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一种DLC/CNx/MeN/CNx纳米多层膜及其制备方法

摘要

本发明涉及薄膜材料技术领域,为解决传统DLC薄膜与基体材料的结合强度较差、降低应力提高结合强度又会导致耐磨性能下降的问题,提供了一种DLC/CNx/MeN/CNx纳米多层膜,包括基体(1)、依次沉积于基体表面的金属过渡层(2)和纳米多层膜,所述纳米多层膜由若干纳米复合单元(3)组成,所述纳米复合单元由下至上依次为DLC层(4),第一梯度CNx层(5),金属氮化物层(6)和第二梯度CNx层(7)。本发明的纳米多层膜有效改善了传统沉积方法膜基结合力不高的问题,同时降低了内应力,并且有优良的耐磨性;制备方法步骤简单,工艺条件易于控制,制备过程安全无污染,成本低,易于实现产业化。

著录项

  • 公开/公告号CN110777341A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江工业大学;

    申请/专利号CN201910661891.8

  • 发明设计人 杨芳儿;杨烁妍;郑晓华;常新新;

    申请日2019-07-22

  • 分类号

  • 代理机构杭州杭诚专利事务所有限公司;

  • 代理人尉伟敏

  • 地址 310014 浙江省杭州市下城区潮王路18号

  • 入库时间 2023-12-17 06:09:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/35 申请日:20190722

    实质审查的生效

  • 2020-02-11

    公开

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