用于制造用于电磁辐射的散射层的方法和用于散射电磁辐射的散射层

摘要

在不同的实施例中提出一种用于制造用于电磁辐射的散射层(106)的方法，其中该方法具有：将散射中心(306)施加到载体(102，104)上；将玻璃(312)施加到散射中心(306)上；和将玻璃(312)液化，使得液化的玻璃(312)的一部分在散射中心(306)之间朝向载体(302)的表面流动，使得液化的玻璃(312)的一部分仍保留在散射中心(306)上方。

说明书

技术领域

在不同的实施方式中提供一种用于制造用于电磁辐射的散射层的 方法和一种用于散射电磁辐射的散射层。

背景技术

载体上的有机发光二极管(organic light emitting diode-OLED)在 第一电极和第二电极之间具有有机功能层结构，其中第一电极与载体接 触并且在第二电极上或上方能够沉积封装层。电极之间的电流引起在有 机功能层系统中产生电磁辐射。电磁辐射由于器件之内的全反射在没有 技术辅助机构的情况下通常能够仅以至大约20％从OLED中耦合输出。

OLED中的内部的全反射能够借助于应用散射层来降低，例如借助 第一电极和载体之间的散射层。由此，更高份额的所产生的电测辐射、 例如光能够耦合输出。

在常规的散射层中应用有机基体，在所述有机基体中嵌入具有不同 折射率的散射中心(WO 02/37580A1)。然而，有机散射层在与水和/或 氧气接触时能够老化或退化进而减小OLED的稳定性。有机散射层的 另一个缺点是其小的折射率(n～1.475)。因为有机功能层结构通常具有 大约1.7的折射率，所以在有机散射层的折射率小的情况下，得到对于 在第一电极与散射层的边界面上的全反射的标准适度的入射角。

此外常规地，散射层由具有嵌入的散射中心的高折射的玻璃焊料构 成。散射中心的数量密度通常从内向外减小(EP 2 178 343A1，US 2010/0187987A1，WO 2011/046190A1)或者在层横截面中是均匀的。 所述层横截面由用于制造下述层的常规的方法引起，所述层由散射中心 和基体物质、例如玻璃焊料构成的悬浮物或膏状物构成。然而，散射层 的粗糙度或散射中心的形状能够引起在散射层表面上形成钉状物。在将 散射颗粒用作为散射中心的情况下，在散射层表面上，没有完全由玻璃 包围的散射颗粒同样能够构成钉状物。钉状物理解为具有高的纵横比的 局部的表面粗糙部。尤其在OLED的薄的设计方案中，钉状物能够引 起第一电极与第二电极短路。此外，在制造OLED时，在散射层的钉 状物直接的周围，能够出现在散射层上或上方的层、例如第一电极或有 机功能层的局部的扭曲或者解交联。如果在器件上施加薄膜封装件，那 么由于钉状物存在下述风险：薄膜封装件局部不是密封的，这能够导致 构件退化。

表面特性、例如小的表面粗糙度或限定的波纹通常借助于附加施加 的玻璃层来调整(EP 2 278 852A1，WO 2010/084922，WO 2010/084923)。所述玻璃层也降低下述风险：在散射表面上存在没有完 全由玻璃包围的散射颗粒。然而，附加的层通常需要附加的退火步骤进 而延长处理过程。

发明内容

在不同的实施方式中提供一种方法，借助所述方法能够以唯一的退 火步骤制造具有可调整的散射横截面和平滑的表面的散射层。

在本说明书的范围内，在不考虑相应的聚集态的情况下，能够将有 机物质理解成以化学统一的形式存在的、特征在于特征性的物理和化学 特性的碳化合物。此外，在本说明书的范围内，在不考虑相应的聚集态 的情况下，能够将无机物质理解成以化学统一的形式存在的、特征在于 特征性的物理和化学特性的不含碳的化合物或简单的碳化合物。在本说 明书的范围内，在不考虑相应的聚集态的情况下，能够将有机-无机物 质(混合物质)理解成以化学统一的形式存在的、特征在于特征性的物 理和化学特性的具有包含碳的或不含碳的化合物部分的化合物。在本说 明书的范围内，术语“物质”包括全部上述物质，例如有机物质、无机 物质和/或混合物质。此外，在本说明书的范围内，将物质混合物理解 为其组成部分由两种或更多种不同物质构成，其组成部分例如非常细地 分布。将由一种或多种有机物质、一种或多种无机物质或一种或多种混 合物质构成的物质混合物或物质理解为物质分类。术语“材料”能够与 “物质”同义地使用。

在不同的实施方式中，提出一种用于制造用于电磁辐射的散射层的 方法，其中所述方法具有：将散射中心施加到载体上；将玻璃施加到散 射中心上和将玻璃液化，使得液化的玻璃的一部分在散射中心之间朝向 载体的表面流动，使得在散射中心上方仍保留液化的玻璃的一部分。

散射层在散射中心之上的部分在此应当具有大于或等于没有玻璃 的散射中心的最靠上的层的粗糙度的厚度，使得构成至少一个平滑的表 面，即表面具有小的RMS粗糙度(root mean square-均方根)，例如小 于10nm。散射中心的最靠上的层的粗糙度取决于散射中心的实际大小， 即不仅取决于平均粒度、还取决于平行于载体的平面中的散射中心浓 度。

对于该方法重要的是，在施加散射中心之后液化玻璃。由此能够调 整散射中心在散射层中的分布并且在玻璃的唯一的液化工艺中、例如在 退火工艺中构成散射层的平滑的表面。借助玻璃粉末或由玻璃颗粒制造 悬浮物或者膏状物就此而言不能够理解为液化，因为玻璃颗粒的形态没 有通过悬浮物发生变化。

在方法的一个设计方案中，载体能够具有玻璃，例如软玻璃，例如 钠钙玻璃。

在方法的又一个设计方案中，载体能够构成为是机械柔性的。

在方法的又一个设计方案中，载体能够面状地构成。

在方法的又一个设计方案中，散射中心能够具有选自下述物质组的 物质或物质混合物或者由其形成：无机物质。

散射中心能够具有无机物质或无机物质混合物或由其形成，例如由 TiO₂、CeO₂、Bi₂O₃、Y₂O₃、ZrO₂、SiO₂、Al₂O₃、ZnO、SnO₂构成的 颗粒或者发光物质。然而，散射中心也能够构成为玻璃颗粒，所述玻璃 颗粒具有与玻璃基体不同的折射率，并且与玻璃基体相比更高地软化， 即具有更高的软化温度。

在又一个设计方案中，在将发光物质用作为散射中心的情况下，散 射层同时构成用于对电磁辐射进行波长转换。在此，发光物质能够具有 斯托克斯位移并且发射具有更高的波长的入射的电磁辐射。

在方法的又一个设计方案中，散射中心能够具有拱起的表面。

散射中心的几何形状能够是任意的，例如构成为是球形的、非球形 的、例如棱柱形的、椭圆的、和空心的或紧凑的。

在方法的又一个设计方案中，散射中心能够具有大约0.1μm至大约 3μm的平均粒度。

在方法的又一个设计方案中，(甚至完全不同的)散射中心的多个 层能够彼此相叠地施加在载体上。

在方法的又一个设计方案中，散射中心的各个层具有平均粒度不同 的散射中心。

在方法的又一个设计方案中，散射中心的平均粒度能够从载体的表 面起减小。

在方法的又一个设计方案中，施加在载体上的散射中心能够构成具 有大约0.1μm至大约10μm的厚度的层。

在方法的又一个设计方案中，在散射中心上的玻璃能够具有下述物 质或物质混合物，所述物质或物质混合物的折射率大于或大约等于层横 截面中的其他层的折射率。由此，射入散射层的边界面上的电磁辐射在 任何入射角下都不会全反射。这对从器件中耦合输出电磁辐射是有利 的。

在方法的又一个设计方案中，散射层在玻璃固化之后能够具有散射 中心的折射率与玻璃的折射率的大于大约0.05的差。

在方法的又一个设计方案中，将由钠钙玻璃构成的载体与玻璃粉末 组合使用，所述玻璃粉末在至最大600℃的温度下能够玻璃化，这应当 意味着玻璃粉末软化至其平滑行进。

在方法的又一个设计方案中，玻璃能够构成为玻璃粉末并且在至最 大大约600℃的温度下能够玻璃化，即玻璃粉末软化，使得其能够构成 平滑的表面。载体的物质或物质混合物、例如钠钙玻璃在玻璃粉末的玻 璃化温度下应当是热稳定的，即具有不改变的层横截面。

在方法的又一个设计方案中，玻璃能够具有玻璃焊料或者由其形 成，所述玻璃焊料选自下述玻璃体系：

例如含PbO的体系：

PbO-B₂O₃,

PbO-SiO₂,

PbO-B₂O₃-SiO₂,

PbO-B₂O₃-ZnO₂,

PbO-B₂O₃-Al₂O₃,

其中含PbO的玻璃焊料也能够具有Bi₂O₃；

或者无铅的玻璃体系：

例如含Bi₂O₃的体系:

Bi₂O₃-B₂O₃,

Bi₂O₃-B₂O₃-SiO₂,

Bi₂O₃-B₂O₃-ZnO,

Bi₂O₃-B₂O₃-ZnO-SiO₂。

含Bi₂O₃的体系也能够具有其他的玻璃组分，例如Al₂O₃、碱土金属 氧化物、碱金属氧化物、ZrO₂、TiO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、TeO₂、 WO₃、MO₃、Sb₂O₃、Ag₂O、SnO₂和稀土氧化物。

在方法的又一个设计方案中，散射层能够以大约0.1μm至大约40μm 的厚度、例如以大约10μm至大约30μm的厚度施加在载体上。

在方法的又一个设计方案中，能够由散射中心悬浮物或膏状物将散 射中心施加到载体上或上方。

用于由悬浮物或膏状物制造层的方法例如是丝网印刷、模板印刷、 刮涂或者还有喷射方法。

在方法的又一个设计方案中，散射中心悬浮物或膏状物除了散射中 心之外能够具有液态的蒸发性的和/或有机的组成部分。所述组成部分 能够是不同的添加物、所谓的添加剂，例如溶剂、粘合剂、例如纤维素、 纤维素衍生物、硝化纤维、醋酸纤维素、丙烯酸酯，并且能够添加给散射 中心或玻璃颗粒以用于为相应的方法和为相应寻求的层厚度而调整粘度。

通常能够是液态的和/或易挥发的有机添加物能够以热学的方式从层 中移除，即能够将层热干燥。不易挥发的有机添加物能够借助于热解移除。 在此，温度提高能够加速或能够实现干燥或热解。

在方法的又一个设计方案中，在载体上或上方的散射中心悬浮物或 膏状物能够借助于组成部分蒸发来干燥。

在方法的又一个设计方案中，玻璃能够以作为玻璃粉末的颗粒的方 式涂覆到散射中心上。

在方法的又一个设计方案中，玻璃颗粒能够以悬浮物或膏状物的方 式涂覆到散射中心上。

在方法的又一个设计方案中，玻璃颗粒能够具有大约0.1μm至大约 30μm的直径。

在方法的又一个设计方案中，玻璃颗粒悬浮物或玻璃颗粒膏状物除 玻璃颗粒或玻璃粉末之外还能够具有液态的蒸发性的和/或有机的成 分，例如粘合剂。

在方法的又一个设计方案中，玻璃颗粒悬浮物或玻璃颗粒膏状物以 及散射中心悬浮物或散射中心膏状物能够具有可彼此混合的液态的蒸 发性的和/或有机的组分。由此能够防止经过干燥的散射中心悬浮物或 散射中心膏状物或者经过干燥的玻璃层悬浮物或散射中心膏状物之内 的添加物的脱落或相分离。

在方法的又一个设计方案中，在散射中心上或上方的玻璃颗粒悬浮 物或散射中心膏状物能够借助于组成部分蒸发来干燥。

在方法的又一个设计方案中，能够借助于提高温度基本上完全地从 经过干燥的散射中心层以及从经过干燥的玻璃粉末层移除有机的组成 部分(粘合剂)。

在方法的又一个设计方案中，借助于将温度提高到第二数值上，玻 璃或玻璃粉末软化，使得其能够流动、例如变成液态，其中第二温度远 大于干燥的第一温度。

用于液化或玻璃化玻璃粉末层的第二温度值的最大值能够取决于 载体。温度状况(温度和时间)能够选择成，使得载体不变形，但是玻 璃粉末层的玻璃焊料已经具有使其平滑行进、即流动并且能够构成非常 平滑的玻璃状的表面的粘性。

玻璃粉末层的玻璃能够具有第二温度、即玻璃化温度，例如低于载 体的、如载体玻璃的转变温度，(载体的粘性η＝10^14.5dPa·s)，并且最 大为载体玻璃的软化温度(载体的粘性η＝10^7.6dPa·s)、例如低于软化 温度并且大约为上冷却点(载体的粘性η＝10^13.0dPa·s).

在方法的又一个设计方案中，在将钠钙玻璃用作为载体的情况下， 玻璃粉末能够在至最大大约600℃的温度下玻璃化。

在方法的又一个设计方案中，在散射中心上或上方的玻璃能够具有 下述物质或物质混合物，所述物质或物质混合物的折射率大于或大约等 于层横截面中的其他层的层厚度加权的折射率。

层厚度加权的折射率为以相应的层厚度份额加权的折射率的平均 值。

在方法的又一个设计方案中，能够借助于液化的玻璃，在散射中心 之间构成载体与散射中心之上的液化的玻璃的无间隙的连续的玻璃连 接。

在方法的又一个设计方案中，载体能够具有钠钙玻璃或由其形成， 其中用于玻璃化玻璃粉末或玻璃粉末层的温度最大应当为大约600℃的 数值。

在方法的又一个设计方案中，在借助于局部加热的固化之后，能够 再次附加地平滑散射中心之上的液化的玻璃的表面。

在方法的又一个设计方案中，能够借助于等离子或激光辐射构成局 部加热。

在方法的又一个设计方案中，散射层能够构成为有机发光二极管的 层横截面的一部分。

在不同的实施例中提供一种光学器件，所述光学器件具有：载体、 例如软玻璃；和散射层，其中散射层具有：基体和嵌入所述基体中的至 少一种第一类型的光学的散射中心，所述散射中心具有高于基体或低于 基体的折射率；其中载体与散射层的边界面具有大于0％的基体体积浓 度；散射层的表面具有100％的基体体积浓度；散射层的基体具有从载 体的表面到散射层的表面的无间隙的连续的连接；并且至少一种类型的 散射中心的体积浓度从载体的表面起减小。

在一个设计方案中，基体的折射率与散射中心的折射率的差能够至 少为大约0.05。

在又一个设计方案中，基体能够具有大于大约1.5的折射率。

在又一个设计方案中，基体能够构成为是无定形的。

在又一个设计方案中，基体能够具有玻璃焊料或由其形成，所述玻 璃焊料具有选自下述玻璃体系的物质或物质混合物：

例如含PbO的体系：

PbO-B₂O₃,

PbO-SiO₂,

PbO-B₂O₃-SiO₂,

PbO-B₂O₃-ZnO₂,

PbO-B₂O₃-Al₂O₃,

其中含PbO的玻璃焊料也能够具有Bi₂O₃；

或者无铅的玻璃体系：

例如含Bi₂O₃的体系:

Bi₂O₃-B₂O₃,

Bi₂O₃-B₂O₃-SiO₂,

Bi₂O₃-B₂O₃-ZnO,

Bi₂O₃-B₂O₃-ZnO-SiO₂。

含Bi₂O₃的体系也能够具有其他的玻璃组分，例如Al₂O₃、碱土金属 氧化物、碱金属氧化物、ZrO₂、TiO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、TeO₂、 WO₃、MO₃、Sb₂O₃、Ag₂O、SnO₂和稀土氧化物。

在又一个设计方案中，第一类型的散射中心能够具有基体和/或物质 或物质混合物中的腔或者化学计量的化合物或者由其形成，其选自下述 物质：TiO₂、CeO₂、Bi₂O₃、Y₂O₃、ZrO₂、SiO₂、Al₂O₃、ZnO、SnO₂或者发光物质或者玻璃颗粒或还有金属纳米颗粒，所述玻璃颗粒具有与 玻璃基体不同的折射率并且与玻璃基体相比更高地软化。

在又一个设计方案中，第一散射中心的平均粒度能够从载体的表面 起减小。

在又一个设计方案中，散射层能够具有至少1μm至大约100μm的、 优选10μm-30μm的厚度。

在又一个设计方案中，散射层能够作为发光二极管中的层制造。

附图说明

在附图中示出并且在下文中详细阐述本发明的实施例。

附图示出：

图1示出根据不同实施例的有机发光二极管的示意横截面图；

图2示出根据不同实施例的用于制造散射层的方法的流程图；

图3示出在根据不同实施例的用于制造散射层的方法中的散射层的 示意横截面图；和

图4示出在根据不同实施例的用于制造散射层的方法中的散射层的 示意横截面图。

具体实施方式

在下面详细的描述中参考附图，所述附图形成所述描述的一部分， 并且在所述附图中示出能够实施本发明的具体的实施方式以用于说明。 在此方面，相关于所描述的一个(多个)附图的定向而使用方向术语例 如“上”、“下”、“前”、“后”、“前部”、“后部”等等。因为实施方式的 组成部分能够以多个不同的定向来定位，所以方向术语仅用于说明并且 不以任何方式受到限制。要理解的是，能够使用其他的实施方式并且能 够进行结构上的或逻辑上的改变，而不偏离本发明的保护范围。要理解 的是，只要没有特殊地另外说明，就能够将在此描述的不同的示例性的 实施方式的特征互相组合。因此，下面详细的描述不能够理解为受限制 的意义，并且本发明的保护范围不通过附上的权利要求来限定。

在所述描述的范围内，术语“连接”、“联接”以及“耦合”用于描 述直接的和间接的连接、直接的或间接的联接以及直接的或间接的耦 合。在附图中，只要是适当的，相同的或类似的元件就设有相同的附图 标记。

图1示出根据不同实施例的有机发光二极管100的示意横截面图.

有机发光二极管100的形式的发光器件100能够具有载体102。载 体102例如能够用作为用于电子元件或层的、例如用于发光元件的承载 元件。载体102例如能够是玻璃(软玻璃或硬玻璃，优选为软玻璃)、 石英玻璃。此外，载体102能够具有塑料薄膜或带有一个或多个塑料薄 膜的叠层。载体102能够构成为是半透明的或甚至是透明的。

术语“半透明”或“半透明层”在不同的实施例中能够理解为：层 对于光是可穿透的，例如对于由发光器件所产生的例如一个或多个波长 范围的光是可穿透的，例如对于可见光的波长范围中的光是可穿透的 (例如至少在380nm至780nm的波长范围的子范围中)。术语“半透明 层”在不同的实施例中例如理解为：全部的耦合输入到结构(例如层) 中的光量基本上也从所述结构(例如层)中耦合输出，其中光的一部分 在此能够被散射。

术语“透明”或“透明层”在不同的实施例中能够理解为：层对于 光是可穿透的(例如至少在380nm至780nm的波长范围的子范围中)， 其中耦合输入到结构(例如层)中的光基本上在没有散射或光转换的情 况下也从所述结构(例如层)中耦合输出。因此，“透明”在不同的实 施例中能够视作为“半透明”的特殊情况。

对于例如应当提供单色发光的或发射光谱受限的电子器件的情况 而言足够的是：光学半透明的层结构至少在期望的单色光的波长范围的 子范围中或者对于受限的发射光谱是半透明的。

在不同的实施例中，有机发光二极管100(或还有根据在上文中或 还要在下文中描述的实施例的发光器件)能够设计成所谓的顶部和底部 发射器。顶部和底部发射器也能够称作为光学透明器件，例如透明有机 发光二级管。

在不同的实施例中，能够可选地在载体102上或上方设置有阻挡层 104。阻挡层104能够具有下述材料中的一种或多种或者由其制成：氧 化铝、氧化锌、氧化锆、氧化钛、氧化铪、氧化钽、氧化镧、氧化硅、 氮化硅、氮氧化硅、铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝掺杂的氧化锌、以及 它们的混合物和合金。此外，阻挡层104在不同的实施例中能够具有在 大约0.1nm(原子层)至大约5000nm的范围中的层厚度，例如在大约 10nm至大约200nm的范围中的层厚度，例如为大约40nm的层厚度。

因此，在不同的实施例中，在阻挡层104上或上方(或者，当阻挡 层104不存在时，在载体102上或上方)能够施加散射层106。

在不同的实施例中，散射层106能够具有大约1μm至大约40μm的 厚度，例如大约1μm至大约30μm的厚度，例如3μm至大约20μm的 厚度，例如5μm至大约15μm的厚度。散射层106的其他规格能够从对 图2、图3、图4和图5的描述中得出。

在不同的实施例中，在散射层104上或上方能够施加第一电极110 (例如以第一电极层110的形式)。第一电极110(在下文中也称作为下 部电极110)能够由能导电的材料形成或者是能导电的材料，例如由金 属或透明导电氧化物(transparent conductive oxide,TCO)形成或由相 同金属的或不同金属的和/或相同TCO的或不同TCO的多个层的层堆 形成。透明导电氧化物是透明的、导电的材料，例如金属氧化物，例如 氧化锌、氧化锡、氧化镉、氧化钛、氧化铟或铟锡氧化物(ITO)。除 了二元的金属氧化物化合物、例如ZnO、SnO₂或In₂O₃以外，三元的 金属氧化物化合物、例如AlZnO、Zn₂SnO₄、CdSnO₃、ZnSnO₃、Mgln₂O₄、 GaInO₃、Zn₂In₂O₅或In₄Sn₃O₁₂或不同的透明导电氧化物的混合物也属 于TCO族并且能够在不同的实施例中使用。此外，TCO不强制符合化 学计量的组分并且还能够是p型掺杂的或n型掺杂的。

在不同的实施例中，第一电极110能够具有金属；例如Ag、Pt、 Au、Mg、Al、Ba、In、Ag、Au、Mg、Ca、Sm或Li、以及这些材料 的化合物、组合或合金。

在不同的实施例中，能够由在TCO层上的金属层的组合的层堆形 成第一电极110，或者反之。一个实例是施加在铟锡氧化物层(ITO) 上的银层(ITO上的Ag)或ITO-Ag-ITO复层。

在不同的实施例中，替选于或附加于上述材料，第一电极110能够 设有下述材料中的一种或多种：由例如由Ag制成的金属的纳米线和纳 米微粒构成的网络；由碳纳米管构成的网络；石墨微粒和石墨层；由半 导体纳米线构成的网络。

此外，第一电极110能够具有导电聚合物或过渡金属氧化物或导电 透明氧化物。

在不同的实施例中，第一电极110和载体102能够构成为是半透明 的或透明的。在第一电极110由金属形成的情况下，第一电极110例如 能够具有小于或等于大约25nm的层厚度、例如小于或等于大约20nm 的层厚度、例如小于或等于大约18nm的层厚度。此外，第一电极110 例如能够具有大于或等于大约10nm的层厚度、例如大于或等于大约 15nm的层厚度。在不同的实施例中，第一电极110能够具有在大约10nm 至大约25nm的范围内的层厚度、例如在大约10nm至大约18nm的范 围内的层厚度、例如在大约15nm至大约18nm的范围内的层厚度。

此外，对于第一电极110由透明导电氧化物(TCO)形成的情况而 言，第一电极110例如具有在大约50nm至大约500nm的范围内的层厚 度、例如在大约75nm至大约250nm的范围内的层厚度、例如在大约 100nm至大约150nm的范围内的层厚度。

此外，对于第一电极110由例如由如Ag构成的能够与导电聚合物 组合的金属的纳米线构成的网络形成、由能够与导电聚合物组合的碳纳 米管构成的网络或者由石墨层和复合材料形成的情况而言，第一电极 110例如能够具有在大约1nm至大约500nm的范围内的层厚度、例如 在大约10nm至大约400nm的范围内的层厚度、例如在大约40nm至大 约250nm的范围内的层厚度。

第一电极110能够构成为阳极、即构成为注入空穴的电极，或者构 成为阴极、即构成为注入电子的电极。

第一电极110能够具有第一电端子，第一电势(由能量源(未示出)、 例如电流源或电压源提供)能够施加到所述第一电端子上。替选地，第 一电势能够施加到载体102上或是施加到载体102上的并且然后能够经 由此间接地输送给第一电极110或是输送给第一电极110的。第一电势 例如能够是接地电势或者不同地预设的参考电势。

此外，发光器件100的电有源区域108能够具有有机电致发光层结 构112或有机功能层结构112，所述有机电致发光层结构或有机功能层 结构施加在第一电极110上或上方或是施加在第一电极110上或上方 的。

有机电致发光层结构112能够包含一个或多个发射体层118、例如 具有发荧光的和/或发磷光的发射体的发射体层，以及一个或多个空穴 传导层120(也称作空穴传输层120)。在不同的实施例中，替选地或附 加地，能够设有一个或多个电子传导层122(也称作电子传输层122)。

能够在根据不同实施例的发光器件100中用于发射体层118的发射 体材料的实例包括：有机的或有机金属的化合物，如聚芴、聚噻吩和聚 亚苯基的衍生物(例如2-或2,5-取代的聚-对-亚苯基乙烯撑)；以及金属 络合物，例如铱络合物，如发蓝色磷光的FIrPic(双(3,5-二氟-2-(2- 吡啶基)苯基-(2-羧基吡啶基)-铱III)、发绿色磷光的Ir(ppy)₃(三 (2-苯基吡啶)铱III)、发红色磷光的Ru(dtb-bpy)₃*2(PF₆))(三 [4,4’-二-叔-丁基-(2,2’)-联吡啶]钌(III)络合物)、以及发蓝色荧光的 DPAVBi(4,4-双[4-(二-对-甲苯基氨基)苯乙烯基]联苯)、发绿色荧光 的TTPA(9,10-双[N,N-二-(对-甲苯基)-氨基]蒽)和发红色荧光的DCM2 (4-二氰基亚甲基)-2-甲基-6-久洛尼定基-9-烯基-4H-吡喃)作为非聚 合物发射体。这种非聚合物发射体例如能够借助于热蒸镀来沉积。此外， 能够使用聚合物发射体，所述聚合物发射体尤其能够借助于湿法化学 法、例如旋涂法(也称作Spin Coating)来沉积。

发射体材料能够以适合的方式嵌在基体材料中。

需要指出的是，在其他的实施例中同样设有其他适合的发射体材 料。

发光器件100的发射体层118的发射体材料例如能够选择为，使得 发光器件100发射白光。(多个)发射体层118能够具有多种发射不同 颜色(例如蓝色和黄色或者蓝色、绿色和红色)的发射体材料，替选地， (多个)发射体层118也能够由多个子层构成，如发蓝色荧光的发射体 层118或发蓝色磷光的发射体层118、发绿色磷光的发射体层118和发 红色磷光的发射体层118。通过不同颜色的混合，能够得到具有白色的 色彩印象的光的发射。替选地，也能够提出，在通过这些层产生的初级 发射的光路中设置有转换材料，所述转换材料至少部分地吸收初级辐射 并且发射其他波长的次级辐射，使得从(还不是白色的)初级辐射通过 将初级辐射和次级辐射组合得到白色的色彩印象。

有机电致发光层结构112通常能够具有一个或多个电致发光层。一 个或多个电致发光层能够具有有机聚合物、有机低聚物、有机单体、有 机的、非聚合物的小分子(“small molecules”)或这些材料的组合。有 机电致发光层结构112例如能够具有构成为空穴传输层120的一个或多 个电致发光层，使得例如在OLED的情况下能够实现将空穴有效地注 入到进行电致发光的层或进行电致发光的区域中。替选地，在不同的实 施例中，有机电致发光层结构112能够具有构成为电子传输层122的一 个或多个功能层，使得例如在OLED中能够实现将电子有效地注入到 进行电致发光的层或进行电致发光的区域中。例如能够使用叔胺、咔唑 衍生物、导电的聚苯胺或聚乙烯二氧噻吩作为用于空穴传输层120的材 料。在不同的实施例中，一个或多个电致发光层能够构成为进行电致发 光的层。

在不同的实施例中，空穴传输层120能够施加、例如沉积在第一电极 110上或上方，并且发射体层118能够施加、例如沉积在空穴传输层120 上或上方。在不同的实施例中，电子传输层122能够施加、例如沉积在发 射体层118上或上方。

在不同的实施例中，有机电致发光层结构112(即例如(多个)空穴 传输层120和(多个)发射体层118和(多个)电子传输层122的厚度的 总和)具有最大为大约1.5μm的层厚度、例如最大为大约1.2μm的层厚度、 例如最大为大约1μm的层厚度、例如最大为大约800nm的层厚度、例如 最大为大约500nm的层厚度、例如最大为大约400nm的层厚度、例如最 大为大约300nm的层厚度。在不同的实施例中，有机电致发光层结构112 例如能够具有多个直接彼此相叠设置的有机发光二极管(OLED)的堆， 其中每个OLED例如能够具有最大为大约1.5μm的层厚度、例如最大为大 约1.2μm的层厚度、例如最大为大约1μm的层厚度、例如最大为大约 800nm的层厚度、例如最大为大约500nm的层厚度、例如最大为大约 400nm的层厚度、例如最大为大约300nm的层厚度。在不同的实施例中， 有机电致发光层结构112例如能够具有两个、三个或四个直接彼此相叠设 置的OLED的堆，在此情况下，有机电致发光层结构112例如能够具有最 大为大约3μm的层厚度。

发光器件100可选地通常能够具有另外的有机功能层，所述另外 的有机功能层例如设置在一个或多个发射体层118上或其上方或设置在 (多个)电子传输层122上或其上方，其用于进一步改进发光器件100 的功能性进而改进效率。

在有机电致发光层结构112上或上方或者必要时在一个或多个另 外的有机功能层上或上方能够施加第二电极114(例如以第二电极层114 的形式)。

在不同的实施例中，第二电极114能够具有与第一电极110相同 的材料或者由其形成，其中在不同的实施例中金属是尤其适合的。

在不同的实施例中，第二电极114(例如对于金属的第二电极114 的情况而言)例如能够具有小于或等于大约50nm的层厚度、例如小于 或等于大约45nm的层厚度、例如小于或等于大约40nm的层厚度、例 如小于或等于大约35nm的层厚度、例如小于或等于大约30nm的层厚 度、例如小于或等于大约25nm的层厚度、例如小于或等于大约20nm 的层厚度、例如小于或等于大约15nm的层厚度、例如小于或等于大约 10nm的层厚度。

第二电极114通常能够以与第一电极110类似的或不同的方式构 成或者是这样构成的。第二电极114在不同的实施例中能够由一种或多 种材料并且以相应的层厚度构成或者是这样构成的，如在上文中结合第 一电极110所描述的那样。在不同的实施例中，第一电极110和第二电 极114这两者都透明地或半透明地构成。因此，在图1中示出的发光器 件100能够设计成顶部和底部发射器(换言之作为双向放射的发光器件 100)。

第二电极114能够构成为阳极、即构成为注入空穴的电极，或者 构成为阴极、即构成为注入电子的电极。

第二电极114能够具有第二电端子，由能量源提供的第二电势(所 述第二电势与第一电势不同)能够施加到所述第二电端子上。第二电势 例如能够具有一定数值，使得与第一电势的差具有在大约1.5V至大约 20V的范围内的数值、例如在大约2.5V至大约15V的范围内的数值、 例如在大约3V至大约12V的范围内的数值。

在第二电极114上或上方进而在电有源区域108上或上方可选地 还能够形成或形成有封装件116，例如阻挡薄层/薄层封装件116的形式 的封装件。

“阻挡薄层”或“阻挡薄膜”116在本申请的范围中例如能够理 解为下述层或层结构，所述层或层结构适合于形成相对于化学杂质或大 气物质、尤其相对于水(湿气)和氧气的阻挡。换言之，阻挡薄层116 构成为，使得其不能够或至多极其少部分由损坏OLED的物质例如水、 氧气或溶剂穿过。

根据一个设计方案，阻挡薄层116能够构成单独的层(换言之， 构成为单层)。根据一个替选的设计方案，阻挡薄层116能够具有多个 彼此相叠构成的子层。换言之，根据一个设计方案，阻挡薄层116能够 构成为层堆(Stack)。阻挡薄层116或阻挡薄层116的一个或多个子层 例如能够借助于适合的沉积方法来形成，例如根据一个设计方案借助于 原子层沉积方法(Atomic Layer Deposition(ALD))、例如等离子增 强的原子层沉积方法(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD))或无等离子的原子层沉积方法(Plasma-less Atomic Layer  Deposition(PLALD))来形成，或根据另一个设计方案借助于化学气 相沉积方法(Chemical Vapor Deposition(CVD))、例如等离子增强的 气相沉积方法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD))或无等离子的气相沉积方法(Plasma-less Chemical Vapor  Deposition(PLCVD))来形成，或者替选地借助于另外适合的沉积方 法来形成。

通过应用原子层沉积方法(ALD)能够沉积极其薄的层。特别地， 能够沉积层厚度位于原子层范围内的层。

根据一个设计方案，在具有多个子层的阻挡薄层116中，能够借助 于原子层沉积方法形成全部子层。仅具有ALD层的层序列也能够称作为 “纳米叠层(Nanolaminat)”。

根据一个替选的设计方案，在具有多个子层的阻挡薄层116中，能 够借助于不同于原子层沉积方法的沉积方法来沉积阻挡薄层116的一个或 多个子层，例如借助于气相沉积方法来沉积。

阻挡薄层116根据一个设计方案能够具有大约0.1nm(原子层)至 大约1000nm的层厚度，例如根据一个设计方案为大约10nm至大约100nm 的层厚度，例如根据一个设计方案为大约40nm的层厚度。

根据阻挡薄层116具有多个子层的设计方案，全部子层能够具有相 同的层厚度。根据另一个设计方案，阻挡薄层116的各个子层能够具有不 同的层厚度。换言之，至少一个子层能够具有不同于一个或多个其他子层 的层厚度。

根据一个设计方案，阻挡薄层116或阻挡薄层116的各个子层能够 构成为半透明的或透明的层。换言之，阻挡薄层116(或阻挡薄层116的 各个子层)能够由半透明的或透明的材料(或半透明的或透明的材料组合) 制成。

根据一个设计方案，阻挡薄层116或(在具有多个子层的层堆的 情况下)阻挡薄层116的一个或多个子层具有下述材料中的一种或由下 述材料中的一种制成：氧化铝、氧化锌、氧化锆、氧化钛、氧化铪、氧 化钽、氧化镧、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、铟锡氧化物、铟锌氧化物、 铝掺杂的氧化锌、以及它们的混合物和合金。在不同的实施例中，阻挡 薄层116或(在具有多个子层的层堆的情况下)阻挡薄层116的一个或 多个子层能够具有一种或多种高折射率的材料，换言之具有一种或多种 具有高折射率的材料，例如具有至少为2的折射率的材料。

在阻挡薄层116上或上方能够设有粘接剂和/或保护漆124，借助 于所述粘接剂和/或保护漆例如将覆盖件126(例如玻璃覆盖件126)固 定、例如粘贴在阻挡薄层116上。在不同的实施例中，由粘接剂和/或保 护漆124构成的光学半透明层能够具有大于1μm的层厚度，例如几μm 的层厚度。在不同的实施例中，粘接剂能够具有层压粘接剂或是层压粘 接剂。

在不同的实施例中，在粘接剂的层(也称作为粘接层)中还能够 嵌有散射光的颗粒，所述散射光的颗粒能够引起进一步改进色角畸变和 耦合输出效率。在不同的实施例中，例如能够将介电的散射颗粒设为散 射光的颗粒，例如金属氧化物，如氧化硅(SiO₂)、氧化锆(ZrO₂)、氧 化铝或氧化钛。其他颗粒也是适合的，只要其具有与半透明的层结构的 基体的有效折射率不同的折射率，例如为气泡、丙烯酸盐或玻璃空心球。 此外，例如能够将金属的纳米颗粒，金属、如金、银，铁纳米颗粒等设为 散射光的颗粒。

在不同的实施例中，在第二电极114和由粘接剂124和/或保护漆124 构成的层之间还施加或施加有电绝缘层(未示出)，例如为SiN，例如具有 在大约300nm至大约1.5μm的范围内的层厚度，例如具有在大约500nm 至大约1μm的范围内的层厚度，以便例如在湿法化学工艺期间保护电学不 稳定的材料。

在不同的实施例中，粘接剂能够设计成，使得其本身具有比覆盖 件126的折射率小的折射率。这种粘接剂例如能够是低折射率的粘接剂， 例如如丙烯酸盐，丙烯酸盐具有大约1.3的折射率。此外，能够设有形成 粘接剂层序列的多种不同的粘接剂。

还需要指出的是，在不同的实施例中也能够完全地弃用粘接剂124， 例如在将由玻璃制成的覆盖件126借助于等离子喷射施加到阻挡薄层116 上的实施例中。

在不同的实施例中，覆盖件126和/或粘接剂124能够具有为1.55 的折射率(例如在波长为633nm的情况下)。

此外，在不同的实施例中，能够在发光器件100中附加地设有一 个或多个抗反射层(例如与封装件116、如薄层封装件116组合)。

图2示出根据不同实施例的用于制造散射层106的方法的流程图 200。

所示出的是：制备载体202，施加散射中心前体204，干燥散射中 心前体206，施加玻璃层前体208，干燥玻璃前体210，从散射中心层和 玻璃层212中移除不易挥发的有机组成部分(脱胶(Entbindern))，液 化玻璃层前体214或者液化(玻璃化)玻璃粉末层214，固化玻璃216 和调整表面特性218，其中对表面特性的调整218能够是可选的。

制备202载体、例如折射率大约为1.5的钠钙玻璃例如能够具有 施加阻挡层104、例如SiO₂，清洁载体102的或阻挡层104的表面或调 整载体102的或阻挡层104的表面302上的表面粗糙度或者化学基团。

在制备202载体102之后，能够将散射中心前体304施加到载体 102的或阻挡层104的表面302上。施加散射中心前体204例如能够具 有将由散射中心306和易挥发的和不易挥发的有机组成部分构成的悬浮 物或膏状物施加到表面302上。

在不能够视作为限制性的设计方案中，由用氧化的散射颗粒306、 例如KRONOS 2056(TiO₂，d₅₀＝0.45μm)或CR10(Al₂O₃，d₅₀＝0.45 μm)构成的能丝网印刷的膏状物或悬浮物以及市售的丝网印刷介质(例 如乙酸乙酯中的硝化纤维或者乙二醇醚中的纤维素衍生物)构成具有例如 大约30μm湿层厚度的散射中心前体304或薄的丝网印刷层304。

在借助于易挥发的溶剂例如以悬浮物或膏状物施加散射中心前体 304之后，进行对散射中心前体304的干燥206。丝网印刷层304例如能够 在70℃下干燥三个小时。在干燥206期间移除丝网印刷层304的易挥发的 组成部分。然而，丝网印刷层304仍具有不易挥发的有机组成部分，例如 粘合剂，所述粘合剂将散射颗粒彼此连接以及与载体连接，并且由此给予 层用于后面的工艺步骤的一定的机械强度。

在干燥206丝网印刷层304之后，例如能够借助丝网印刷或者模板 印刷施加玻璃层前体310，例如借助能够具有由硼酸铅玻璃颗粒或者硼硅 酸铅玻璃颗粒构成的粉末的玻璃粉末悬浮物或玻璃粉末膏状物来施加。玻 璃粉末悬浮物或玻璃粉末膏状物同样包含市售的丝网印刷介质(例如乙酸 乙酯中的硝化纤维或者乙二醇醚中的纤维素衍生物)。玻璃粉末印刷层310 例如能够具有大约30μm的湿层厚度。硼酸铅玻璃颗粒或者硼硅酸铅玻璃 颗粒例如能够具有在大约1.7至大约1.9的范围内的折射率。硼酸铅玻璃颗 粒或者硼硅酸铅玻璃颗粒例如能够具有D90<12μm和D50<3μm的粒度 分布。硼酸铅玻璃颗粒或者硼硅酸铅玻璃颗粒的热膨胀系数例如对于大约 50℃至大约400℃的温度范围能够为大约7.5·10^-61/K，并且具有钠钙玻璃 的载体的热膨胀系数例如大约为8.5-9·10^-61/K。

玻璃层前体310的厚度能够为，使得玻璃层前体310中的玻璃312 的总体积大于散射中心306和易挥发的和不易挥发的有机物质、例如粘合 剂、溶剂的体积之间的自由体积，换言之，大于散射中心前体304中的散 射中心306之间的中间空间308的总共可占据的体积。

在施加208玻璃层前体310之后，该方法能够具有干燥210玻璃 层前体310，例如在70℃下干燥三个小时，以便移除易挥发的组成部分。

在干燥210玻璃层前体310之后，干燥的丝网印刷层304和干燥的 玻璃层前体310中的不易挥发的有机组成部分能够借助于移除不易挥发的 有机组成部分212以热学的方式移除，例如借助于热解。丝网印刷介质应 当选择成，在玻璃粉末软化之前，结束脱胶。因为所应用的硼硅酸铅玻璃 能够自大约500℃起开始软化，所以上述这两种粘合剂溶剂体系良好地适 合于所述玻璃，因为其根据体系在大约200℃至大约400℃之间已经能够烧 尽。

移除散射中心前体304和玻璃层前体310中的不易挥发的有机组成 部分212能够构成散射中心前体304和玻璃层前体310中的自由体积308。

在移除不易挥发的有机组成部分212之后，能够进行液化214玻璃 层前体310。

在将上述硼硅酸铅玻璃焊料作为玻璃粉末层310的情况下，玻璃化 能够在大约500℃之上的温度下进行。在将钠钙玻璃在上冷却温度大约为 550℃的情况下作为载体102的实例中，根据加热方法，温度上限能够具有 大约600℃的数值，以便将载体的变形保持得小或者避免载体的变形。在 玻璃化时，玻璃层前体310或玻璃颗粒312的粘性降低。由此，玻璃层前 体310或玻璃颗粒312能够占据干燥的丝网印刷层304的散射中心306之 间的自由体积308。该工艺也称作为玻璃化。如果玻璃化在载体102的或 载体玻璃102的转变温度之下进行，那么在所述载体或载体玻璃中没有形 成热应力。这两个联接配对物、即载体102和玻璃焊料312的热膨胀系数 的差别不应过大，以便避免载体312和散射层106之间的强的联接应力进 而确保持久的连接。因为散射层106能够类似于阻挡层作用，所以能够弃 用阻挡薄层104，例如当玻璃基体312是无碱时弃用阻挡薄层104。

借助于玻璃化，关于散射中心前体304的或丝网印刷层304的厚度 和玻璃层前体310的层厚度的厚度能够减小，例如减小到大约10μm的厚 度。借助于该设计方案，能够显著地提高光耦合输出。不能够由液化的玻 璃占据的自由体积308、所谓的腔410除了散射中心306之外能够在玻璃 基体408或玻璃层408中构成另外的散射中心410。

在液化玻璃层前体214并且液态的玻璃流入到散射中心306之间 的空间308中之后，能够进行固化216玻璃408，例如借助于冷却、例 如被动地冷却。借助于固化216玻璃408能够构成散射层106。

在固化216散射层106之后，能够对散射层106的表面特性进行 调整216，例如抛光、即平滑散射层106的表面502，例如借助于短暂 的局部的温度升高、例如借助于定向的等离子、例如作为火抛光或者也 作为激光抛光。

在又一个设计方案中，能够将硼酸铅玻璃颗粒或者硼硅酸铅玻璃颗 粒用于玻璃层前体310，所述硼酸铅玻璃颗粒或者硼硅酸铅玻璃颗粒例如 能够具有D90<15μm和D50<6μm的粒度分布。硼酸铅玻璃颗粒或者硼 硅酸铅玻璃颗粒能够具有例如大约为12.5·10^-61/K的热膨胀系数。在应用 所述玻璃的情况下，能够在低于大约500℃的温度下构成玻璃化，因为所 述玻璃的软化能够在大约360℃时开始。

在另一个设计方案中，也能够将无铅的玻璃颗粒用于玻璃层前体 310，所述无铅的玻璃颗粒例如能够具有在大约1.7和大约2.1之间的折射 率。所述无铅的玻璃颗粒例如能够是硼酸铋玻璃颗粒或者硼硅酸铋玻璃颗 粒，具有大约1μm的粒度分布D50并且对于大约50℃至大约350℃的温 度范围具有大约8.5·10^-61/K的热膨胀系数。替选地，也能够选择硼酸锌铋 玻璃颗粒或者硼硅酸铋锌玻璃颗粒，具有大约7μm的粒度分布D50并且 对于大约50℃至大约300℃的温度范围具有大约10·10^-61/K的热膨胀系 数。

图3示出根据不同实施例的用于制造散射层200的方法中的散射层 106的示意横截面图，这在移除载体102的或阻挡层104的表面302上的 具有玻璃颗粒312的玻璃层前体310的和具有散射中心306的散射中心前 体304的不易挥发的有机组成部分212之后示出的。借助于移除散射中心 前体306的和玻璃层前体310的不易挥发的有机组成部分，能够在散射中 心306之间和玻璃颗粒312之间构成自由体积308。前体层304、310在此 描述散射中心306的和玻璃颗粒312的具有或不具有易挥发的和/或不易挥 发的有机组成部分的所施加的层。

图4示出根据不同实施例的用于制造散射层200的方法中的散射层 106的示意横截面图，这是在玻璃312液化212并且流入到散射中心306 之间的自由体积308中之后示出的。

散射层106的所示出的层横截面例如对应于固化216液化的玻璃颗 粒308和构成玻璃层408或玻璃基体408之后的层横截面。玻璃408能够 具有空出的表面402并且与载体102或阻挡层104共有共同的边界面404。 此外，玻璃层408能够与散射中心306共有一个共同的边界面406或多个 共同的边界面406。

除散射中心306之外，能够在玻璃基体408中构成腔410，例如借 助于液态玻璃不可进入的自由的体积308构成。

在不同的实施方式中提供方法，借助该方法可行的是，借助唯一的 退火步骤制造具有可调整的散射横截面和平滑的表面的散射层。尤其地， 由没有PbO的高折射率的玻璃构成的无定形的散射层能够借助所提供的 方法制造进而有助于实现光电子器件中的规定2002/95/EG。所述方法极其 好地适合于具有无铅的玻璃的散射层。与由散射颗粒和玻璃颗粒组成的均 匀的混合物构成的散射层相比，所述方法允许更大的工艺窗口，以便能够 以无定形的方式凝固高折射率的玻璃基体。