公开/公告号CN111342786A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-06-26
原文格式PDF
申请/专利权人 上海类比半导体技术有限公司;
申请/专利号CN202010318200.7
申请日2020-04-21
分类号
代理机构上海一平知识产权代理有限公司;
代理人吴珊
地址 200135 上海市浦东新区南汇新城镇环湖西二路888号A楼367室
入库时间 2023-12-17 10:16:29
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-21
实质审查的生效 IPC(主分类):H03F3/45 申请日:20200421
实质审查的生效
2020-06-26
公开
公开
机译: 差分放大器共模抑制比和增益修整电路
机译: 具有改进的共模抑制比的差分放大器,以及具有改进的共模抑制比的电路
机译: 具有改进的共模抑制比的差分放大器,以及具有改进的共模抑制比的电路