案记录装置,带状磁记录介质的制造方法以及带状磁记录介质
机译: 胶带状记录介质的运行制动机理和制动方法,以及胶带状记录介质的信号处理器和运行方法
机译: 带状光记录介质的模具,带状光记录介质和切割装置